金属离子器

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金属离子器相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 400-860-5168转5015
    北京艾博智业离子技术有限公司是以离子技术优势为基础,通过整合优势资源成立的专业离子技术应用公司。公司聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备研发及制造,在以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造领域沉浸多年,拥有专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验,形成了一套严谨、完整的产品的研发、生产、销售体系。公司对标国内外先进同行企业,多次研制出填补国内空白的产品,在知名高校院所和产业单位得到青睐。
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  • 中国博友纳米集团有限公司成立于2010年, 是一家集研发,设计,生产,销售及提供全面的售后服务为一体的高新技术环保纳米等离子喷涂设备、材料、技术公司。公司总部在湖南省,在北京顺义、江苏常州、浙江东阳、福建泉州、广东东莞建有分公司,印度和越南的分公司在2019年正式开张,公司已在中国贵州省黔东南州筹建10万平米以上研发生产和营销中心售后服务总基地及后续准备在贵州上市,海外其它国家的销售及技术服务分公司也在筹划中。我们的市场覆盖全球范围内的工艺品,塑料、塑胶、五金、玻璃、木材、陶瓷、家具,灯饰,汽车,装饰,电子电器等等各行各业领域任何需要喷涂效果的产品, 投入小,回报大,高新的技术和全面的技术支持和售后服务让我们的市场和业绩一直超高速的在增长。
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金属离子器相关的仪器

  • 雷磁SJB-802型便携式重金属离子分析仪雷磁SJB-802型便携式重金属离子分析仪,采用阳极溶出伏安法,既支持丝网印刷电极,又支持三电极测量,可应用于铅、镉、铜、砷、汞、锌、硒、锰、镍、铬等重金属的检测。该仪器拥有与原子吸收等大型仪器相近的检出限和检测灵敏度,设计新颖,体积小巧,操作简单,智能化程度高,误差小等特点。仪器所采用的丝网印刷电极,在检测过程中无需对电极进行预处理和维护,具有即插即用、即用即抛、低成本、高灵敏度和易于规模化生产等优点,可广泛应用于环境检测、社会安全和科学研究等领域,具有广泛的应用价值和广阔的市场前景。 【主要特点】采用4.3寸高清彩色液晶屏,菜单式操作,简单易上手可视化设计:自动标定、自动清洗,操作过程界面显示测量、标定、清洗等过程等待时间界面显示灵敏度选择不当时会作提示显示测量扫描曲线,便于读数分析采用阳极溶出伏安法,检出限低,最低可至0.1ppb采用三电极检测系统和印刷电极系统,配合上搅拌搅拌系统,确保检测准确性检测速度快,单次测量最快可在5分钟内完成内置快速测试、标准测试、标准添加等多种测量模式,检测方法可直接调用,快速测试模式三步完成检测,快速方便内置铅、镉、铜、砷、汞、锌、硒、锰、镍、铬10种离子的检测方法,直接调用;通过软件升级轻松拓展其它重金属离子检测方法符合GLP规范,支持数据存储、删除和查阅,最大存储量2000组,同时支持数据输出保存至SD卡具有标准USB通讯接口以及RexHM重金属分析软件,支持与PC连接和数据输出IP65防护等级,多种供电方式,支持4节5号可充电镍氢电池供电、USB端供电、外置式移动电源、USB车载电源;适于移动测量耗材自主开发,配套试剂满足不少于50次测量,成本优势明显 【技术参数】电极系统型号技术参数雷磁SJB-802型便携式重金属离子分析仪三电极系统测量范围锌、铅、镉、铜、砷:(0~1000)μg/L;可扩展至10mg/L;汞、镍、铬:(0~100)μg/L;可扩展至1mg/L;硒、锰:(0~500)μg/L;可扩展至5mg/L极化电压准确度不超过±1%或±5mV(≤0.5V且≥-0.5V)检测限铅、镉、砷、铜:≤0.5μg/L;锌、硒、锰、镍、铬:≤1μg/L;汞:≤0.1μg/L示值误差铅、镉、砷、铜、锌、硒、锰、镍、铬:不超过±5%或±5.0μg/L(≤100μg/L);汞:不超过±5%或±3.0μg/L(≤60μg/L)重复性≤3%电源电压变化对浓度测量值的影响偏差不超过±10%环境温度变化对极化电压的影响偏差不超过±0.5mV/℃印刷电极系统测量范围铅、镉、砷:(0~200)μg/L;汞:(0~100)μg/L极化电压准确度不超过±1%或±5mV(≤0.5V且≥-0.5V)检测限铅、镉:≤5μg/L;砷:≤10μg/L;汞:≤1μg/L示值误差铅、镉、砷:不超过±10%或±5.0μg/L(≤50μg/L);汞:不超过±10%或±3.0μg/L(≤30μg/L)
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  • 上海佑科ITS2000Z 重金属离子测定仪 仪器特点:1.采用5.6英寸彩色触摸屏搭配直观的GUI图形导航,符合用户操作使用习惯,便于用户上手使用。2.可测量多种水常规参数,六价铬、总铬、铜 锌、镍、铁、铅等,浓度直读,测量结果更准确。3.具备大容量存储功能,内置5条厂家曲线,195条扩展曲线,可存储5000条以上的实验数据,方便用户自由查看。4.独特的高精度滤光系统,使仪器更稳定,测量精度更高。5.内置热敏打印机,可打印当前数据及存储数据,为用户节约实验空间。6.采用冷光源,窄带干涉技术,光源寿命长达10W小时。7.搭配新款ARM9芯片,仪器反应更灵敏,容量更大可达500M内存。8.支持USB存储,方便用户存储数据。9.支持用户根据不同测量的需求自建曲线,分段系数K可根据测量需求调整。10.可搭配Lab-yy预制试剂,实验步骤大大减少,测量更轻松,数据更准确。检测项目依据国家行业标准。上海佑科ITS2000Z 重金属离子测定仪 仪器参数: 仪器型号 ITS2000Z 检测项目 六价铬、总铬、铜、锌、镍、铁、铅 波长精度 0.5nm 显示屏 5.6英寸彩色触摸屏 数据通信 USB接口、RS-232串口 打印机 内置热敏打印机ITS2000Z 重金属离子测定仪 检测项目及检测方法:测定项目测量范围测定方法重金属六价铬测定仪0.0- 5.0mg/L二苯碳酰二肼分光光度法总铬0.05-100mg/L(分段)二苯碳酰二肼分光光度法铜0-3.00mg/L二已基二硫代氨甲基酸钠分光光度法锌0.4-5mg/L锌试剂分光光度法镍0.05 - 3.00mg/L丁二酮肟分光光度法铁0.05-3.00mg/L邻菲罗啉分光光度法铅0-4.00mg/L二甲酚橙分光光度法
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  • 上海佑科ITS2000Z 重金属离子测定仪 仪器特点:1.采用5.6英寸彩色触摸屏搭配直观的GUI图形导航,符合用户操作使用习惯,便于用户上手使用。2.可测量多种水常规参数,六价铬、总铬、铜 锌、镍、铁、铅等,浓度直读,测量结果更准确。3.具备大容量存储功能,内置5条厂家曲线,195条扩展曲线,可存储5000条以上的实验数据,方便用户自由查看。4.独特的高精度滤光系统,使仪器更稳定,测量精度更高。5.内置热敏打印机,可打印当前数据及存储数据,为用户节约实验空间。6.采用冷光源,窄带干涉技术,光源寿命长达10W小时。7.搭配新款ARM9芯片,仪器反应更灵敏,容量更大可达500M内存。8.支持USB存储,方便用户存储数据。9.支持用户根据不同测量的需求自建曲线,分段系数K可根据测量需求调整。10.可搭配Lab-yy预制试剂,实验步骤大大减少,测量更轻松,数据更准确。检测项目依据国家行业标准。上海佑科ITS2000Z 重金属离子测定仪 仪器参数: 仪器型号 ITS2000Z 检测项目 六价铬、总铬、铜、锌、镍、铁、铅 波长精度 0.5nm 显示屏 5.6英寸彩色触摸屏 数据通信 USB接口、RS-232串口 打印机 内置热敏打印机上海佑科ITS2000Z 重金属离子测定仪 检测项目及检测方法:测定项目测量范围测定方法重金属六价铬测定仪0-1mg/L二苯碳酰二肼分光光度法总铬0-1mg/L二苯碳酰二肼分光光度法铜0-3.00mg/L(常量)5-200μg/L(微量)二已基二硫代氨甲基酸钠分光光度法锌0.4-5mg/L锌试剂分光光度法镍0.05 - 3.00mg/L丁二酮肟分光光度法铁0.05-3.00mg/L(常量)5-200μg/L(微量)邻菲罗啉分光光度法铅0-4.00mg/L二甲酚橙分光光度法
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金属离子器相关的资讯

  • 曾令文:核酸生物传感器在重金属离子检测中的应用
    仪器信息网讯 2015年6月17日,&ldquo 第四届中国食品与农产品质量安全检测技术国际论坛暨展览会&rdquo 在北京国家会议中心开幕。此次会议特别设置了&ldquo 食品与农产品中重金属元素和其他有害物质检测&rdquo 、&ldquo 食品与农产品安全微生物检测&rdquo 、&ldquo 饮用水安全检测&rdquo 等九个专题。大会第二天,来自中国科学院广州生物医药与健康研究院曾令文研究员在&ldquo 食品与农产品中重金属元素和其他有害物质检测&rdquo 专题中做了题为&ldquo 核酸生物传感器在重金属离子检测中的应用&rdquo 的报告。 专题现场 中国科学院广州生物医药与健康研究院 曾令文研究员   在报告中,曾令文首先介绍了重金属污染的危害、污染源和污染特点。他说,随着工农业生产的迅速发展,食品污染问题越来越严重,重金属是最主要的污染物质之一,会通过食物链的富集最终残留在人体内,对人体的组织器官构成了严重威胁。重金属污染源主要有工业污染、农业污染、生活污染和环境事故污染等。具有不可逆转性、生物积累性、难以降解、生物催化以后毒性会转变等特点。   同时曾令文提到,与其他国家相比,我国重金属污染相对比较严重。大气、土壤、水体都存在重金属污染的现象,污染一旦产生,面积会不断扩大。   其次,曾令文在报告中详细介绍了目前重金属的检测方法。据他介绍,传统重金属检测方法主要有光谱法、电化学法和基于显色螯合剂的方法等。光谱法主要包括原子吸收光谱法、原子发射光谱法、原子荧光光谱法和分光光度法等方法。光谱法和电化学法需要借助相关的仪器进行检测,具有灵敏度高、特异性好等优点。但是样品处理繁琐、检测成本和技术要求较高,不利于基层单位使用。而基于显色螯合剂的方法具有简便快速、成本低等优点,但是灵敏度不足、其他离子会干扰检测的特异性。   为了解决传统方法在检测重金属污染中面临的问题,在曾令文的带领下,课题组研制了两种新型生物传感器,基于核酸酶(DNAzyme)的传感器和基于荧光铜纳米颗粒的荧光传感器,并进行了大量实验验证方法的可行性和灵敏度。据他介绍,两种方法具有以下优点:简单、快速、检测成本较低 降低对仪器的依赖,肉眼即可观察结果 适合在基层实验室或野外使用等。   在介绍基于核酸酶(DNAzyme)的传感器在重金属检测中的应用时,曾令文说,该方法在检测重金属离子时主要有两种方法,试纸条法和荧光法。   试纸条法中主要制备了Pb2+和Cu2+特异性的DNAzyme检测试纸条,并进行相关实验进行检验。对于Pb2+来说,该方法检测限可以达到10pM,线性范围为10pM-100nM,特异性非常好,不受其他离子干扰,用湖水做回收率分析实验,结果可达88%-106%。对于Cu2+来说,该方法检测限可以达到10nM,特异性分析实验中,铜离子为0.3&mu M,其他离子为3&mu M。   荧光法中,主要制备了铜离子检测的荧光传感器和基于比色法检测铜离子的传感器,铜离子检测的荧光传感器的灵敏度可达12.8pM,线性范围是20pM-1&mu M,特异性分析实验中,铜离子为1&mu M,其他离子为10&mu M。基于比色法检测铜离子的传感器,灵敏度可达240nM,线性范围是0.4&mu M-100&mu M,特异性分析实验中,铜离子为10&mu M,其他离子为100&mu M。   在介绍基于荧光铜纳米颗粒的荧光传感器在重金属检测中的应用时,曾令文谈道,用该方法检测铅离子,灵敏度为5nM,线性范围为5-100nM,选择性分析实验中,铅离子为0.3&mu M,其他各离子为3&mu M。   最后,曾令文总结了基于核酸酶(DNAzyme)的传感器和基于荧光铜纳米颗粒的荧光传感器在进行重金属检测中的优点,并展望了两种方法在未来重金属检测中的应用前景。   编辑:张葳
  • 金属离子荧光成像研究前景广阔
    p   2015年7月20-24日,“第十七届国际生物无机化学会议”在北京国家会议中心盛大召开。本次会议由中国化学会和国家自然科学基金委员会主办,北京航空航天大学承办,会议以“生物无机化学:交叉和合作”为主题,设立5个分会场和若干卫星会,5个分会场又分别包含二到四个主题。会议规模大,参会人员来自世界不同国家的高等院校、化学或生物及相关领域的科研院所,具有很强的代表性和前瞻性。而面对无机生物化学领域如此众多的前沿研究方向,笔者更关注的是与疾病相关的金属离子的荧光成像技术。 /p p   实际上,金属离子对于机体的很多生命活动都是十分重要和必要的,细胞内金属离子动态平衡一旦失调就可能导致许多疾病,比如神经退行性疾病、癌症和糖尿病等。已经有研究发现,在神经退行性疾病患者的脑组织中有过渡金属离子的过多累积,比如铜、锌和铁离子。因此,如何获取这些金属离子在组织、细胞,甚至是细胞器中的分布和含量信息,对于理解某些疾病以及新的诊断方法的开发就显得尤为重要。 /p p   而荧光成像可通过一种非接触和无损伤的方式,为我们提供一种检测细胞内金属离子的独特方法,这种方法有很高的空间和时间准确性。在细胞生物学领域内,该方法在进一步理解金属离子的生理和病理功能方面具有广阔的应用前景。具体到荧光成像中的一个重要元素——荧光探针而言,它应具备以下几个功能:对于目标金属离子的高选择性、对金属离子浓度原位定量分析的宽的动态范围,以及描述金属离子在细胞内分布的细胞器靶向能力。 /p p   当前对于荧光探针的研究也主要集中在如何提高探针的灵敏度和选择性,扩展可检测金属离子的范围,发展新的检测机理等方面。以上这些趋势从本次会议的相关报告中也可略见端倪。 /p p   加利福尼亚大学伯克利分校的Christopher J. Chang博士当前正在开发一种新的分子成像方法,以用于研究调控大脑活动背后的化学原因。他的报告向听众展示了过渡金属和活性氧、硫、碳等作为新的化学信号来源方面的研究发现,以及它们对于神经回路的影响。此外,据笔者会下了解,该课题组还开发出一种新型铜离子探针—CF3,这种探针在敏感性和亲水性方面均有提高,可以分别用于单光子和双光子成像。据悉,他们已经将这种新探针用于共聚焦或双光子成像扫描,以检测大鼠海马组织和视网膜组织中的铜离子。 /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" Christopher J,ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/1202c167-b7b7-4f20-8265-42b2ea2e80c7.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong Christopher J. Chang /strong /p p   光活性分子的光解对于追踪细胞功能的复杂性和其动力学过程很有帮助,但目前大多数光解系统依赖于高强度紫外线或可见光来激发光活化过程。但是,短波长的光照射不可避免地会导致细胞损伤,并且组织穿透性较低,这些都限制了短波长光源在体内和体外生物系统研究中的应用。南洋理工大学的邢本刚博士为我们带来了一种解决上述问题的方法,该研究小组将多功能的生物活性官能团与镧系掺杂的纳米粒子结合形成颗粒共轭物。在近红外光(NIR)照射下,经由这些颗粒共轭物转化得到的锐利短发射光波能够有效地活化成像探针或相关载荷分子,因此产生明显的原位成像信号,或是得到针对体外和体内处理活化的有效功能。这种新平台有利于生物医学应用中前药活化的靶向控制,更重要的是可以在疾病早期治疗干预中做到实时成像。& nbsp /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" 邢本刚ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/0191be12-4399-410f-bb94-3c52178f6398.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong 邢本刚 /strong /p p   当前,不稳定Zn sup 2+ /sup 和硫化氢已被作为可产生光致信号的无机家族新成员。南京大学何卫江博士在报告中介绍了采用不同的策略来开发比例计量型荧光探针,以用于Zn sup 2+ /sup 和硫化氢的定量成像。这种比例计量成像显示出了对于Zn sup 2+ /sup 和硫化氢的诱人的选择性,从而可提供关于上述两种物质的更准确信息,对满足不同研究和促进它们在生物无机化学的发展方面具有十分重要的意义。 /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" 何卫江ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/07cd7f1d-6be9-4081-b776-ea100ad5de54.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong 何卫江 /strong /p p   印度塔塔基础研究所化学科学系的Ankona Datta博士的报告主要围绕Mn sup 2+ /sup 荧光探针。由于Mn sup 2+ /sup 与已知配体的亲和力比较低,并且Mn sup 2+ /sup 可以顺磁淬灭荧光染料,所以设计选择性Mn sup 2+ /sup 荧光探针依然是一个挑战。该研究小组将五氮大杂环配体(该五氮大杂环配体包含含氧的“手臂”)与一个BODIPY类荧光标签结合,这样一来,荧光染料初始时被淬灭,而一旦与Mn sup 2+ /sup 键合,则可以得到相当不错的荧光信号强度的增强。 /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" Ankona Datta,ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/c7520441-cf5b-4faf-8079-d67e77ed22e8.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong Ankona Datta /strong /p p   北京大学的张俊龙博士课题组研究兴趣集中在开发发光金属—Salen(螯合席夫碱)配合物,来用作荧光成像试剂。他们的探针选择锌作为金属发光配合物的中心金属,用于活细胞内质网的单分子成像。同时,该课题组也深入细致地研究了金属种类和细胞摄取以及亚细胞分布之间的关系。 /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" 张俊龙ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/9c1a7337-a597-47af-a204-04dea4215cd6.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong 张俊龙 /strong /p p   为了避免采用时间选通成像技术而导致的自体荧光,来自韩国梨花女子大学Youngmin You博士的研究小组开发了基于环金属铱(Ⅲ)配合物的磷光探针。譬如,他们将金属-螯合-二(2-吡啶甲基)氨基类受体引入到Ir(Ⅲ))复合物来制备Zn(Ⅱ)探针。此外,该研究小组还开发出针对具有氧化还原活性的Cu(Ⅱ)离子和& nbsp Cr(Ⅲ)离子的比例计量型磷光探针,以及可用于氧的光敏化过程和细胞器荧光染色的多功能磷光标签。 /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" youngmin you, ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/9ca3ec55-6b18-4544-94fe-10d3b7a45593.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong Youngmin You /strong /p p   为了考察不稳定铜离子池在一个生物环境中的性质,佐治亚理工学院Christoph J. Fahrni博士的研究小组开发了一套Cu(Ⅰ)选择性荧光探针和亲和标物。通过对配体结构和荧光标签性质系统的优化(关键步骤),得到了一个具有180倍荧光对比度的Cu(Ⅰ)选择性荧光探针,相应地,其检出限可低至亚ppt范围。 /p p style=" text-align: center " img width=" 450" height=" 300" title=" Christoph J ps.jpg" style=" width: 450px height: 300px " src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201507/insimg/0b255435-b52f-4462-81f5-e6a9e7bffb4a.jpg" border=" 0" hspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong Christoph J. Fahrni /strong /p p  & nbsp & nbsp strong & nbsp 编者按 /strong strong : /strong /p p   可以预见,金属离子探针未来的发展趋势是更多学科将参与进来,同时也需要生物医学应用的驱动,这就要求化学家和生物学家之间能够更加密切的合作。虽然存在挑战,但是为了能完全理解金属离子的功能,获得一个完整生物体内金属离子动态平衡的成像是很有意义的,也是很有趣的。目前,对于精准的细胞器定位,标准的荧光显微镜可达到的空间分辨率仍然是比较低的。然而,近期的超分辨率荧光显微技术的发展,为荧光探针创造了前所未有的新的发展可能。可以预计,在未来数年内,金属离子荧光探针的研究将得到更加快速的发展。 /p p style=" text-align: right " & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 编辑:史秀明 /p
  • 半导体材料无机非金属离子和金属元素解决方案——光刻胶篇
    半导体材料无机非金属离子和金属元素解决方案——光刻胶篇李小波 潘广文 近年来,随着物联网、人工智能、新能源汽车、消费类电子等领域的应用持续增长以及5G的到来,集成电路(integrated circuit)产业发展正迎来新的契机。集成电路制造过程中,光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%,是半导体制造中最核心的工艺。涉及到的材料包括多种溶剂、酸、碱、高纯有机试剂、高纯气体等。在所有试剂中,光刻胶的技术要求最高。赛默飞凭借其在离子色谱和ICPMS的技术实力,不断开发光刻胶及光刻相关材料中痕量无机非金属离子和金属离子的检测方案,助力光刻胶产品国产化进程。从光刻胶溶剂、聚体、显影液等全产业链,帮助半导体客户建立起完整的质量控制体系。 光刻胶是什么?光刻胶又称抗刻蚀剂,是半导体行业的图形转移介质,由感光剂、聚合物、溶剂和添加剂等四种基本成分组成。将光刻胶旋涂在晶圆表面,利用光照反应后光刻胶溶解度不同而将掩膜版图形转移到晶圆表面,实现晶圆表面的微细图形化。根据光刻机的曝光波长不同,光刻胶种类也不同。 光刻相关材料光刻相关材料主要有溶剂、显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂,这些材料被称为高纯湿电子化学品,是集成电路行业应用非常广泛的一类化学试剂。光刻胶常用溶剂有丙二醇甲醚/丙二醇甲醚醋酸酯(PGME/PGMEA)、甲醇、异丙醇、丙酮和N-甲基吡咯烷酮(NMP)等。常见的正胶显影剂有氢氧化钠和四甲基氢氧化铵等,对应的清洗剂是超纯水。 光刻胶及光刻相关材料中金属离子、非金属阴离子对集成电路的影响半导体材料拥有独特的电性能和物理性能,这些性能使得半导体器件和电路具有独特的功能。但半导体材料也容易被污染损害,细微的污染都可能改变半导体的性质。通常光刻胶、显影液和溶剂中无机非金属离子和金属杂质的限量控制在ppb级别,控制和监测光刻工艺中无机非金属离子和金属离子的含量,是集成电路产业链中非常重要的环节。 光刻胶及光刻相关材料中无机金属离子、非金属离子的测定方法国际半导体设备和材料产业协会(Semiconductor Equipment and Materials International,SEMI)对光刻胶、光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂等制定了严格的无机金属离子和非金属离子的限量要求和检测方法。离子色谱是测定无机非金属离子杂质(F-、Cl-、NO2- 、Br-、NO3- 、SO42-、PO43-、NH4+)最常用的方法。在SEMI标准中,首推用离子色谱测定无机非金属离子,用ICPMS测定金属元素。赛默飞凭借其离子色谱和ICPMS的领先技术,紧扣SEMI标准,为半导体客户提供简单、快速和准确的光刻胶和光刻相关材料中无机金属离子和非金属离子的检测方案,确保半导体产业的发展和升级顺利进行。针对光刻胶及光刻相关材料中痕量无机非金属离子和金属元素的分析,赛默飞离子色谱和ICPMS提供三大解决方案。 方案一 NMP、PGMEA、DMSO等有机溶剂中痕量无机金属和非金属离子的测定方案 光刻胶所用有机溶剂中无机非金属离子的限量要求低至ppb~ppm级别。赛默飞离子色谱提供有机溶剂直接进样的方式,通过谱睿技术在线去除有机基质,一针进样同时分析SEMI标准要求监控的无机非金属离子。整个分析过程无需配制任何淋洗液和再生液,方法高效稳定便捷,避免了试剂、环境、人员等因素可能引入的污染。ICS 6000高压离子色谱有机试剂阀切换流路图 滑动查看更多 光刻胶溶剂中ng/L级超痕量金属杂质的测定,要求将有机溶剂直接进样避免因样品制备过程引起的污染。由于 PGMEA 和 NMP具有高挥发性和高碳含量,其基质对ICPMS分析会引入严重的多原子离子干扰,并对等离子体带来高负载。iCAP TQs ICP-MS 中采用等离子体辅助加氧除碳,并结合冷等离子体、串联四级杆和碰撞反应技术,可有效去除干扰。变频阻抗式匹配的RF发生器设计,可轻松应对有机溶剂直接进样,并可实现冷焰和热焰模式的稳定切换。 冷焰TQ-NH3模式测定NMP中Mg热焰TQ-O2模式测定NMP中V NMP、PGMEA有机溶剂直接进样等离子体状态未加氧(左),加氧(右) 方案二 显影液中无机金属离子及非金属离子测定方案 光刻工艺中常用的正胶显影液是氢氧化钠和四甲基氢氧化铵,对于这两大碱性试剂赛默飞推出强大的在线中和技术,样品仅需稀释2倍或无需稀释直接进样,避免了样品前处理引入的误差和污染,对此类样品中阴离子的定量限达到10ppb以下。这一方法帮助多家高纯试剂客户解决了碱液检测的技术难题,将该领域的高纯试剂纯度提升到国际先进水平。中和器工作原理四甲基氢氧化铵TMAH是具有强碱性的有机物,作为显影液的TMAH常用浓度为2.38%, 为了避免样品处理中引入的污染,ICPMS通常采用直接进样方式测定。在高温下长时间进样碱性样品,会导致腐蚀石英炬管,引起测定空白值的提高。iCAP TQs使用最新设计的SiN陶瓷材料Plus Torch,耐强酸强碱,可一劳永逸地解决碱性样品中痕量金属离子的测定。新型等离子体炬管Plus Torch 方案三 光刻胶单体和聚体中卤素及金属离子测定方案 光刻胶单体和聚体不溶于水,虽溶于有机试剂但容易析出,常规方法难以去除基质影响。赛默飞推出CIC在线燃烧离子色谱-测定单体和聚体中的卤素,通过燃烧,光刻胶样品基质被完全消除,实现一次进样同时分析样品中的所有卤素含量。燃烧过程实时监控,测定结果准确稳定,满足光刻胶中痕量卤素的限量要求。图 CIC燃烧离子色谱仪SEMI P32标准使用原子吸收、ICP光谱和ICP质谱法来测定光刻胶中ppb级的Al Ca Cr 等10种金属杂质,样品前处理可采用溶剂溶解和干法灰化酸提取两种方法。溶剂溶解法是使用PGMEA等有机溶剂将样品稀释50-200倍,超声波振荡充分溶解后,直接进样测定。部分聚合物较难溶解于有机溶剂中,将采用500-800度干法灰化处理,并用硝酸溶解残留物提取。iCAP TQs采用在样品中添加内标工作曲线法测定,对于不同基质样品及处理方法的样品可提供准确的测定结果。 总结 针对集成电路用光刻胶及光刻相关材料,赛默飞离子色谱和ICPMS提供无机非金属离子和金属离子杂质检测的完整解决方案,为光刻胶及高纯试剂客户提供安全、便捷可控的全方位支持。“胶”相辉映,赛默飞在行动,助力集成电路产业发展,促进光刻胶国产化进程,欢迎来询! 参考文献:1.SEMI F63-0521 GUIDE FOR ULTRAPURE WATER USED IN SEMICONDUCTOR PROCESSING2.SEMI P32-1104 TEST METHOD FOR DETERMINATION OF TRACE METALS IN PHOTORESIST3.SEMI C43-1110 SPECIFICATION FOR SODIUM HYDROXIDE, 50% SOLUTION4.SEMI C46-0812 GUIDE FOR 25% TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE5.SEMI C72-0811 GUIDE FOR PROPYLENE-GLYCOL-MONO-METHYL-ETHER (PGME), PROPYLENE-GLYCOL-MONO-METHYL-ETHER-ACETATE (PGMEA) AND THE MIXTURE 70WT% PGME/30WT% PGMEA6.SEMI C33-0213 SPECIFICATIONS FOR n-METHYL 2-PYRROLIDONE7.SEMI C28-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR HYDROFLUORIC ACID8.SEMI C35-0118 SPECIFICATION AND GUIDE FOR NITRIC ACID9.SEMI C36-1213 SPECIFICATIONS FOR PHOSPHORIC ACID10.SEMI C44-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR SULFURIC ACID11.SEMI C41-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR 2-PROPANOL12.EMI C27-0918 SPECIFICATION AND GUIDE FOR HYDROCHLORIC ACID13.SEMI C23-0714 SPECIFICATIONS FOR BUFFERED OXIDE ETCHANTS

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