半导体实验过程中对器皿洁净度的要求是很高的，器皿的清洗是否标准化、过程是否可重复、清洗效果是否可验证，决定着实验的成败。人工清洗效率低下、成本高、泡酸缸对清洗人员有较大职业病危害等问题不容忽视。随着科技发展我们更迫切需要一种全新的更安全、更便捷、更洁净的清洗工艺技术，为实验室实现大通量全自动化清洗、降低成本、保护操作人员健康、助力半导体的生产工作提供有力保障。