方案摘要
方案下载应用领域 | 材料 |
检测样本 | 纳米材料 |
检测项目 | |
参考标准 | / |
低场核磁弛豫技术以水分子(溶剂)为探针,可以实时检测悬浮液体系中水分子的状态变化。 低场核磁弛豫技术可以区分出纳米颗粒与溶剂的固液界面间那一层薄薄的表面溶剂分子,当颗粒尺寸或颗粒分散性发生变化时,颗粒表面的溶剂分子也会发生相应的变化。低场核磁弛豫技术可以灵敏的检测到这这种变化状态和变化过程,从而可以快速地评价例如抛光液以及相关悬浮液样品的分散性和悬浮液中颗粒尺寸的变化过程。
应用领域:材料
检测项目:CMP抛光液的原位分散性检测
仪器推荐:低场核磁弛豫分析仪
CMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing,即化学机械抛光。该技术是半导体晶圆制造的必备流程之一,对高精度、高性能晶圆制造至关重要。抛光液的主要成分包括研磨颗粒、PH值调节剂、氧化剂、分散剂等。从成分中我们就大概知道了抛光液是一种对分散要求很高的纳米材料悬浮液,所以研磨过程中对颗粒的尺寸变化以及颗粒在悬浮液中的分散性都有着极其严苛的要求。
低场核磁弛豫技术用于悬浮液中颗粒尺寸变化和颗粒分散性检测
低场核磁弛豫技术以水分子(溶剂)为探针,可以实时检测悬浮液体系中水分子的状态变化。
低场核磁弛豫技术可以区分出纳米颗粒与溶剂的固液界面间那一层薄薄的表面溶剂分子,当颗粒尺寸或颗粒分散性发生变化时,颗粒表面的溶剂分子也会发生相应的变化。低场核磁弛豫技术可以灵敏的检测到这这种变化状态和变化过程,从而可以快速地评价例如抛光液以及相关悬浮液样品的分散性和悬浮液中颗粒尺寸的变化过程。
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