化学气相沉积（CVD）中用氢还原反应产品配置清单检测仪器_检测方案

方案摘要

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应用领域	石油/化工
检测样本	其他
检测项目
参考标准	高纯氢气标准

化学气相沉积法是近年发展起来的制备无机材料的新技术。此方法是利用气态或蒸汽状态的物质在固体表面上进行化学反应，其中，用氢气还原卤化物来制备各种金属或多晶硅薄膜是最为常用的化学反应，从而形成所需要的固态薄膜或涂层。Peak氢气发生器可提供高纯度的氢气，安全、可靠，是化学气相沉积应用优质的氢气气源。

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配置单

GC用氢气发生器Precision H2 Trace 1200
型号：Precision Hydrogen Trace 1200

¥10万 - 30万
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方案详情

化学气相沉积法CVD（Chemical Vapor Deposition）是近年发展起来的制备无机材料的新技术。此方法是利用气态或蒸汽状态的物质在固体表面上进行化学反应，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。其中，用氢气还原卤化物来制备各种金属或多晶硅薄膜是最为常用的化学反应，此还原反应的方法应用范围广泛，可制备单晶、多晶以及非晶薄膜，另外也容易掺杂。

作为反应中必不可少的还原气体，氢气在CVD反应中扮演着极其重要的作用。通常实验室如今还在使用传统的氢气钢瓶作为氢气气源，但是氢气钢瓶不仅搬运、使用不便，而且氢气是易燃易爆气体，存在极大的安全隐患。因此，氢气发生器便成为了代替氢气钢瓶的选择。如今，Peak氢气发生器已广泛应用于CVD实验，是化学气相沉积应用的优质的氢气气源。

应用优势：

1.高纯度

作为反应中必不可少的还原气体，高纯度氢气在CVD反应中扮演着极其重要的作用。

氢气中微量氧或水蒸气等杂质会对沉积过程产生很大影响，当有氧存在时，沉积物的晶粒剧烈生长，并伴有分层现象出现。

Peak氢气发生器采用三重过滤技术，所产氢气纯度＞99.9999%，氧气含量< 1ppm，水含量< 1ppm，过滤技术及氢气纯度都走在市场前列。