美国半导体工业纯水指标

2006-11-20 14:25  下载量:335

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残渣,mg/L 0.1 0.3 0.3 0.5 TOC,mg/L 0.02 0.05 0.10 0.40 颗粒,粒/L 500 1000 2500 5000 细菌数,个100mL 0 6 10 50 活性硅SiO2,μg/L 3 5 10 40 电阻率MΩ•cm 18.3 17.9 17.5 17.0 阳离子,μg/L 0.2 2.0 5.0 * 铝 Al3+ 0.2 2.0 5.0 * 铵 NH4+ 0.3 0.3 0.5 * 铬 Cr6+ 0.02 0.1 0.5 *

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