原子层沉积技术发展及应用--仪器信息网3i讲堂

原子层沉积技术发展及应用

随着微电子行业的发展，集成度不断提高、器件尺寸持续缩小，使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战。原子层沉积（ALD)技术作为一种优异的薄膜趁机技术，因其沉积的薄膜纯度高、均匀性及保型性好，能精确控制薄膜的厚度与成分，广泛应用于半导体、光学、光电子、太阳能等诸多领域。报告主要介绍原子层沉积技术的原理、应用及成果介绍，最后对ALD装备的创新发展进行了介绍及展望。