原子力显微镜在薄膜生长方面的研究进展以及发展趋势--仪器信息网3i讲堂

原子力显微镜在薄膜生长方面的研究进展以及发展趋势

近几年，由于化合物半导体行业的飞速发展，高质量薄膜沉积和外延生长越来越受到关注。PVD、CVD技术是制备高质量薄膜的技术之一。如何评价高质量薄膜对优化工艺非常关键。原子力显微镜（AFM）是评价薄膜质量不可或缺的技术手段。在本次讲座中，主要用AFM评价薄膜质量，材料涉及衬底、2D材料、半导体材料，量子点等，评价涉及薄膜生长机制、表面不均匀性、缺陷类型、薄膜粗糙度、力学性质、电学性质等，从而实现对薄膜质量的全面评估。