VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
技术参数
输入电源 | 220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵)
|
等离子源 | 一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内 (点击图片查看详细资料) |
磁控溅射头 | |
真空腔体 | 真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高纯石英制作 密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封 一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体 真空度:10-3 Torr (采用双极旋片真空泵) 10-5 torr (采涡旋分子泵)
|
载样台 | |
真空泵 | 我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售
|
薄膜测厚仪 | |
外形尺寸 | |
质保和质量认证 | |
使用注意事项 | 这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度 为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
|
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF信息由合肥科晶材料技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF报价、型号、参数等信息, 欢迎来电或留言咨询。除供应300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF外,合肥科晶材料技术有限公司还可为您提供其他等产品, 公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴。