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深度剖析技术在纳米多层膜定量表征中的应用

随着高科技的发展，纳米多层膜愈来愈多的应用于航天、通信、光电、能源等领域。溅射深度剖析作为表面分析的常规技术，已被广泛应用于对纳米层结构中元素成分随深度变化的表征，而对其测量数据的定量分析不仅可以准确地确定其膜层结构，还可以获得界面粗糙度、互扩散系数、元素的溅射速率及溅射深度分辨率等定量信息。报告给出了通过MRI（混合-粗糙度-信息深度）模型对以下测量深度谱定量分析的实例:(1)多元素60×Mo(3nm)/B4C(0.3nm)/Si(3.7nm)与硫脲单分子层的GDOES深度谱;(2)10×Si0.4Ge0.6(7nm)/Ge(11nm)量子阱与30×GaAs(8nm)/AlAs(10nm)超晶格结构的SIMS/AES深度谱;(3)10×Si(15nm)/Al(15nm)非晶与多晶纳米多层膜的SIMS/AES/XPS深度谱;(4)8×Ni(25nm)/Cr(25nm)多晶纳米多层膜的AES深度谱;(5)柔性节能功能膜的SIMS/GDOES深度谱。

352 2021-09-07

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