型号: | eH Linear |
产地: | 美国 |
品牌: | 考夫曼 |
评分: |
|
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数
型号 | eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
供电 | DC magnetic confinement |
- 电压 | 40-200V VDC |
- 阳极结构 | 模块化 |
电源控制 | eHL-30010A |
配置 | - |
- 阴极中和器 | Filamentless |
- 离子束发散角度 | > 45° (hwhm) |
- 阳极 | 标准或 Grooved |
- 底座 | 移动或快接法兰 |
- 高度 | 10 cm |
宽度 | 10 cm |
- 长度 | ~ 100cm |
-工艺气体 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
Model | eHL 200-3 | eHL 200-5 |
Height (nominal) | 2.9” (7.4cm) | 2.9” (7.4cm) |
Width (nominal) | 3.3” (8.4cm) | 3.3” (8.4cm) |
Length (nominal) | Determined by number of modules & application | Determined by number of modules & application |
Cathode/Neutralizer | Yes | Yes |
Anode module | Yes | Yes |
Filamentless | Yes | Yes |
Orientation | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal |
Process gases | Inert, reactive, & organic | Inert, reactive, & organic |
Power controller | eH Plasma Power Pack | eH Plasma Power Pack |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶女士
T: +86-21-5046-3511 ext 107
F: +86-21-5046-1490
M: +86 1391-883-7267
上海伯东版权所有, 翻拷必究!
相关产品
inTEST 热流仪 5G 通讯模块高低温冲击测试
聚丙烯 PP膜等离子表面亲水改性设备
气体和液体过滤介质用低压等离子表面处理设备
微控制器 MCU 芯片高低温测试机,美国 inTEST 热流仪
美国 inTEST 汽车芯片用高低温测试机,热流仪
功率器件高低温冲击测试机,美国 inTEST 热流仪
PMMA 亚克力板等离子表面活化机
IBF 离子束抛光工艺用考夫曼离子源
IBAD 辅助镀膜用考夫曼离子源
LED-DBR 辅助镀膜用离子源
上海伯东美国 KRi 大面积射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 eH 3000
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 ,霍尔源eH 2000
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000
KRI 霍尔离子源, 霍尔源,eH 400
关注
拨打电话
留言咨询