方案摘要
方案下载应用领域 | 电子/电气 |
检测样本 | 其他 |
检测项目 | |
参考标准 | 制备工艺 |
氧化铌薄膜由于物理和化学性质被广泛地用于光学干涉滤波器、电化色薄膜和气体传感器中。它光学波导损耗小,对紫外有较强的吸收,可作紫外敏感材料的保护膜,是一种具有优异光学性能的材料。它也是性能优良的电致变色材料,它的电致变色性能可与获得广泛研究的WO3的性能相媲美,而且氧化铌与氧化镍也能组成性能匹配的互补性电致变色玻璃。
氧化铌薄膜由于物理和化学性质被广泛地用于光学干涉滤波器、电化色薄膜和气体传感器中。它光学波导损耗小,对紫外有较强的吸收,可作紫外敏感材料的保护膜,是一种具有优异光学性能的材料。它也是性能优良的电致变色材料,它的电致变色性能可与获得广泛研究的WO3的性能相媲美,而且氧化铌与氧化镍也能组成性能匹配的互补性电致变色玻璃。
氧化铌薄膜高折射率、大光学带隙、高化学稳定性和抗腐蚀性等性能使得其被广泛的运用于生产生活中。
一、实验试剂
五氧化二铌 碳酸钾 盐酸 四丁基氢氧化铵
聚乙烯亚胺 液氮 丙酮 去离子水
二、实验仪器
电子天平
电热恒温鼓风干燥箱
电阻炉温度控制器
磁力加热搅拌器
台式高速离心机
超声波清洗器
三、薄膜的制备
基片在洗浩精、丙酮和去离子水中依次超声清洗;以氮气吹干备用。将处理好的基片浸入带正电荷的聚乙烯亚胺溶液中,浸泡10min取出,用去离子水冲洗氮气吹干;接着浸入氧化铌纳米片溶胶中,浸泡10min取出,用去离子水冲洗氮气吹干,重复以上过程,一层PEI和一层氧化铌纳米片合在一起称为一双层。按此法制备5-100层的光学薄膜。
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