型号: | SIGMA300/500 |
产地: | 德国 |
品牌: | 蔡司 |
评分: |
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蔡司公司最新推出的Sigma 500/VP场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,分辨率超过0.8nm,为您提供最高分辨率和最佳分析性能科研平台。Sigma500/VP专注于一流的EDS几何学设计使您可以获取精湛的分析性能。借助Sigma直观便捷的四步工作流程可以快速成像、简化分析程序、提高工作效率。您会比以往更快、更多的获取数据。多种探测器的选择使Sigma500/VP可以精准的匹配您的应用程序:您可以获取微小粒子、表面、纳米结构、薄膜、涂层和多层的图像信息。
【技术参数】
分辨率: 0.8nm @15 kV 1.6 nm @1kV
放大倍数:10-1,000,000×
加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)
探针电流: 4pA-20nA (40nA&100nA可选)
低真空范围:2-133Pa(Sigma 500VP可用)
样品室: 358 mm(φ),270.5 mm(h)
样品台:5轴优中心全自动
X=125 mm(可选130mm)
Y=125 mm(可选130mm)
Z=50 mm
T=-10o-90o
R=360o 连续
系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制
【产品应用】
扫描电镜广泛用于材料科学(金属材料、非金属材料、纳米材料)、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害(火灾、失效分析)鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域,进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体/晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。
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