高纯材料（99.999%以上纯度）中的杂质分析，基体元素的含量往往大于杂质元素的100万倍，一旦基体元素与试剂、工作气体中的某种组分形成的多原子离子与待测杂质的测定同位素离子质量数相同，将对测定同位素离子形成几万倍或几十万倍的干扰，这种程度的干扰是无法通过数学校正和碰撞（KED）动能歧视校正技术消除，只能采用化学分离（萃取、共沉淀等）或化学分辨（DRC）技术进行处理，本报告将对各种基体的Ar分子离子、氮化物离子、卤化物离子、氧化物离子、氢氧化物离子、氢化物离子产生的干扰进行讨论，重点介绍用DRC化学分辨技术消除这些干扰的技术要点及对ICP-MS仪器的硬件要求！