无掩模数字光刻机 MCML-110A_价格_筱晓（上海）光子技术有限公司

产品详情

产品特点

采用数字微镜 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机，365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻，易于使用

晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟

500um最小线宽

可灰度曝光（128阶）

尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间

通用参数

应用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工

带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作

教学、科研

参数

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波长	365nm	365nm
Max. frame 最大帧	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 最大曝光量	500mJ/cm2	2000mJ/cm2
Alignment accuracy 对准精度	<200nm	<100nm
field curvature 场曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm2 /sec	2.5mm2 /sec
Input file 输入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z级精度	<1 um	<1 um
Environment 环境	20~25℃	20~25℃

样品

无掩模数字光刻机 MCML-110A信息由筱晓（上海）光子技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于无掩模数字光刻机 MCML-110A报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。除供应无掩模数字光刻机 MCML-110A外，筱晓（上海）光子技术有限公司还可为您提供其他等产品，公司有专业的客户服务团队，是您值得信赖的合作伙伴。

供货周期：	现货
品牌：	LIGHTSMYTH
货号：