哈瑞克光学仪器组件CHC-CHA-4_价格_皕赫科学仪器（上海）有限公司

产品详情

漫反射光谱是检测粗糙材料表面变化的一种非常敏感的方法。它对于具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于异质催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。此低温反应室非常适合在精心变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的受控温度和压力下进行漫反射测量,并与 FT-IR 和 UV-Vis 漫反射光谱的祈祷万只龙头附件结合使用。

特征

设计用于从高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa (1 ktorr) 和 -150°C 至 600°C(真空下)的低温。
提供三个入口/出口口,用于疏散电池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。

包括

反应室
低压加热盒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(FTIR 配置)
带两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的圆顶(UV-Vis-NIR 配置)

MODEL NO.	NAME
CHC-CHA-4	Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (FTIR)
CHC-VUV-4	Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (UV-Vis-NIR)

美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室

美国Harrick Praying Mantis反应室主要应用：在压力和温度控制范围内，允许漫反射测试，必须配套Praying Mantis漫反射附件

美国Harrick Praying Mantis反应室两种模式可选：

1、高温反应室(HVC)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度可高达910℃ (在真空条件下)。可选配高压穹顶加压至3.44MPa(25.8 ktorr)。

2、低温反应室(CHC-CHA)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度从-150℃至600℃ (在真空条件下)。

美国Harrick Praying Mantis反应室主要特点：

左右两个进/出气口，中间一个抽真空口

316不锈钢耐化学腐蚀

低压加热筒

K型热电偶

穹顶含有两个透红外光窗片和一个石英观察窗片

CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室 HVC高温反应室低温反应室高温反应室

HARRICK 漫反射低温反应室 CHC-CHA-4信息由皕赫科学仪器（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于HARRICK 漫反射低温反应室 CHC-CHA-4报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。除供应HARRICK 漫反射低温反应室 CHC-CHA-4外，皕赫科学仪器（上海）有限公司还可为您提供HARRICK 漫反射附件 PRAYING MANTIS 、Harrick 高温反应室 HVC等产品，公司有专业的客户服务团队，是您值得信赖的合作伙伴。

型号：	CHC-CHA-4
产地：	美国
品牌：	哈瑞克
评分：