近日,ASD与半导体电子气巨头林德气体(Linde Gas)签署了合作协议,为其提供数十套智能气体校准系统(GCS),用于三星电子(Samsung)在美国Texas的新型半导体FAB工厂,旨在构建世界上最先进的超痕量气体校准系统。
智能气体校准系统(GCS)
2020年之前,市场上并没有产品在ppb水平上校准N2、H2O和O2等分子,因为要实现这一点,稀释系统必须在泄漏完整性,保持样品完整性,准确产生高稀释比样品(低至ppb)等方面都需要超高的标准和要求。为了满足行业需求,ASD随即研发出智能气体校准系统,完全满足永久性气体和其他分子(如硫化物和H2O)超痕量ppb级校准要求。
产品自推出以来,欢迎程度成疯狂增长。现已被全球各种研究院、计量机构以及工业客户使用,迅速成为H2样品中检测低ppb硫化物的首选解决方案,同时还特别适用用于校准燃料电池级的H2分析系统,进而推广至校准半导体电子气行业中的各种痕量气体分析系统,包括台积电(TSMC)。
ASD独特的产品特性使其成为林德气体的供应商,产品用于校准三星电子在美国Texas的新型半导体FAB中使用的所有分析仪器。可校准多个CQC(连续质量控制)系统,有助于确保所有仪器在现场准确校准,且校准值接近预期工艺浓度(ppb及以下),而不是1ppm及以上。
ASD总裁AndréLamontagne表示:“我为我们的团队以及大家共同完成这一成就而感到骄傲。我们开发这种气体校准系统的初衷,是因为市场上的设备在精度和通用兼容性方面都达不到行业标准。在这方面,我们比任何客户都要求得更高,因为我们需要在几个ppb下校准N2,这意味着泄漏完整性和样品完整性非常重要。在半导体行业,我们希望客户在10到20 ppb范围内校准我们的气相色谱仪,包括N2等分子。”
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