用于XPS深度剖析的MAGCIS复合型离子源

 XPS是极其表面敏感的技术手段，而我们所要研究的很多“表面”问题并不都是在样品表面10nm以内。如触摸屏表面涂层、低辐射玻璃表面镀膜以及太阳能电池、OLED等层状器件材料的研究，我们不仅仅要了解材料表面微米尺度的元素分布信息，还要关心层结构之间的界面性质。这时我们就需要结合离子束溅射剖析手段，将XPS测试手段从表面分析拓展到体内微米尺度。材料科学的发展要求我们在XPS深度剖析时使用一个性能优越的溅射离子源，以实现无机材料的高效剖析以及有机材料的无损溅射。

在本次报告中，我们将和大家一起交流和分享赛默飞世尔科技有限公司的MAGCIS复合离子源的基本工作原理和实际应用案例。主要包括：高效XPS深度剖析在有机半导体器件、共混聚合物材料等领域的应用。