反射光谱法计算薄膜厚度

2018/05/28   下载量： 7 次

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应用领域 半导体
检测样本 其他
检测项目
参考标准 薄膜、厚度、反射率、光刻胶、硅片、VeeMAX、镜面反射附件

薄膜的反射扫描会生成干涉条纹。各波长范围内的条 纹数量取决于反射角、薄膜厚度和薄膜折射率。如折 射率已知，则在一个折射角采集的数据足以计算薄膜 厚度；如折射率未知，在两个折射角所采集的数据可 用于计算折射率和薄膜厚度。所有计算均在电子数据 表格中自动完成，以便技术人员操作。采用分光光度 计得到的结果与折光仪测得的结果良好吻合。 半导体制造行业常要求在硅片表面沉积光阻材料。旋 涂或气相沉积的膜厚精度对于光子器件（包括光刻 胶、导电聚合物膜、导电氧化物薄膜和太阳能电池） 的研究员和制造商至关重要。薄膜性能和成本在很大 程度上取决于薄膜厚度，因此频繁测量对生产开发和 质控至关重要。Thermo Scienti?c 紫外-可见分光光度 计附件提供轻松快速的无损检测方法进行这些测量。 采用 Thermo Scienti?c Evolution® 300 紫外-可见分光 光度计搭配VeeMAX紫外可见可变角镜面反射附件进 行实验。

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简介，背景，实验方法都在表格里，具体详细内容可以看表格。

简介

薄膜的反射扫描会生成干涉条纹。各波长范围内的条 纹数量取决于反射角、薄膜厚度和薄膜折射率。如折 射率已知，则在一个折射角采集的数据足以计算薄膜 厚度；如折射率未知，在两个折射角所采集的数据可 用于计算折射率和薄膜厚度。所有计算均在电子数据 表格中自动完成，以便技术人员操作。采用分光光度 计得到的结果与折光仪测得的结果良好吻合。

背景 

半导体制造行业常要求在硅片表面沉积光阻材料。旋 涂或气相沉积的膜厚精度对于光子器件（包括光刻 胶、导电聚合物膜、导电氧化物薄膜和太阳能电池） 的研究员和制造商至关重要。薄膜性能和成本在很大 程度上取决于薄膜厚度，因此频繁测量对生产开发和 质控至关重要。Thermo Scientific 紫外-可见分光光度

计附件提供轻松快速的无损检测方法进行这些测量。


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百道亨仪器设备（北京）有限公司
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