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射频卡

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射频卡相关的仪器

  • 改变人工抄表传统方式具有预付费、远程抄表、断电关阀、阀门自洁等功能采用B/S架构设计,管理人员可在任何可连接互联网的终端设备上进行操作,并不受终端OS平台限制。可对用户水表进行客户建档、充值销售、报表打印等操作具有预付费功能:先买水、后用水、水表中的水量用完后,阀门自动关闭,用户需要到管理部门通过射频卡购水或通过联网购水后才能开阀用水,并且两种方式可同时使用 联网功能:物业管理部门可通过485通讯网络实现给用户充值、抄取表中信息。远程强制开关阀等功能,监控各个用户的用水信息,管理人员足不出户便可为用户充值供水 集中刷卡和显示功能:可单独配备与水表分离的外置刷卡器,通过485线可将多块水表(建议50块以下)连接到一个外置刷卡器上,不同的用户可共用一个刷卡器进行刷卡以将卡内所充数值转储到水表中。GPRS无线远传控制功能﹔物业管理部门可通过GPRSDTU无线数据传输终端给用户进行充值供水、开阀、关阀等操作。采用独特的物理密封设计,密封效果佳。电池仓门设计在水表正面,更换电池极其方便。水表整机功耗低,电池使用寿命可达6年以上。电池电压监控功能:当内置电池电压降至临界电压时,液晶显示器会显示报警,并且水表自动关阀,防止因电池电压低而不能有效关阀。更换新的电池后,刷用户卡后水表会自动开阀供水。
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  • 射频离子源 400-860-5168转0727
    价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产 右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109
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  • 一、产品简介 激光与原子分子相互作用中,射频(微波)被广泛的使用于超精细能级激发、激光移频、激光锁定、AOM驱动等。这类实验除对微波位相噪声和振幅噪声有极高要求外,还要求微波有程控或触发控制通断、程控或外加信号控制调制以及PID反馈控制等功能。MOGLabs为科学家提供量身定做的敏捷型射频合成器ARF/XRF、四通道射频合成器QRF、AOM驱动器AAD,集成上述功能于一体,并集成功率输出可直接驱动AOM,满足多方面的射频源需求。二、型号参考型号ARF/XRFQRFAAD通道数目241(AADPCB)2(AAD420)最高输出功率+36dBm(421)+16dBm(021)+36dBm(241)+10dBm(041)+36dBm射频源DDS(AD9910)DDS(AD9959)内置可变振荡器或外置震荡源频率范围20 - 400MHz10 - 200MHz70 - 210MHz(内)70 - 350MHz(外)内置参考源20MHz TCXO25MHz TCXONo计算机可控制Ethernet,USBEthernet,USBNo频率控制32-bit(0.23Hz步距)32-bit(0.12Hz步距)10圈电位器振幅控制12-bit10-bit单圈电位器位相控制16-bit14-bit无TTL开关时间40ns40ns 主调制AM/FM/PM,10MHzAM/FM/PM,100kHzAM/FM,500kHz次调制AM/FM/PM,1MHzN/AAM/FM,500kHz内置PIDYesYesNo表格指令间距16ns(XRF)1μs(ARF)10μsN/A数字I/O16路高速I/O无无三、各型号特点及应用1、敏捷型射频合成器ARF/XRF特性l两路独立或同步输出l卓越的模拟调制(AM/FM/PM)带宽:10MHzl用于强度稳定或频率锁定的PID控制l高功率输出:2×4W/ 通道(421型)l宽频谱范围:20 ~ 400MHzl自动执行表格指令,用于复杂序列l16路独立数字信号输出,表格控制l射频输出功率监控及保护l可靠的开路/ 短路保护l数字信号输入控制快速(50ns)射频开/关,以及触发l极低位相噪声l外置时钟输入l三路模拟输出选件l16路数字输入输出(XSMA)l用于噪声抑制及锁频的信号调整(B3121)应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却,原子陷俘,光谱lBECl量子光学:压缩场l场致透明与慢光速l时频基准2、四通道射频合成器QRF特性l高功率:通过选件可达2W/ 通道l10 ~ 200MHz宽范围精密调节l每通道独立模拟调制(AM/FM/PM/PID)l表格指令运行模式:顺序产生复杂频率/功率/位相/波形lPID控制,用于强度稳定及漂移补偿l通过网口和USB的简便控制lTTL快速通断控制,40ns延时l牢靠的开路/短路保护应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却,原子陷俘,光谱lBECl量子光学:压缩场l场致透明与慢光速l时频基准3、AOM驱动器AAD特性l高功率:可达+36dBm / 通道l70 ~ 200MHz 频率范围l高调制带宽:500kHz(FM、AM)lRF功率输出及监控输出(-22 dBc)lTTL外触发快速通/断控制l十圈频率调节,单圈功率调节l低位相噪声高稳定性VCO如有其它需求,请联系我们。
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 系列上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000 射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures) 上海伯东美国考夫曼 KRi 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸离子束刻蚀机, 作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 220上海伯东代理美国原装进口 KRi 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 1000 mA.KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数: 阳极电感耦合等离子体2kW & 2 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2, 其他流量5-50 sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准 OptiBeamTM离子束栅极22cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000, MHC 1000高度30 cm直径41 cm锁紧安装法兰10”CFKRI 射频离子源 RFICP 220 基本尺寸KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域:预清洗表面改性辅助镀膜 (光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE射频离子源 RFICP 220 集成于半导体设备, 实现 8寸芯片蚀刻1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士
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  • CESAR 射频发生器强大而多功能的 Cesar 平台可提供非常稳定的射频功率输送性能,以及一个多样化的模式选择,每种模式都具有一套独特的功能(2、4、13.56、27.12和40.68 MHz;0.3至5 kW;拥有多种用户界面和输入选择),从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现优化,从而使您的投资和制程生产力得到较好的利用。一个全面而灵敏的操作菜单(可在该组件的多功能前面板上找到,并显示在一个大的液晶显示屏上)带来了很好的便利性——提高了操作人员的效率,并使培训成本最小化。优点功能更长的制程正常运行时间更高的操作简易性和灵活性无需定制组件提前期的定制化性能长期的使用简易性,节省成本优质的服务和支持 精簡的流线型设计标准的平台包装高效率——低发热量200和400 VAC 的输入选择两个模拟用户端口选择RS-232、以太网、和 Profibus 通讯多功能前面板便利、全面的操作菜单CEX(相位同步)操作模式遵循 SEMI™ (符合或超过标准)
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 40上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.射频离子源 RFICP 40 特性:1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:型号RFICP 40Discharge 阳极RF 射频离子束流100 mA离子动能100-1200 V栅极直径4 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度12.7 cm直径13.5 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域: 预清洗 表面改性 辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 140上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:阳极电感耦合等离子体1kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 500mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-40sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极14cm Φ栅极材质钼, 石墨离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度25.1 cm直径24.6 cm锁紧安装法兰12”CFKRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域:预清洗表面改性辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数型号RFICP 100Discharge 阳极RF 射频离子束流350 mA离子动能100-1200 V栅极直径10 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度23.5 cm直径19.1 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域 预清洗 表面改性 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下美国 KRI 射频离子源 RFICP 100美国 HVA 真空闸阀德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 23001978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请联络上海伯东。上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 射频穿刺针也叫射频套管针、射频热凝套管针、射频热凝电极套管针。 射频穿刺针是一次性无菌产品。 射频穿刺针与北琪射频热凝电极完美结合,实现温度的准确控制,锋利的针尖带给患者极小的穿刺痛感,射频热凝套管针裸露端与绝缘层之间零厚度过渡带给穿刺带来的润滑感和准确的手感,令穿刺更加快畅准确,减小病人的不适感,提高手术的准确性和安全性。众所周知,作用是对事物产生的影响、效果等,射频穿刺针作用为治疗效果,该技术对治疗起到了其他方面的影响,因此对于作用的了解,能为医疗机构选择设备减少阻力。射频穿刺针治疗中具有微创、损伤小等特点,治疗效果明显,安全,高温度能达到95℃,细针穿刺,风险更低。作用:可高选择的毁损痛觉神经传达通路,阻断神经神经信号向上位神经传导,快速抑制疼痛。为了能够减少病人治疗的痛苦,射频穿刺针在设计制作时在各部件做好了合理的设计,并有不同的作用,接下来就一起看看吧!1、人体工学设计 ——- 操作简洁;2、高灵敏温度测量 ——- 准确消融;3、套管有高绝缘、隔热层 --- 保护操作者;4、套管锋利 ——- 准确穿刺;5、电极是高强度形状记忆材料 --- 组织内电极形状固定;6、电极有纳米涂层 ——- 不粘连组织。
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  • 一、IC卡水表简介1、 产品概述: IC卡水表是以旋翼式水表为基表,由干簧管取信装置、低功耗电控阀门、微电脑控制系统、射频卡信息系统集合而成的智能水表。该产品改变了传统的用水收费方 式,由“先用水后交费”变为“先交费后用水”, 每次售水收款都有准确记录,彻底解决了“收费难、账目乱”这两个水费管理工作中的难题。有远传抄表功能的预 付费水表还可实时统计用水数量,为水费结算提供准确依据。产品符合国家标准GB/T778-2007《封闭满管道中水流量的测量、饮用冷水水表和热水水表》的全部技术要求。2、功能特点:o 精确计量:采用高强度材质机芯,始动流量低,计量精度高。o 预付费功能:先交费、后用水,无费自动关阀,交费重新刷卡后自动通水。o 售水记录存档:每次售水操作都有准确记录,账目清晰,不可随意更改,并有多种统计报表便于查询。o 一卡通功能:若同一用户安装两只以上水表或同时安装我公司的水表、电表、燃气表等,多只智能表可共用一张卡管理,使用方便。o 显示功能:高清液晶屏,可直观查看购水量、剩余水量、累计用水量、阀门状态、电池状态等多项数据。o 报警功能:当剩余水量达到或低于设定报警值时,水表自动关阀一次,提示用户购水,此时用户刷卡还可打开阀门继续用水,剩余量为0时彻底关阀。o 防锈功能:水表阀门定期自动开关,防止阀门锈死。o 防攻击功能:当水表受到强磁或强电攻击时,水表自动关阀,并自动记录本次受攻击信息,只有外界干扰解除后方能开阀。o 低功耗设计:整个控制线路低功耗设计,静态电流小于3uA,电池使用寿命大于6年。o 防水设计:各关键部件经过多重防水处理,防水性能好。阶梯水价功能:有单一水价程序和阶梯水价程序可供选择。
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  • 过滤型射频电子水处理器工作原理 过滤型射频电子水处理器是为了解决电子式水处理器与自动排污过滤器功能上的局限性,将二者有机的结合在一起的水处理设备。主要由控制电路、不锈钢滤筒、水流导向阀、排污装置所构成。当水体吸收高频电磁能量后,在不改变原有化学成分的情况下,使腐蚀、结垢、菌藻滋生问题加以综合和分别解决。由于排污过滤器的功能又具备了一定精度的过滤作用,成为一种简便经济的物理法水处理设备。过滤型射频电子水处理器技术指标 1. 输入电源:220V50Hz2. 适应水质:总硬度≤700mg/L(以CaCO3计)水温:≤95℃公称压力:1.0MPa、1.6MPa流速:≤2.8m/s3.使用性能:阻垢率≥95% 杀菌率≥95% 灭藻率≥95%4.有效期:水经处理后保持的有效时间为2小时,半衰期为1小时5.过滤精度:1000-3000μm 过滤型射频电子水处理器产品特点1. 技术先进:共鸣场电子水处理技术即高频电磁场水处理技术,国内首创,代表电子水处理技术新潮流;2. 适应性强:能适应不同的水质,且适应水质的硬度可达700mg/L(以CaCO3计);3. 机内采用屏蔽技术可提高工作效率30%以上;4. 采用高屏输出端直接插入电极内部,减少功率损耗并使维修更方便;5. 电极材料采用特殊合金材料,寿命长达20年;6. 变压器采用目前国际特制R型变压器,具有磁干扰小,空载电流极低,适应温度、湿度能力均大大优于普通变压器,关键元期间进口;7. 指示灯的设计根据电极释放能量是否充分达到设计标准衡量指示灯的亮与灭;8. 加装排污口,解决用户排污困难;过滤型射频电子水处理器产品适用范围●工业冷却循环水系统 ●空调系统●热交换系统、热采暖系统 ●生产和生活用水供应系统过滤型射频电子水处理器产品参数型号出入口径ABCDE重量功率流量排污口inchmmKgWT/HCLDC-3P38036039379017038048505025CLDC-4P410036039379017038058508040CLDC-5P5125360393950220470668012540CLDC-6P61503864581125270530828018050CLDC-8P8200415458123028058011510032050CLDC-10P10250438488134028064013817549050CLDC-12P12300463488160030080018422571065CLDC-14P14350489488173037088022225097065CLDC-16P164005155701890380980334350140065CLDC-18P1845051566321204001080387425159080 注:1、过滤型射频电子水处理器过滤精度为2mm,若客户有特殊精度,请在定货时特别说明,以便特殊定制。2、安装时水流方向应与设备方向标志一致,不可装反。在立管上安装时,水流应自上而下。3、过滤型射频电子水处理器设置有反冲控制阀,只需在排污口安装排污阀及排污管,无需再接旁通,可实现不停机反冲排污。。
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  • 射频传导抗扰度测试系统RIS-6091系列产品简介RIS-6091是凌世研发的一套成熟的多功能射频传导抗扰度测试系统。主机内置信号源、功率计、定向耦合器和功放模块,同时也可扩展使用外部功放模块,实现测试用途的扩展:包括满足IEC61000-4-6标准的CS测试、汽车电子ISO11452-4标准的BCI大电流注入测试及其它场合的大电流测试试验。值得一提的是,凌世独立研发制造的多种CS耦合去耦合网络(CDN)高频阻抗特性优异,完全满足标准规定的从150kHz~230MHz全频段内的阻抗要求,可匹配任意品牌的CS测试系统,而且从电源线到信号线,有各种规格型号可以满足不同的测试要求。 技术特点■ 上位机控制,标配中英文版专业测试软件,功能完整,可扩展性好;■ 各种规格耦合去耦合网络齐全,可满足不同测试端口的需求;■ 全系统频率范围:150kHz~230MHz;■ 内置信号源频率范围:9kHz~3GHz;■ 内置功率放大器频率范围:150kHz~230MHz,35W或85W可选;■ 内置功率计:9kHz~3GHz;■ 全自动校准,全自动测试及测试过程中输出功率监测;■ 可外部扩展,以支持大电流注入测试。 技术参数规格型号RIS-6091输出电压35W功放时1~17Vrms(CDN法)1~11Vrms(电磁钳法)85W功放时1~30Vrms(CDN法)1~18Vrms(电磁钳法)1~10Vrms(电流钳法)输出阻抗50Ω电压驻波比≤1.2信号源频率9kHz~3GHz输出电平-120~10dBm非调制信号连续波调制模式幅度调制 调制频率:0.1Hz~500kHz 调制深度:0~100%脉冲调制 调制周期:200ns~60s 脉冲宽度:100ns~85s功率放大器输出频率150kHz~230MHz(可扩容至 10kHz~400MHz)最大输出功率+44dBm/35W(可扩容至+49dBm/85W)谐波<15dBc功率计输入频率9kHz~3GHz输入功率-40dBm~+30dBm软件支持Windows控制接口USB输出接口N型接头尺寸19' ' /4U重量20kg 测试软件RF IMMUNITY TEST凌世独立开发的专业测试软件(RF IMMUNITY TEST)采用中英文界面,可以将CDN,电磁钳或电流注入钳与主机联系起来,对系统进行自动校准、自动测试;所有参数设置可以保存调用,使用者可以随时调用此文档;标配USB接口,可以对主机进行控制;可以在软件上设置,测试等级,步进,标准模式,驻留时间等等;测试完成后,用户可自行打印或者存储报告表。 综合测试主机RIS-6091技术特点■ 内置9kHz-3GHz信号源 ■ 支持1Hz-500kHz调幅AM调制,脉冲调制 ■ 内置双通道9kHz-3GHz功率计 ■ 支持实时监测正、反向功率 ■ 内置频率范围150kHz - 230MHz,35W或85W功率放大器 ■ 提供原厂测试软件。耦合去耦网络CDN-M/T(x)-(xx) 技术特点■ 各种耦合去耦合网络齐全,可满足各种测试端口的需求;■ 全频段阻抗匹配;■ 测试频率:150kHz - 230MHz;■ 测试端口:电源线、信号线;■ 电源线电流范围:16A - 64A。 电磁注入钳ZN23203 技术特点ZN23203型电磁钳符合国标IEC 61000-4-6标准。是检测射频场 感应的传导骚扰抗扰度。是把信号注入到卡槽内电缆组线上,被测BUT是能承受国标中所要求的数值。■ 注入功率最大:100W(5分钟);■ 注入频率:150kHz~400MHz;■ 耦合退耦方向系数大于10dB>10MHz。
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  • 射频辐射抗扰度测试系统6000R:包含射频信号源3010/3030及其它品牌射频信号源、功率放大器5225/5228/5294/5295、功率计6630、发射天线STLP 9128ES/STLP 9149、自动化测试软件PIMS,可以实现3米距离的10V/m、20V/m、30V/m已调波的照射以及1米距离的200V/m照射。6000R采用了去中心化的分体式硬件架构设计理念,将测试系统的硬件优化配置与不断变化的测试需求相适应。整套系统根据试验限值的不同,能够兼容不同品牌的射频信号源与功率计。还可以根据试验信号的频率范围与调制方式,兼容多种品牌的射频信号源(例如德国R&S的SMB100、意大利PMM的3030)。由于6000R选择的硬件设备均为能独立工作能力的台式仪器或便携式设备,因此,该系统不仅拥有上述的系统兼容性能,而且硬件设备均单独工作或融合到其他系统中使用。6000R系统中的程控仪器(信号源、功率计)与测试软件均源于PMM,因此,测试软件的各个版本可以与同厂制造的仪器仪表保持高度的匹配性。6000R系统采用的测试软件依据EMC抗扰度试验原理而设计,允许使用人员灵活选择试验方式、试验频率范围及步进、施加频点驻留时间以及敏感频点时期的EUT行为监测记录。
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  • 可调;电压输出时间:10s-可调:漏电流:1mA--‐10mA 可我公司射频电源系列中按照 GJB681A调。-2002 研制开发的射频电缆耐压测试仪, l参数设置。可通过触摸屏幕或外能够输出电压 1.5KV 、频率 5MHz -接鼠标直接完成各种参数的设7.5MHz 的射频高压信号,满足军品射频置:起始频率、终止频率、起始电缆高频信号下耐压试验。电压、漏电电流、阶段升压和计高频高压测试仪由前级信号源、功率 时等参数;放大器、以及显示部分、控制部分等组成,产品运用:仪器在 5MHz~7.5MHz 频段内输出近似电压正弦波电压有效值 1500Vuu射频连接器生产厂家uu第三方检测机构产品特点:uu军工整机生产厂家 序号项目指标单位备注电性能部分1输入电压AC220±10%V电性能部分1输出波形正弦波2输出电压1500V3频率范围5-7.5MHz4电压分辨率50V5电流分辨率1mA6≤5%@1000V-1500VV电压测量精度7≤10%@100-1000VV8频率调节分辨率≤100Hz10频率不稳定度≤0.05%Hz9漏电检测电流1-10mA11运 行 时 间5@额定容量min12噪 声≤50dB环境条件1工作温度-20~+50°C2存储温度-40~+85°C3工作相对湿度≤90%尺寸及重量1尺寸19”8U2重量≤10Kg
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  • 高频 高电位电压测试仪 产品特点l适用于《GJB681A--‐2002 射频同轴连接器通用规范》测试要求; l大屏幕触摸液晶彩屏显示,操作简单、数据显示直观 l可同时显示测试电压、试验频率、漏电电流、测试时间,电压曲线等;l参数可调。频率:5MHz--‐7.5MHz产品简介:可调;电压输出时间:10s--‐5min高频高电位测试仪可调:漏电流:1mA--‐10mA 可是我公司射频电源系列中按照 GJB681A调。-2002 研制开发的射频电缆耐压测试仪, l参数设置。可通过触摸屏幕或外能够输出电压 1.5KV 、频率 5MHz -接鼠标直接完成各种参数的设7.5MHz 的射频高压信号,满足军品射频置:起始频率、终止频率、起始电缆高频信号下耐压试验。电压、漏电电流、阶段升压和计高频高压测试仪由前级信号源、功率 时等参数;电压正弦波电压有效值 1500Vuu射频连接器生产厂家uu第三方检测机构产品特点: uu 军工整机生产厂家放大器、以及显示部分、控制部分等组成,产品运用:仪器在 5MHz~7.5MHz 频段内输出近似YT--‐RF--‐057515PS Specification 序号项目指标单位备注输入部分1输入电压AC220±10%V电性能部分1输出波形正弦波2输出电压1500V3频率范围5-7.5MHz4电压分辨率50V5电流分辨率1mA6≤5%@1000V-1500VV电压测量精度7≤10%@100-1000VV8频率调节分辨率≤100Hz10频率不稳定度≤0.05%Hz9漏电检测电流1-10mA11运 行 时 间5@额定容量min12噪 声≤50dB环境条件1工作温度-20~+50°C2存储温度-40~+85°C3工作相对湿度≤90%尺寸及重量1尺寸19”8U2重量≤10Kg 西安思嘉电子科技有限公司地址:西安市高新区前进大厦7层电话:86-029-68859788 传真:86-029-88764149 E-mail:
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  • VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵)等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)可选配300W射频电源(自动匹配)注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间(点击图片查看详细资料)磁控溅射头三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机) 真空腔体真空腔体:256mm OD x 250mm ID x 276mm H,采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体(如下图)真空度:1.0×10-2 Torr (采用双极旋片真空泵),5×10-5 torr (采涡旋分子泵) 载样台载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热载样台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)旋转速度:0 - 20 rpm样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售薄膜测厚仪(可选) 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 ? LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据 质保和质量认证一年质保期,终生维护CE认证外形尺寸 使用注意事项这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
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  • VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间,5种材料可以溅射出不同组分的产物,选择5个等离子射频电源,可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台,可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上,并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数,都可由电脑设置直流电源(可选)可选购直流电源,来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源,来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机,水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm(可调)溅射角度: 0 – 25°(可调)配有铜靶和 Al2O3 靶,用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时,需要将靶材和铜片粘合,可通过导电银浆粘合(可在本公司购买导电银浆)真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr (采用分子泵)样品台直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热,最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪(可选)可选购精密石英振荡测厚仪,安装在真空腔体内,实时测量薄膜的厚度,精确度为0.1 ?(需水冷)净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期,终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜,所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀(可在本公司购买),所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜,可以对基片进行清洗用超声波清洗机,用丙酮或乙醇作为清洗介质,清除基片表面的油脂,然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机,可使基片表面粗糙化,改变基片表面化学活性,清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层,如Cr, Ti, Mo, Ta,,可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材,其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压,所以用户在放入样品或更换靶材时,必须切断电源不可用自来水作为冷却水,以防水垢堵塞水管。应该用等离子水,或专用冷却介质
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  • 射频微波同轴连接器屏蔽效能测试系统方案一、测试技术指标被测产品:同轴连接器、电线电缆组件。被测产品最大尺寸:半径 500mm测试频率:1GHz---18GHz被测产品最大屏蔽效能:110dBm测试方法:混响室测试法测 试 使 用 标 准 : GJB1217A-2009 中 的 3008 方 法 及 MIL-STD-1344A 的 3008 方法二、测试系统组成2.1 系统组成测试系统由混响室、发射天线、参考天线、屏蔽电缆、被测产 品(EUT)、模式搅拌器、模式搅拌器电机、电机控制器、微博信号源、微博放大器、功率计、频谱分析仪、设备控制软件、数据采集软件、数据处理软件、电机控制卡、仪器控制器、计算机、打印机等组成,如下图所示:2.2 测试原理应用混响室测试法,将被测产品(EUT)放在混响室均匀电磁场的测试区内,同时进行参考测量和屏蔽测量。信号源的信号经功率放大器输入到发射天线上,由发射天线入射到混响室。模式搅拌器由电机控制器控制,在一周内进行步进等间隔旋转。当模式搅拌器每步进一次时,参考天线接收来自发射天线辐射信号,这些信号由功率计接收,再由计算机采集得到接收功率。同时,由混响室泄露到连接器中的信号通过同轴电缆传送到频谱分析仪中,再由计算机采集得到被测得射频连接器内泄露的功率。由计算机记录通过通过数据处理得到每个步进位置处的参考天线接收平均功率和被测射频连接器内泄露的平均功率。三、主要测试设备3.1 混响室混响室再屏蔽腔体内应能产生空间均匀、各向同性、随机极化的电磁环境,以便适应受试设备的测量。混响室的屏蔽效能需在 90dB 以上。混响室的测试频率为 1GHz--18GHz,空腔内最低的可用频率是 1GHz,空腔最低谐振频率需要在 175MHz 以上。混响室的最低谐振频率过模条件是产生均匀的一个重要条件,根据美军标规定最低工作频率时至少容纳 100 个模的要求。根据用户被测产品尺寸,混响室体积大于 1 立方米。指标满足ICE-61000-4-21 标准。3.2 发射天线和参考天线发射天线和参考天线工作频率覆盖 1GHz--18GHz 的宽带天线 3.3 微波信号发生器 微波信号发生器的频率覆盖 1GHz--18GHz,发射功率大于15dBm。在 1GHz--18GHz 的频率范围内输出电平差小于 0.5dBm,频率稳定性优于 10-6,具有 GPIB 可控制功能。 3.4 功率放大器功率放大器覆盖 1GHz--18GHz 频率范围,要求功率放大器输出功率要大于 2W 3.5 频谱分析仪测量频率覆盖 1GHz--18GHz,灵敏度优于-140dBm,具有 GPIB 可控制功能。 3.6 模式搅拌机控制器模式搅拌机控制器:在一周内可控 5--450 个等间隔步进,具有 RS485 接口控制功能。 3.7 屏蔽电缆工作频率范围 1GHz--18GHz,在此频率范围内屏蔽效能大于 125dB 以上 3.8 50Ω负载50Ω负载的工作范围为 1GHz--18GHz。要求它泄露少,匹配好。使用频带内电性能一致性好。 3.9 GPIB 控制块和 GPIB 控制电缆GPIB 控制块主要用来进行仪器控制和数据采集,是自动测试不可缺少的设备。GPIB 电缆是连接计算机与被控仪器所用电缆 3.10 计算机和打印机用于设备控制、数据采集、数据处理、数据及图表打印。
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  • RF 3000射频(RF)发生器用于软组织的热凝固,其电极经美国FDA批准。发生器向电极输送高达200瓦的隔离射频输出。在恒定的RF电压下,在25ω至100ω的阻抗范围内可获得全功率;在此范围之外,可以使用更低的功率。功率可以手动调节;但是,负载阻抗的变化会改变实际输送的功率(这是一个安全特性,在“无源功率限制”中有更详细的描述)。打开电源时,会显示实际传输的射频功率和阻抗。操作和维修手册仅作为指导性指南。 LeVeen针电极系列预期用途/使用适应症LeVeen针电极系列旨在与RF 3000治疗仪配合使用,用于软组织热凝固坏死,包括部分或完全消融不可切除的肝脏病变。这些程序只能由熟悉相关设备和技术的医生和工作人员执行。Soloist单针电极预期用途/使用适应症Soloist单针电极旨在与RF 3000治疗仪配合使用,用于软组织的热凝固坏死,包括部分或完全消融不可切除的肝脏病变。
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  • 4大特点无创无痛、体感舒适治疗全程体感温热、舒适无创、无电刺激感、无禁欲期全盆底覆盖、整体康复多模块治疗模式,治疗范围更深、更广可实现从外阴、阴道壁、盆底肌肉、筋膜韧带到全盆腔的整体治疗单极射频、双极射频两种能量模式智能切换,触屏一体,操作简易事实监测治疗温度,智能调节输出功率,让治疗安全、高效AI温控、阻抗匹配单双联合、智能切换
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  • DC-9GHz射频近场探头完美对接任何厂家的频谱仪和接收机测量EMF&RF的近场探头产品交付清单:l 50mm 磁场探头 1个l 25mm 磁场探头 1个l 12mm 磁场探头 1个l 6mm 磁场探头 1个l 电场探头 1个l 有源前置放大器 (only PBS2)l 1m SMB-to-SMA射频线缆l 枪式握把和三脚架l 带有填充物的包装箱l 详细的操作手册l 外部电源适配器和CD光盘l 可应用iPhone & iPad的电源适配器产品说明PBS1 & PBS2 探头l 频率范围:DC-9GHzl 前置放大器噪声(PBS2): 3.5dB typicall 前置放大器增益(PBS2): "linear" falloff. 1MHz: 40dB 3GHz: 37.5dB 6GHz: 35dBl 封装尺寸 (L/W/D): (300x190x70) mml PBS1 重量(case incl. probes): 1200grl PBS2重量 (case incl. probes and pre-amplifier): 1500grl 质保:2年电场探头的等向性l 传感器尺寸:3mml 最大谐振频率:9GHzl 连接阻抗:50 Ohms SMB socket (m)l 质保:2年50mm磁场探头l 传感器尺寸:50mml 最大谐振频率:700MHzl 连接阻抗:50 Ohms SMB socket (m)l 质保:2年25mm磁场探头l 传感器尺寸:25mml 最大谐振频率:500MHzl 连接阻抗:50 Ohms SMB socket (m)l 质保:2年12mm磁场探头l 传感器尺寸:12mml 最大谐振频率:2600MHzl 连接阻抗:50 Ohms SMB socket (m)l 质保:2年 6mm磁场探头l 传感器尺寸:6mml 最大谐振频率:>6000MHzl 连接阻抗:50 Ohms SMB socket (m)l 质保:2年交付的产品包括5个探头,如果是PBS2还增加了一个前置放大器和电源适配器。 每一个产品都包含详尽的操作手册, 一条1米长的 SMB-to-SMA 射频线和一个枪式握把和微型三脚架。详细说明:EMC近场探头可以设置电子元器件组的干扰源的直接精确测量和误差测量,也可以执行和检测通用的EMC测量。我们的射频近场探头特别适合下列情况:l 干扰源的精确定位l 干扰源的场强值估计l 屏蔽和过滤的验证测量l 问题组件的识别l 对干扰过于敏感的电路检测这组探头共有5个: 4 磁场探头和一个电场探头。 所有的探头都包有绝缘层,所以可以安全的测量振荡电路和电源线路。l PBS2探头外加高性能的前置放大器,允许的测量明显较弱的干扰源,有助于仪器的灵敏度提高40 dB。l 所有探测器刻意被做成无源器件,让他们适合于设备的传输。因此,组件和电路对敏感干扰源很容易被查明。l 可以完美的发现干扰源,例如: EN55011, EN55022 or EN50371 (Class A or Class B)的查找。实施适当的电路的变化后,他们的效率就能轻松、可靠地得到证实。这样,昂贵和耗时的测量可以重新评估,在EMC实验室可以跳过。l 验证标准EMC 限值:例如:一个标准定义的EMC 限值10dB,我们的探头应用一定的方法可以很容易的验证如果电路的一致性。另一种情况是可以消除我们在实验室做EMC测量时所需的昂贵的设备和大量的时间。l 非常有用的集成(1/4”)三脚架连接器,每一个探头都可以连接在三脚架上。l 这组射频探头可以连接到任何频谱分析仪和示波器。我们提供SMA-to-N连接适配器(可选)。 每个探测提供了SMB快速连接可以快速连接转换电缆接头每个探头底部有三脚架连接孔,可以舒适的固定微型三脚架
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  • 安立射频功率计 400-860-5168转4547
    安立MA24105A通过式峰值功率传感器能够在350 MHz 到 4 GHz的频率范围下提供准确的平均功率测量,其功率测量范围涵盖2mW至 150 W。该传感器在其采用"双通道"内部架构的二极管传感器前端配备一个独立的定向耦合器,能够在整个频率和动态范围内提供(类似于热敏传感器)真有效值测量,使得用户能够对 CW、多音信号以及数字调制信号(如 GSM/EDGE、CDMA/EV-DO、WCDMA/HSDPA、WiMAX 和 TD-SCDMA)执行高度准确的平均功率测量。传感器中的信号调节回路、ADC 、电源及微处理控制器共同构成一个功能全面的功率计。正向路径还包括一个4MHz带宽通道,峰值和比较器/集成电路,由此增加了测量功能,比如:PEP功率、波峰因子、CCDF测量功能和突发平均功率.另一反向检测电路增加了反向功率测量功能,包括反向功率、反向系数、回波损耗和SWR. 微控制器、信号调节电路ADC,以及传感器中的电源,使之成为一个完整的微型功率计。与个人电脑搭配操作可以通过USB接口与Microsoft Windows系统的个人电脑相连接使用。其带有PowerXpert™ 应用软件 (版本 2.1 或更高),可用于数据显示、分析和功率传感器的控制。软件提供了一个前窗面板,使得PC界面如同传统的功率计。这款应用软件有极丰富的功能特点,比如数据记录、功率Vs时间,以及偏移表,实现快速精确的测量。频率范围350 MHz - 4 GHz动态范围2 mW to 150 W (+3 dBm to 51.76 dBm)输入回损29.5 dB, ≤ 3 GHz26.5 dB, ≤ 4 GHz测量不确定度 3.8%射频接头N (F)一批功率计,反射仪,激光器等最后清仓中序号名称型号数量描述厂家备注1安立射频功率计MA24105A1Inline Peak Power Sensor, 350 MHz to 4 GHz安立全新2安立光功率计5P100-FC1安立全新3光时域反射仪MU909815C11310,1550,1650波长,三波长,35dB安立全新4光时域反射仪MU909014A51650波长,单波长,30dB安立全新5MT9090模块MU909014A91650波长模块安立全新6泵浦激光器AF4B116AA75L34安立全新7泵浦激光器AF4B230CU550F1安立全新8校准套件3669B1V Connector Verification Kit安立全新9天馈线测试仪S251B1安立全新10天馈线测试仪S332D1安立样机11SDH样机MP1590B1安立样机12现场综测测试仪CMA30001安立全新13衰减器41KC-201Precision Fixed Attenuator, 20 dB, DC to 40 GHz, 50 Ohm, K(m) - K(f)安立全新14功率传感器MA2411B1安立全新15互调仪MW82119A1安立全新16偏置器5585-1141BIAS TEE,2-18HGz,100V,6A,SMA J-PPicosecond全新17偏置器5589-1141BIAS TEE,3-2.86HGz,100V,7A,SMA J-PPicosecond全新18衰减器89-30-121 avg 10W, 2.92mm(m-f)安捷伦全新19黄青蛙功率计0077-2-R5YellowFrog power meter 700 MHz to 2.7 GHz黄青蛙全新20鸟牌射频功率计5000-EX3Digital Power Meter鸟牌全新21鸟牌探头50124Wideband Power Sensor鸟牌全新22衰减器8490D-02012.4mm(m-f),RF power avg 1W Coxial fixed attenuator,dc-50GHz with options 020Aeroflex全新23转接头506542.4(m)-3.5(m)Aeroflex全新24转接头506622.4(m)-3.5(f)Aeroflex全新25转接头506722.4(f)-3.5(m)Aeroflex全新26转接头506823.5(f)-2.4(f)Aeroflex全新27转接头508543.5(m)-3.5(m)Aeroflex全新28转接头51121N(m)-APC7Aeroflex全新29转接头514023.5(m)-APC7Aeroflex全新31转接头514423.5(m)-N(m)Aeroflex全新32转接头514513.5(f)-N(m)Aeroflex全新33转接头514623.5(m)-N(f)Aeroflex全新34转接头514842.4(f)- 2.4(f)Aeroflex全新35转接头514942.4(m)-2.4(m)Aeroflex全新36转接头515222.4(f)- 2.92(m)Aeroflex全新37转接头515322.4(m)- 2.92(f)Aeroflex全新38转接头515432.4(m)- 2.92(m)Aeroflex全新39转接头515722.4(m)-N(m)Aeroflex全新40转接头518222.4(f)-APC7Aeroflex全新41国产电缆4742国产转接头4943电源线16744国产校准件145国产电池146电源适配器5447偏置器248混频器149连接器750国产衰减器751延长线952定向天线453全向天线1154八木天线1055串行接口电缆256跳线557铝箱4758中号升降平台159大号升降平台160软包561以太网线262功分器363国产负载1764可调谐光源样机模块2
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  • 北琪射频穿刺针_射频穿刺针_北琪射频穿刺针的介绍  射频穿刺针,原产德国英诺曼德,该射频穿刺针的性能结构有伞形杆、伞簧片,针管采GB1220-1992中规定的1Gr18Ni9Ti,不锈钢制成。射频穿刺针作为射频热凝器的重要配件,供临床单位用于与北琪射频热凝器配套使用。  德国英诺曼德的射频穿刺针为一次性无菌产品,规格多样,直径0.7-0.9mm,长度50-120mm,裸露端长度4-10mm。  专用射频穿刺针在针尖做了三个激光孔,方便临床大夫手术操作,现在做椎间盘突出的方法很多但臭氧治疗和射频靶点热凝治疗俗称为“椎间盘微创治疗的黄金搭档”特制的北琪(西洁、安科)射频穿刺针的特殊针尖设计方便了臭氧在髓核里的弥散分布,更好的达到治疗椎间盘突出的目的。针柄用的是金属,可以方便高压消毒,减少患者的医疗费用。  射频穿刺针分为针芯和套管两部分,外套管有特氟龙涂层,结实耐用,针体有弹性,表面光滑,经过消毒能重新使用,规格多用主要分为腰部穿刺和精穿刺,长度:100mm-160mm。  椎间盘膨出、突出症、脊神经后支痛、强直性脊柱炎。  帕金森氏病、舞蹈病、扭转痉挛等。  神经源性疼痛、三叉神经痛、带状疱疹后遗痛、交感神经疾患。  各类软组织疼痛、肌筋膜炎、肩周炎、跟腱痛等。
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  • 高功率射频CO2激光器 400-860-5168转2831
    高功率射频CO2激光器 功率“永不止息”系列:(350W - 850W)姓名:刘工(Pindy)电话:(微信同号)邮箱:高功率射频CO2激光器产品简介:意大利El.En公司(艾伦集团)自主研发设计生产的功率“永不止息”系列的高功率射频CO2激光器(Blade RF Self-Refilling系列)很特殊。这是一种高效的RF CO2射频激光源,EI.En.独有的射频自充技术可提供激光功率无与伦比的稳定性,使其在长期运营中也能保证工艺参数的绝对一致性,非常适合在塑料,木材,皮革和其他材料上应用。但是,与传统的射频激光源不同,Blade RF Self-Refilling系列几乎“不需要任何工厂维修”。这种不可思议的优势,得益于其手动大小的储气筒,您可以自行填充,每年两次,而且成本非常低。这还不是全部,这款出色的设备可为您节省资源:El.En.提供的Blade RF Self-Refilling系列射频CO2光源在电/光转换方面的效率比竞争对手高25%。Blade RF Self-Refilling系列的射频CO2激光器有多种功率配置,范围从350W到850W,所有配置都具有相同的尺寸,因此非常易于集成。高功率射频CO2激光器主要特性:- 内部储气筒- 半密封操作:无需返厂,自行填充- 高电/光转换效率- 运营成本低- 体积小,易于集成- 集成式安全百叶窗-远程诊断和控制的TCP/IP连接高功率射频CO2激光器的主要应用:- 高性能振镜扫描仪应用- 塑料,木材,皮革切割- 数字转换- 聚丙烯涂层和薄膜切割- 标签吻切高功率射频CO2激光器的主要型号:RF333(P),RF555,RF777,RF888,RF899高功率射频CO2激光器技术规格:
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  • 作为新时代女性,我们经常因为家庭、工作的种种原因,将自己的护理一再搁置,随着年龄的不断增长,皮肤出现一系列的问题,例如:皱纹松弛、毛孔粗大,面色暗沉、痤疮痘坑。想解决衰老问题,就选择V纳斯黄金射频微针美容仪器。V纳斯黄金射频微针作用1、点阵物理微针——紧肤提升,突破表皮屏障,准确靶向目标深层。2、高能恒定射频——饱满物皱纹,皮下胶原层新生重塑,稳定皮肤年轻质地。3、透皮多效给药——亮白莹透,更嫩肤通过微针透皮细微通道,实施个性治疗药物导入。V纳斯黄金射频微针技术原理黄金射频微针结合了微针微创、高温射频以及透皮给药三种技术结合,利用黄金涂层绝电微针探头,当探头里的微针深入皮肤时,会同时释放高温黄金射频能量 。并且仅在底部释放,不会加热表皮,所以可安全、准确、均匀有效的加热深层肌肤的胶原蛋白,促进胶原蛋白变性、重组、凝结。V纳斯 黄金射频微针优势定位准,修复迅速,比传统更准如同导航系统,把原本乱窜的电波准确定位肌肤深层,刺激深层胶原蛋白重组新生。疗效显著 效果维持3~6年精确作用不同深度靶向组织,智能实时阻抗监测,针对祛皱、紧肤、祛痘、疤痕等不同症状,进行个性化设置,使皮肤快速修复到年轻健康的状态。V纳斯黄金射频微针美容仪器,全面激活肌肤新能量,开启肌肤新生密码,让年龄静止,享受青春慢生活。
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  • DISCOVERY 635/785 多耙直流/射频磁控溅射台 丹顿真空的Discovery系列在世界许多著名的研究机构得到广泛的应用,是业内公认的灵活、可靠的磁控溅射系统。从15年前开发以来,该系统已经销售超过100台,在国内销售12台。Discovery系列适合于研发及小批量生产。系统采用独特的共焦溅射结构,能够使用较小的磁控溅射靶枪在较大的面积的工件上得到较好的均匀性(例如:采用传统的垂直溅射方式,为了在6英寸工件上得到±5%的均匀性,需要使用8英寸直径靶枪,而采用共焦溅射方式,则可以采用3英寸磁控溅射靶枪,即可达到同样的均匀性指标)。因此在同样的要求下,采用的靶枪及电源相对较小,所以能够降低设备成本及运行成本,同时,丹顿真空也提供传统的垂直溅射方式系统。Discovery 系列都可以安装多个磁控溅射靶枪,可以实现多种溅射模式,包括直流/射频/脉冲溅射,共溅射,射频偏压溅射;可以实现三级加热,最高加热温度可以达到900 °C;可以配置进样室(单片或多片),最大可以处理的工件直径可以达到 250mm ;系统真空室规格从18英寸(457mm)到 35英寸(890mm)可选;高真空采用分子泵或低温泵获得;可以采用PLC触摸屏控制系统或计算机控制系统。 系统主要配置:※ 多耙直流/射频磁控溅射※ 旋转工作台(可以升级为射频偏压工件台)※ 上溅射或下溅射可选※ 不锈钢真空室,带观察窗
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  • 射频消融导管弯曲疲劳试验装置用途射频消融导管弯曲疲劳试验装置是用于评估射频消融导管在使用过程中的弯曲疲劳性能的设备。射频消融导管是一种用于治疗心律失常的医疗器械,通过导管将射频能量传递到心脏组织中,以破坏异常的心脏电路。在实际使用过程中,射频消融导管需要经历反复的弯曲,因为它们需要穿过血管系统到达心脏。这种弯曲过程会对导管的材料和结构产生一定的应力和变形,可能会导致导管的疲劳损伤。射频消融导管弯曲疲劳试验装置能够模拟真实使用条件下导管的弯曲过程,并对导管进行反复弯曲测试。通过施加不同程度的弯曲应力和循环次数,装置可以评估导管的弯曲疲劳性能和耐久性。这种试验装置可以帮助制造商评估射频消融导管在长期使用中是否能够承受预期的弯曲应力,以及它们的寿命和可靠性。这样可以确保导管在临床应用中不会发生损坏或断裂,从而提供更安全和可靠的治疗选项。执行标准YY0778-2018技术参数内槽管尺寸:5MM--透明特氟龙管;水槽:亚克力制造;试验水:生理盐水;具有排水功能;外形尺寸:405*125*90mm 试验步骤将模拟装置平放在盛满生理盐水的容器中 去除模拟装置管内的气泡,使管内充满生理盐水 将导管的头电极端放人模拟装置的人口.慢慢插入导管 推拉手把使导管头端在标记1和标记2范围内来回移动要求的次数后取出
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  • 1.产品概述:Keysight 53200 系列包括 53210A、53220A 和 53230A 等型号,是新一代 350MHz 射频 / 通用频率计数器 / 计时器,可选 6GHz 或 15GHz 输入。该系列具备强大的分辨功能,在一秒选通的基础上,单次频率分辨率高达 12 位 / 秒,其中 53230A 型号的单次时间间隔测量的分辨率达到 20ps。所有型号都提供了内置分析和图形显示功能,且配备直观的用户界面和大型彩色图形显示屏。多种连通性任由选择,包括 LXI-C / 以太网、USB、GPIB,部分型号还可选配电池,从而提高便携性并保持时基准确度 。仪器现在内置 BenchVue 软件许可证(BV0011B),使连接和控制仪器以及自动执行测试序列变得更加简单。2.设备应用:汽车电子:用于汽车电子系统的研发和测试,如汽车电子控制单元(ECU)、传通信领域:在无线通信系统的研发、生产和维护中,用于测量射频信号的频率、周期、脉冲宽度等参数,以确保通信信号的准确性和稳定性。例如,对基站发射机和接收机的射频信号进行监测和分析,保证通信质量。雷达系统:可精确测量雷达发射信号的频率和脉冲参数,帮助优化雷达系统的性能。同时,在雷达信号处理和目标检测算法的研究中,提供准确的时间和频率数据支持。电子电路设计与测试:在电子电路的设计验证和性能测试中,可测量时钟信号的频率和周期,以及数字电路中脉冲信号的各种参数,帮助工程师分析电路的工作状态和性能指标。科研实验:为高校和科研机构的物理、电子等科研实验提供高精度的频率和时间测量工具,满足各种复杂实验对精确测量的需求,如原子钟的频率校准、量子物理实验中的时间测量等。 3.设备特点高分辨率与高精度:具有高频率分辨率和高精度的测量能力,能满足对频率和时间参数精确测量的要求。例如,53230A 型号的 12 位 / 秒分辨率和 20ps 时间间隔分辨率,可准确捕捉细微的频率和时间变化。内置分析和图形显示功能:提供直方图、趋势图等图形显示功能,以及数据记录和统计分析功能,帮助用户更直观地了解测量数据的分布和变化趋势,提升测量和分析速度 346。多种测量功能:支持频率、频率比、周期、时间间隔、上升 / 下降时间、脉冲宽度、占空比、相位、累加等多种参数的测量,满足不同应用场景下的测量需求 346。连续无间隙测量:能够进行连续 / 无间隙测量,并在信号边沿上具有时间戳,适用于基本调制域分析,可捕捉到信号的瞬态变化和调制信息 135。宽频率范围:频率范围可达 350MHz,通过选件还可扩展至 6GHz 或 15GHz,适用于不同频率范围的信号测量 346。良好的连通性:标配 LXI-C / 以太网、USB 等接口,部分型号可选 GPIB 接口,方便与其他设备进行连接和数据传输,易于集成到自动化测试系统中 134。用户友好界面:配备直观的用户界面和大型彩色图形显示屏,操作方便,显示清晰,便于用户设置参数和查看测量结果 345。 4.部分设备参数 型号53210A53220A53230A类型1 通道;可选射频通道2 通用通道;可选射频通道2 通用通道;可选射频通道测量功能频率、频率比、周期、输入电压最大值 / 最小值 / 峰峰值频率、频率比、周期、时间间隔、上升 / 下降时间、信号周期、脉冲宽度、占空比、相位、累加、时间戳 /mda频率、频率比、周期、时间间隔、上升 / 下降时间、信号周期、脉冲宽度、占空比、相位、累加、时间戳 /mda频率范围(可选)直流至 350MHz直流至 350MHz直流至 350MHz(6 或 15GHz)频率分辨率10 位 / 秒12 位 / 秒12 位 / 秒时间间隔分辨率无100ps20ps连通性USB、LAN 和 GPIBUSB、LAN 和 GPIBUSB、LAN 和 GPIB
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