资料摘要
资料下载双氧水根据浓度及应用领域不同可分为电子级、食品级、工业级等。电子级双氧水是生产电子集成电路不可或缺的化学试剂,在半导体制程前端硅片清洗和剥离蚀刻完成后的光刻胶。主要用于半导体硅晶片清洗剂,蚀刻剂和光刻胶去除剂,还可用于高级绝缘层制取,电镀液无机杂质去除,电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理,以及太阳能硅晶片的蚀刻和清洗。从行业产量来看,2021年我国高纯电子级双氧水产量9.44万吨,同比增长32.0%。
ASTM F658-87乳胶球校准方法(PSL乳胶球体)
简介:ASTM F658-87乳胶球校准方法(PSL乳胶球体)
研磨液液体颗粒计数器资料
简介:商用集成电路的制造关键取决于通过化学机械平坦化(CMP)将硅晶片表面抛光至接近原子平坦度的磨料浆料颗粒的物理和化学性质。磨料浆料(Slurry)中含有相对较少>1.0μm的颗粒(如二氧化硅、氧化铝),这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤。因此,磨料浆料(Slurry)颗粒的大颗粒计数(LPC) 是CMP艺中的关键因素。
GB/T 11133-2015石油产品、润滑油和添加剂中水含量的测定卡尔费休库仑滴定法
简介:GB/T 11133-2015石油产品、润滑油和添加剂中水含量的测定卡尔费休库仑滴定法
ASTM D1744-卡尔费休法测定石油产品中的水分
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JJG066-2006马歇尔稳定度试验仪
简介:JJG066-2006马歇尔稳定度试验仪
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