型号: | EPMA-8050G |
产地: | 日本 |
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概述
“The Grand EPMA” 诞生 搭载最尖端场发射电子光学系统 从SEM观察条件到1μA量级,在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪,将分析性能发挥至极致。 当之无愧的“The Grand EPMA” ,最高水准的EPMA诞生! |
超高分辨率面分析 对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像(左侧)上直径只有50nm左右的Sn颗粒,在X射线图像(右侧)上也是清晰可见。 | |
最尖端技术实现 ■ 无与伦比卓越的空间分辨率 | ■ 大束流超高灵敏度分析 |
超高灵敏度面分析 使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。精确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相(左侧),同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前(右侧)。 | |
1 高亮度肖特基发射体 2 EPMA专用电子光学系统 3 超高真空排气系统 4 高灵敏度X射线谱仪 |
使用分析条件束流,引以为傲No.1的二次电子图像分辨率。(加速电压10kV时,20nm@10nA//50nm@100nA/150nm@1μA)。与原来的电子枪(CeB6、钨灯丝)的结果相比,一目了然。
由于可用更大的束流得到与原来电子枪相同分辨率的图像,所以可进行超高灵敏度的X射线分析。 更加值得注意的是,束流为1μA时的SEM图像。能够得到1μA以上束流,而且可以压缩到如此细的只有EPMA-8050G。
各种电子枪产生电子束的特性比较(加速电压10kV)
场发射类型的SEM、EPMA可实现其他仪器所不能达到的大束流(加速电压30kV时最大3μA)。在超微量元素的检测灵敏度上实现了质的飞跃,将元素面分析时超微量元素成分分布的可视化成为现实。而且,所有束流范围内不需要更换物镜光阑,完全不用担心合轴,实现了高度自动化分析。
面的3个图像为不同束流下,对不锈钢中约1%左右Si进行面分析的结果※。束流越大,偏差越小,越能更加清楚的确认包含Si的范围。
※ 分析条件:加速电压10kV,积分时间50msec。分析花费时间约1小时。
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