真空蒸发仪

1.设备概述EC400高真空蒸发镀膜设备是一台高精度的蒸发镀膜设备，主要用于在物体表面形成一层均匀的薄膜，以改变物体的性质和外观。该设备利用高真空环境下的物理过程，将金属材料蒸发成气体，并在物体表面沉积形成薄膜。2.主要组成部分真空室：用于提供高真空环境，确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰。蒸发源：内置金属材料（如铜、铝、银、金等），通过加热使其蒸发成气体。膜厚监测仪：用于实时监测薄膜的厚度，确保薄膜质量符合要求。样品台：用于放置待处理的物体，确保其在镀膜过程中的稳定性和位置准确性。真空获得系统：包括真空泵等组件，用于将真空室抽成高真空状态。真空测量系统：用于测量真空室内的气体压力等参数，确保设备的安全运行。气路系统：用于向真空室内通入工艺气体，如氮气等，以调节镀膜环境。PLC+触摸屏自动控制系统：实现设备的自动化控制和操作，提高工作效率和镀膜质量。3.技术特点高真空环境：确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰，提高镀膜质量。高精度控制：通过PLC+触摸屏自动控制系统，实现蒸发源加热温度、沉积时间等参数的精确控制。多功能性：可制备多种类型的薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。结构紧凑：设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。4.应用域EC400高真空蒸发镀膜设备在多个域具有广泛的应用，包括但不限于：纳米薄膜制备：用于开发纳米单层、多层及复合膜层等。材料科学：制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，如银、铝、铜、C60、BCP等材料的薄膜。高校与科研院所：用于教学、科研实验及新产品开发等。工业生产：在钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业中，用于制备高质量的薄膜材料。

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

1. 产品概述Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作，适用于研究开发及少量生产。2. 设备用途/原理Power Device等化合物相关。LED、LD、高速device。各种实验用。其他各种电子部件。3. 设备特点 可搭载多样蒸发源（EB、电阻式、EB+电阻式）。对应不同制程可选多种基板holder（lift-off、行星式、卫星式等）。φ2 in〜 6 in基板、矩形基板、Si、化合物、glass、陶瓷灯各种基板对应。液晶触控板集中现实操作。集成电脑拥有优异的操作性和性能（recipe功能、data-logging、maintenance assistant功能）。

仪器简介：真空蒸发系统减少样品体积，可用于农业化学、真菌学试验、和环境试验中。一次可处理多达110个样品；微处理器控制运动把暴沸的可能及样品损耗减至极小。当到达预定时间或样品接近干燥时，报警会响。型号26854-10 和 –15有一个盖子加热器，当蒸发高沸点溶剂时，可消除冷凝现象，改善可见度。随机配备： 3英尺1/2英寸内径真空软管, 2个软管夹, 盖子插座, 1个6 1/2英尺、3芯带插头的电源线。230 伏交流型号的包括一个 15安插头。需要蒸发试管架、真空泵、和样品试管，请单独订购。所有装置都有一个选件RS-232连线，以便您在电脑上设定参数。技术参数：2685405真空蒸发系统，230 伏交流，50/60 赫兹，3.5 安20.75英寸宽 x 13.5英寸高x 18.375英寸深工作电压：230 伏交流，50/60 赫兹，3.5 安最大温度100摄氏度最大真空度999毫巴定时器范围：1至999分钟主要特点：1000瓦加热器快速把样品烘干或加热到一个终馏点体积方便的、设定容易的编程，可存储最多9个程序使用一个理想的效力组合－涡流运动、加热、和真空度－加工多种样品在键区设定时间、加热、速度利用可编程特性，您可以在一个程序执行过程中，更改参数值。

产品详情Denton 热蒸发溅射仪DV-502BDV-502B 高真空蒸发器平台DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。全球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。DV-502B系统在大气和高真空之间快速循环。DENTON 的高真空蒸发器平台&bull 样本准备&bull R & D&bull 批量生产&bull 内联生产&bull 蒸发&bull 溅射&bull PE-CVD DENTON 的区别你们的过程就是我们的过程。我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。&bull 我们的系统规模可以满足您的生产需求&bull 我们永远相信客户&bull 全球支持网络 在DENTON，我们关心你的成功&bull 专业安装可用的&bull 个性化培训可用&bull 实时支持&bull CE / UL / CSA兼容系统典型的应用蒸发&bull 用于TEM和x射线分析的高真空碳涂层&bull 碳支持电影&bull 碳铂副本&bull 孔清洗&bull 旋转跟踪&bull 石棉分析&bull 电阻蒸发&bull 故障分析&bull 高纯度超薄膜没有任何可见的污染为电子显微镜准备样品时。快速循环次数不到3分钟,dv - 502 b达到10 -?托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。强大的控制系统PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。各种各样的金属蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。多个泵配置各种泵的配置，可适用于您的预算和过程。 DV - 502B 选项

小型高真空不锈钢腔体热蒸发镀膜仪CY-EVP180G-HV本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪，蒸发温度从200℃到1700℃，采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。上盖装有可旋转的样品台，能够有效提高成膜的均匀度。仪器拥有高精度的温度控制系统，采用循环加热方式，能够稳定蒸发金属及有机物。采用不锈钢高真空腔体设计，配高精度分子泵，能够达到高真空要求，较高的真空度能够有效提升蒸发镀膜的效率及质量小型高真空热蒸发镀膜仪用途： 本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。

【美国Organomation蒸发浓缩仪详细说明】 美国Organomation平行蒸发仪、浓缩仪S-EVAP-KD系列： 美国Organomation蒸发浓缩仪有多种型号可选：独立回收(5，8，10位)；中央回收(5，8位) 可同时处理最多10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选； 尺寸紧凑，最大限度节约您宝贵的实验台空间； 真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，最大97%的溶剂回收效率； 平行性好：样品处理条件高度一致，平行性极佳； 无交叉污染：单独处理，不受外界污染； 旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节； 真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小 美国Organomation蒸发浓缩仪主要特点 * 平行性好：样品处理条件高度一致，平行性极佳 *样品处理量大：可同时处理最多10个不同样品，溶剂瓶125ml至1000ML多种规格可选 *无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染 * 氮吹功能：具有传统氮吹仪功能(氮吹型) * 真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，最大97%的溶剂回收效率 * 2大系列6种型号：独立回收(5，8，10位)；中央回收(5，8，10位) * 可处理单个样品或同时处理多个样品，选择更加灵活 *适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等 * 旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节 *真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小 整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统(选配)组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收最高沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用於回收沸点高达90℃的溶剂。 装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全，该装置已通过了美国和加拿大最有权威的UL/CUL认证。 美国Organomation蒸发浓缩仪应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩 在目前的大多数实验室中，操作人员经常需要使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。美国Organomation公司生产的S-EVAP-KD系列平行蒸发/浓缩仪即专为此设计：它可对最多10个样品进行单独或者集中密闭蒸发/浓缩，快速有效的回收溶剂，降低了多个样品的总蒸发时间，增加了处理量，显著节省了操作时间和实验资源，并且安装简便、使用灵活，可满足各种要求溶剂蒸发/浓缩的实验室需求。由于处理条件高度一致，因此平行性也更好。旋转型的溶剂回收装置提高了蒸发仪的灵活性，使操作更为方便，减少了实验室的占用空间。 美国Organomation蒸发浓缩仪,平行蒸发仪,进口浓缩仪

仪器简介：包括：旋转蒸发器、真空蒸发器、离心浓缩系统等 有自动和手动定位方式，升降轻松、定位简单牢靠； 如果功率不足，标准电机自动将旋转瓶从水浴中抬升； 冷却器冷却效果卓越，浓缩回收稳定； 启动平稳，减少了液体喷洒的机会； 温度控制范围从20℃到180℃，多种规格可选； 旋转瓶容量从50ml 到 7L； 加热功率1440瓦； 底座、升降系统、玻璃部件以及浴锅等设计合理紧凑，占用空间少。

美国Organomation平行蒸发/浓缩仪详细说明 美国Organomation公司生产的S-EVAP-RB系列平行蒸发/浓缩仪集中密闭蒸发/浓缩，快速有效的回收溶剂，降低了多个样品的总蒸发时间，增加了处理量，显著节省了操作时间和实验资源，并且安装简便、使用灵活，可满足各种要求溶剂蒸发/浓缩的实验室需求。由于处理条件高度一致，因此平行性也更好。旋转型的溶剂回收装置提高了蒸发仪的灵活性，使操作更为方便，减少了实验室的占用空间。 Organomation平行蒸发/浓缩仪有三种型号可选：独立回收(5，8，10位) 可同时处理最多10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选； 平行性好：样品处理条件高度一致，平行性极佳； 尺寸紧凑，最大限度节约您宝贵的实验台空间； 适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等； 真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，最大97%的溶剂回收效率； 无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染； 旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节； 真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小 Organomation根据不同的需求可以将每一规格的基础型号做如下变动： -V：带真空系统和连接管； -N：带氮吹功能； -Z：内安全式、清扫式浴锅 Organomation平行蒸发/浓缩仪整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统(选配)组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收最高沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用于回收沸点高达90℃的溶剂。圆形不锈钢水浴温度可调节并可控制，在30℃～100℃的温度范围内可准确保持恒定水温。 装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全。可选用电子GFCI插头。该装置已通过了美国和加拿大最有权威的UL/CUL认证。 Organomation平行蒸发/浓缩仪应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩。 Organomation平行蒸发浓缩仪,平行蒸发/浓缩仪,进口蒸发/浓缩仪

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。产品型号六源有机无机联合蒸发镀膜设备主要特点1、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，最高烘烤加热温度为：室温～180℃，测温控温。2、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统： 真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa； 系统漏率≤1×10-7PaL/s。3、蒸发源系统： 有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw； 挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启； 安装：蒸发源安装在真空室的下底上。4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；样品架可旋转，旋转速度为：0～30转/分；安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜，蒸发源都带有挡板装置。7、 5、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；8、 6、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?。

仪器简介：Multivapor P-6 是一台可在真空条件下对多达 6个样品进行平行蒸发的小型仪器，可优化现有个人操作流程。若与 Rotavapor 旋转蒸发仪配套使用，将如虎添翼，功能更强，而且占用空间小。即使没有 Rotavapor 旋转蒸发仪，MultivaporTM P-6 本身也不失为个人操作的好帮手。 Rotavapor 组合装置 扩大协同，减少占用空间 在大多数实验室中，操作人员经常使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。MultivaporTM P-6 即专为此设计：它可对多达 6 个样品单独密封并进行处理，并将蒸汽转移到旋转蒸发仪的冷凝器装置中，从而提高了 Rotavapor 旋转蒸发仪的适用性，降低了多个样品的总蒸发时间，显著节省了时间与资源，减少了占用空间。 MultivaporTM P-6 全面独立的台式解决方案 MultivaporTM P-6 包括一个外围真空源，并带有控制器。将温度探头（选装件）垂直插入盘管冷凝器，再配以精密 I-300/I-300 Pro真空控制器，通过自动调节，即可自动蒸馏多达 6 个复杂溶剂混合物样品。 技术参数：功耗：800 W 电气要求 100-240 V，50-60 Hz 温度范围：室温至95℃ 温度偏差：+/-3 ℃ 旋转速度：0-370 rpm样品处理量：0-150 ml 与样品接触的材料 PETP（或 PEEK）、PTFE、PFA、玻璃 主要特点：节省时间：一次处理 6 个样品 扩大协同，降低成本：一个冷凝器和真空装置即可用于两台仪器。 减小占用空间：一次处理 6 个样品适合大样品处理量 单独密封，无交叉污染 全面解决方案：Multivapor 、温度分步探头、泵和控制器协同工作 只需很少的照看：几乎无需对仪器进行干预 与氮吹仪相比，真空蒸发符合 ISO 14000的规定以及环保要求。

仪器简介：Multivapor P-12 是一台可在真空条件下对多达 12 个样品进行平行蒸发的小型仪器，可优化现有个人操作流程。若与 Rotavapor 旋转蒸发仪配套使用，将如虎添翼，功能更强，而且占用空间小。即使没有 Rotavapor 旋转蒸发仪，Multivapor&trade P-12 本身也不失为个人操作的好帮手。 Rotavapor 组合装置 扩大协同，减少占用空间 在大多数实验室中，操作人员经常使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。MultivaporTM P-12 即专为此设计：它可对多达 12 个样品单独密封并进行处理，并将蒸汽转移到旋转蒸发仪的冷凝器装置中，从而提高了 Rotavapor 旋转蒸发仪的灵活性，降低了多个样品的总蒸发时间，显著节省了时间与资源，减少了占用空间。 MultivaporTM P-12 全面独立的台式解决方案 MultivaporTM P-12 包括一个外围真空源，并带有控制器。将温度探头（选装件）垂直插入盘管冷凝器，再配以精密I-300/I-300 Pro 真空控制器，通过自动调节，即可自动蒸馏多达 12 个复杂溶剂混合物样品。技术参数：功耗：800 W 电气要求：100-240 V，50-60 Hz 温度范围：20-95℃ 温度偏差: ±3℃ 旋转速度：0-485 rpm 试管尺寸：内径：16-30 mm，长：110-170 mm 与样品接触的材料 PETP（或 PEEK）、PTFE、PFA、玻璃主要特点：节省时间：一次处理 12 个样品 扩大协同，降低成本：一个冷凝器和真空装置即可用于两台仪器。 减小占用空间：一次处理 12 个样品只需额外增加 26 x 40 cm 的空间 单独密封，无交叉污染 全面解决方案：Multivapor 、温度分步探头、泵和控制器协同工作 只需很少的照看：几乎无需对仪器进行干预 与氮吹仪相比，真空蒸发符合 ISO 14000的规定以及环保要求。

Multivapor P-12是一台可在真空条件下对多达 12 个样品进行平行蒸发的小型仪器，可优化现有个人操作流程。若与Rotavapor旋转蒸发仪配套使用，将如虎添翼，功能更强，而且占用空间小。即使没有Rotavapor旋转蒸发仪，Multivapor P-12本身也不失为个人操作的好帮手。 Rotavapor组合装置扩大协同，减少占用空间。 在大多数实验室中，操作人员经常使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。Multivapor P-12即专为此设计：它可对多达12个样品单独密封并进行处理，并将蒸汽转移到旋转蒸发仪的冷凝器装置中，从而提高了Rotavapor旋转蒸发仪的灵活性，降低了多个样品的总蒸发时间，显著节省了时间与资源，减少了占用空间。 Multivapor P-12全面独立的台式解决方案：Multivapor P-12包括一个外围真空源，并带有控制器。将温度探头（选装件）垂直插入盘管冷凝器，再配以精密V-855真空控制器，通过自动调节，即可自动蒸馏多达12个复杂溶剂混合物样品。 主要特点- 节省时间：一次处理12个样品- 扩大协同，降低成本：一个冷凝器和真空装置即可用于两台仪器。- 减小占用空间：一次处理12 个样品只需额外增加 26 x 40 cm 的空间- 单独密封，无交叉污染- 全面解决方案：Multivapor、温度分步探头、泵和控制器协同工作- 只需很少的照看：几乎无需对仪器进行干预- 与氮吹仪相比，真空蒸发符合ISO 14000的规定以及环保要求 技术参数功耗 600 W 电气要求 100~240 V，50~60 Hz 温度范围 室温至95℃温度偏差 ±3℃旋转速度 20~485 rpm 试管尺寸 内径16~30 mm，长110~170 mm 与样品接触的材料 PETP（或PEEK）、PTFE、PFA、玻璃

仪器简介：全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等；电子束蒸发系统：1.膜电子束蒸发系统E -Beam Evaporation System2.高真空电子束蒸发系统High Vacuum E -Beam Evaporation System3.超高真空电子束蒸发系统Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System4.离子辅助蒸发系统Ion Beam Assisted Evaporation System5.离子电镀系统Ion Plating System6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System7.在线电子束蒸发系统In-line E -Beam Evaporation System技术参数：1.电子束源&电源 单个或者可自由切换换电子束源： --蒸发室数量 1 ~ 12(标配: 4, 6) --坩埚容量：7 ~ 40 cc (最大可达200 cc) --标准：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) --最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于长时间的沉积 --偏转角度：180o, 270o --输出功率：6, 10, 15, 20 kW --支持两个或者三个电子束源在一个系统上 --可连续或者同时沉积两种或三种材料 --高速率沉积 2.薄膜沉积控制： IC-5 ( or XTC, XTM) 和计算机控制 --沉积过程参数可控 --石英晶体振荡传感器 --光学检测系统用于光学多层薄膜沉积：测量波长范围350-2000 nm，分辨率1 nm --薄膜厚度检测和处理过程可通过计算机程序控制 --薄膜厚度检测和沉积速率可通过计算机程序控制 --支持大面积沉积 --支持在线电子束蒸发沉积 --基底尺寸：20~100英寸 --薄膜均匀性 ±1.0 to 5.0 % 3.真空腔体： --圆柱形腔体 --直径：φ500 ~ 1,500 mm --高度：800 ~ 1500 mm --方形腔体 --根据客户的需求定制 4.真空泵和测量装置： --低真空：干泵和convectron真空规 --高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规 --超高真空：双级涡轮分子泵，离子泵和离子规 5.控制系统PLC和 触摸屏计算机： --硬件: PLC, 触摸屏计算机 --包括模拟和数字输入/输出卡 --显示器: LCD --自动和手动程序控制 --程序控制：加载，编辑和保存 --程序激活控制： --泵抽真空，蒸发沉积，加热， 旋转等 --膜厚度检测和控制多层薄膜沉积 --系统状态，数据加载等 --问题解答和联动状态扩展功能：1、质量流量控制器：反应和等离子体辅助惰性气体控制 2、离子源和控制器：等离子体辅助沉积 3、射频电源：基底预先处理 4、温度控制器：基底加热 5、热蒸发器：1 or 2 boat 6、蒸镀源cell：1 or 2 for doping 7、冷却器：系统冷却

用途：本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜。特 别适合小型企业、科研单位和高校使用。主要技术参数：1. 真空室： 300*300*550mm 方箱形；2. 样品尺寸：φ150mm（根据客户订制）；3. 样品台：水冷样品盘可旋转 0-60 转/分可调，样品台配独立挡板；4. 极限真空度：优于 6.67*10-5Pa 5. 抽气时间：大气压~8*10-4Pa 小于 30min；6. 蒸发：二套蒸发源配一套 2KW 电源（一套可切换）；7. 开启方式：前面开启门设计，便于换丝及装料；8. 真空系统：机械泵+分子泵；9. 膜厚测量仪：进口英福康 SQM160，含探头一套。设备结构介绍：该设备由真空室、真空机组和电气系统组成。1. 真空室方箱形腔体前开门侧面抽气结构，304 不锈钢材质，配φ100 观察窗，方便更换蒸发材料（含防污挡板）、预抽接口、充气接口；内部有底板、蒸发源（三组蒸发源相互隔离避免交叉污染），蒸发源上配有独立自动挡板装置等；2. 真空系统采用莱宝450i分子泵+8L机械泵。采用真空波纹管连接，配有复合式数显真空测量仪表。3. 电气系统电气系统包括真空机组控制、蒸发与烘烤控制、真空测量控制等部分组成。有安全互锁机构，有效防止误操作发生。系统配有 2 套蒸发电源（一套可切换），通过切换选择上电。4. 膜厚测量装置：采用石英晶振膜厚仪及水冷探头一套。5. PLC+触摸屏控制系统，可实现一键抽真空，一键关机。

US 8061 056 B2 革命性蒸发技术专利 采用独家自动放空技术Self-generated blow-down, 热冷同步双循环系统，轻组分加热旋转双重过程中，随产生的负压流动气流离心逃逸，同时被standby 密闭循环冷阱系统收集，设计巧妙静音高效，全过程无需真空泵无暴沸，完全密闭安全无泄漏，堪称蒸发技术革命。 非真空蒸发：冷热双循环，无低真空暴沸，样品无交叉污染损失。 毒性和放射性：溶剂蒸汽密闭安全回收、无有毒物损失，循环污染。 程序定时控温：预设蒸发时间，温控0 - 55℃，时间 0 - 1000 min。一键式操作：避免样品运行完全干燥，无需看管。节约成本。简便紧凑设计：静音低能耗，无需通风橱，直接置于试验台。美国技术产品合作 培安公司和专利持有者合作生产EVAPT 5 蒸发器，采用最新SBT 专利的蒸发/ 浓缩/ 干燥系统，为目前世界上功能最强的蒸发系统。培安公司永远秉持客户至上的理念，致力于浓缩系统的制造，为市场提供最新工艺的蒸发系统，其技术的先进性和产品的可靠性成为行业中的佼佼者。转子结构紧凑规格多样 EVAPT 5 蒸发/ 浓缩/干燥系统 占地面积仅有8"× 12"， 高18"，只需要很少的工作台、通风橱空间，可将其放置辐射室内。转子规格多样， 系统内可容纳6× 20ml 闪烁瓶；8× 1.6ml 微离心管；6× 16mm× 100mm 试管；8× 4ml (1 dram)样品瓶6× 30ml 闪烁瓶；4× 40ml 闪烁瓶；10× 1.5ml HPLC 样品瓶，转子可定制。应用范围 特别适用于生命科学、中西制药、合成化学、分析等领域，包括有毒化合物反应、放射性同位素物质、有机合成反应、RNA/DNA纯化、蛋白质浓缩、低温反应、色谱分析、HPLC 等样品快速浓缩。

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的卓越设备。1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用专用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：140-200mm11、冷却水需量：15L/min12、样品台加热温度：室温～500℃，可自动控温，测温产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的卓越设备。1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用专用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：140-200mm11、冷却水需量：15L/min12、样品台加热温度：室温～500℃，可自动控温，测温产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的首选设备。1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1&angst 。7、可使用循环水冷机。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：Ø 300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：Ø 100mm，采用专用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：140-200mm11、冷却水需量：15L/min12、样品台加热温度：室温～500℃，可自动控温，测温产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

产品简介：美国Organomation公司创办于1959年，是一家创新型技术公司，累积五十多年的样品前处理设备制造经验。Organomation公司生产出的实验室分析仪器以其创新的设计，优良的品质和实用的效果在全球享有很高的声誉。S-EVAP-RB系列平行蒸发/浓缩仪集中密闭蒸发/浓缩，快速有效的回收溶剂，降低了多个样品的总蒸发时间，增加了处理量，显著节省了操作时间和实验资源，并且安装简便、使用灵活，可满足各种要求溶剂蒸发/浓缩的实验室需求。由于处理条件高度一致，因此平行性也更好。旋转型的溶剂回收装置提高了蒸发仪的灵活性，使操作更为方便，减少了实验室的占用空间。整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统(选配)组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收最高沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用于回收沸点高达90℃的溶剂。圆形不锈钢水浴温度可调节并可控制，在30℃～100℃的温度范围内可准确保持恒定水温。装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全。可选用电子GFCI插头。该装置已通过了美国和加拿大最有权威的UL/CUL认证。应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩。技术特点：1)三种型号可选：独立回收(5，8，10位) ；2)可同时处理最多10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选；3)平行性好：样品处理条件高度一致，平行性好；4)尺寸紧凑，节约您宝贵的实验台空间；5)适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等；6)真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，*97%的溶剂回收效率；7)无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染；8)旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节；9)真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小。技术规格：S-EVAP-KB中央回收系列Cat No858仪器尺寸(W×D×H)61×56×76cm61×56×76cm66×61×76cm玻璃器具套装*GS2162GS2163GS2162A：溶剂瓶平底圆形烧瓶250ml平底圆形烧瓶500ml平底圆形烧瓶250mlB：冷凝管Inverted Hopkins冷凝管260mmC：收集管平底圆形烧瓶250ml平底圆形烧瓶500ml平底圆形烧瓶250ml*玻璃器具套装包括A、B、C、D四种玻璃器具加热系统内部尺寸（直径×深度）30.5×11.5cm40.6×11.5cm外部尺寸（D×H）41×18cm48×15cm*功率（W）100010001400温控类型机械调温机械调温数控、LED显示温度范围30-100℃控温精度±2℃±0.5℃

高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权，效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。适用于EDS样品制备；EBSD样品制备；MLA系统样品制备；其它需要制备碳膜的领域。全自主支持产权效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀应用领域：1、EDS样品制备2、EBSD样品制备3、MLA系统样品制备4、其它需要制备碳膜的领域技术参数：人机界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏蒸发源高纯碳纤维（选配碳棒）蒸发源数量1-4根（更多请咨询厂家）工作模式连续、脉冲操作方式全自动一键操作真空系统涡轮分子泵+旋片泵极限真空≤5E-3Pa工作真空＜0.1Pa抽气节拍＜3分钟真空室~φ170×130mm其它样品台旋转、样品温度检测、蒸发除气等

S-EVAP-RB系列平行蒸发仪一、仪器介绍：平行蒸发仪整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统（选配）组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用于回收沸点高达90℃的溶剂。圆形不锈钢水浴温度可调节并可控制，在30℃～100℃的温度范围内可准确保持恒定水温。 装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全。可选用电子GFCI插头。该装置已通过了美国和加拿大UL/CUL认证。 二、应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩。 三、主要特点： 三种型号可选：独立回收（5，8，10位） 可同时处理10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选； 平行性好：样品处理条件高度一致，平行性很好； 尺寸紧凑， 适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等； 真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，97%的溶剂回收效率； 无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染； 旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节； 真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小 四、技术参数：技术规格： S-EVAP-RB独立回收系列样品位数 8 5 10 仪器尺寸(W×D×H) 61×56×76cm 61×56×76cm 66×61×76cm 玻璃器具套装* GS2162 GS2163 GS2162 A：溶剂瓶平底圆形烧瓶250ml 平底圆形烧瓶500ml 平底圆形烧瓶250ml B：冷凝管Inverted Hopkins冷凝管375mm C：收集瓶 平底圆形烧瓶250ml 平底圆形烧瓶500ml 平底圆形烧瓶250ml *玻璃器具套装包括A、B、C三种玻璃器具加热系统内部尺寸（直径×深度）30.5×11.5cm 30.5×11.5cm 40.6×11.5cm 外部尺寸（D×H） 41×18cm 41×18cm 48×15cm 功率（W） 1000 1000 1400 温控类型机械调温 机械调温 数控、LED显示温度范围（℃） 30-100 控温精度（℃） ±2 ±2 ±0.5 真空系统装置：-V可选可选 不可选带氮吹功能：-N可选可选 可选内安全式、清扫式浴锅：-Z 可选可选 可选

德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空 可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSphere加强型-近超高真空 我公司专业销售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品，并提供产品的售前售后服务，如您对高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品感兴趣，欢迎前来咨询！

一、 产品简介 KORVUS HEX系列PVD真空镀膜系统采用开放式架构，高度模块化，能够提供多种沉积选项。基于基础系统，通过配置不同的模块，可以在一台设备上同时实现真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。这种独特设计操作简单，易于安装，为科研人员提供了一个非常具有成本效益的解决方案。二、 产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小三、 主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，旋转加热台、水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2四、主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件 五、 PVD热源简介（1） FISSION磁控溅射源 Fission磁控溅射源能够快速、无污染地沉积金属或介电薄膜。水冷和气体连接采用快速释放连接器，并消除了每次从腔室中移除源时排放冷却水的危险和不便。Fission 源可以在 DC 模式和 RF 模式下运行。可以引入气体，允许在靶材表面附近实现更高的分压，从而降低沉积过程中所需的整体腔室压力。磁控溅射可用于溅射所有（固体）金属、绝缘体和半导体。可以在一个系统中使用多个来源以生长多层或复合材料薄膜- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 TAU 蒸发源非常小巧，无需使用光束弯曲的电磁铁。TAU可以直接轰击靶材棒，也可以轰击位于坩埚里金属材料。TAU 仅被推荐用于厚度从亚原子厚度到 200 纳米的金属薄膜蒸镀。- 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源 材料在低温 (50-600℃) 下的蒸发需要设计为在此范围内运行的专用热源。传统的蒸发源可在 1000℃ 的温度下最有效地运行，这要求将传导热损失保持在最低水平。在较低温度下，辐射损耗显着降低，传统电池中的控制回路会出现过冲和缓慢的温度变化。 ORCA 低温蒸发源采用主动冷却坩埚，以确保加热过程与强烈的反向冷却过程相平衡，从而实现出色的温度稳定性和控制。 坩埚由高导热材料制成，确保不会出现会影响蒸发速率的热点。可选地，可以使用氧化铝或石墨材料。移除/更换坩埚非常简单。 K 型热电偶插入坩埚主体，与典型的接触式布置相比，可提供更准确的读数。该沉积源可与电子束源、热蒸发源或溅射源结合使用。采用冷却的屏蔽帽将热串扰保持在最低限度。- 坩埚容积：15cc- 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源 热蒸发不需要工艺气体，因此该工艺可以在非常高的真空条件下进行，极少的杂质会被沉积到薄膜之中。热蒸发可以很方便补充要蒸发材料。材料可以是颗粒、粉末或涂层线圈/细丝的形式。蒸发皿和灯丝也可以轻松高效地进行更换。每个源都可以配备手动或自动快门。HEX 腔室最多可容纳三个源，HEX-L 最多可容纳六个。这些热源还可以与其他技术结合使用，例如溅射、电子束沉积和低温有机物沉积源。- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW） 六、 样品台简介 七、 操作软件简介 八、 快速降压及配件展示 九、 手套箱集成展示 Korvus Technology 在高真空和超高真空领域拥有 超过 20 年的经验。Korvus Technology 在全球安装 了 100 多个 HEX 系列系统，始终处于 PVD 行业的 前沿。Korvus 现在是 Judges Scientific 集团的一部 分，同时仍然是一家独立运营公司。这使得 Korvus 能够灵活应对客户的研究挑战，并延续其以客户为 中心的文化。

1.产品概述：该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。2.设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等域。蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。3.真空室：真空室结构:方形开门真空室尺寸:400×400×450mm限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:3个钨舟、2个有机源样品尺寸，温度:4寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约2.5米×1.2米×1.8米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

1. 产品概述：高真空电子束蒸发薄膜沉积系统是一种先进的物理气相沉积（PVD）技术设备，主要用于在超高真空环境下，通过电子束加热蒸发源材料，使其蒸发并在基片表面沉积形成薄膜。该系统广泛应用于物理学、材料科学、动力与电气工程等域，特别适用于纳米材料、太阳能光伏电池、半导体器件等高精度薄膜的制备。2 设备用途/原理：1. 薄膜制备：该系统能够制备各种金属、半导体、氧化物等材料的薄膜，满足不同材料和器件的制备需求。2. 科学研究：在材料科学研究中，用于探索新材料、新结构的物理和化学性质。3. 工业生产：在半导体、光电子、太阳能电池等行业中，用于大规模生产高精度、高质量的薄膜产品。3 设备特点CMP抛光机具有以下几个显著特点：1 高真空度：系统能够达到高的真空度（≤6.0E-5Pa），有助于减少薄膜制备过程中的杂质和气体干扰，提高薄膜质量。2 电子束加热：采用电子束加热技术，具有热效率高、束流密度大、蒸发速度快等优点，能够蒸发高熔点材料，制备高纯薄膜。3 多源蒸发：系统配备多个蒸发源（如6个40cc坩埚），可同时或分别蒸发多种不同材料，实现多层膜的均匀沉积。4 精确控制：配备高精度的膜厚监控仪和控制系统，能够实现对薄膜厚度、成分和结构的精确控制，确保薄膜的均匀性和一致性。5 灵活定制：样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架等多种选择，可根据用户基片尺寸设计工件架。6 稳定可靠：系统整体设计合理，结构紧凑，具有良好的设备稳定性和可靠性，以及完善的售后及质保服务。综上所述，高真空电子束蒸发薄膜沉积系统以其高真空度、高精度、多源蒸发和灵活定制等特点，在薄膜制备域具有广泛的应用景和重要的科学价值。4 特色参数：本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。真空室结构:U形开门真空室尺寸:700x700x900mm限真空度:≤6.6E-5Pa沉积源:6个40cc坩埚样品尺寸，温度:φ4英寸，26片，高300℃占地面积（长x宽x高）:约3.2米x3.9米x2.1米电控描述:全自动控制系统：通过工控机和 PLC 实现对整个系统的控制，具有自动和手动控制两种功能，操作过程可在触摸屏上进行，提供配方设置、真空系统、电子枪系统、工艺系统、充气系统、冷却系统等人机操作界面；在工控机上可通过配方式参数设置方式实现对程序工艺过程和设备参数的设置。工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%特色参数 :工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根据用户基片尺寸设计工件架

安研仪器 实验型薄膜蒸发器 真空提纯装置产品说明：薄膜蒸发器是一个在1~0.001mbar真空压力下受热分离的技术过程，较低的挥发温度，非常适合热敏性、高沸点物。蒸发装置基本部件：加热夹套的圆柱型筒体（直径可选），转子；在转子上附有刮膜器和防飞溅装置，转子在圆柱型筒体旋转蒸馏过程是：物料从蒸发器的顶部加入，经转子上的料液分布器将其连续均匀地分布在加热面上，随即刮膜器将料液刮成一层极薄、呈湍流状的液膜，并以螺旋状向下推进。在此过程中，从加热面上逸出的轻分子，经过短的路线和几乎未经碰撞通过抽气就到冷凝 器上冷凝成液，并沿冷凝器管流下，通过位于蒸发器底部的出料管排出；残液即重分子在加热区下的圆形通道中收集，再通过侧面的出料管中流出。安研仪器 实验型薄膜蒸发器 真空提纯装置应用领域：精细化工，如芳香油提纯.高聚物中间体的纯化.羊毛脂的提取等等医药领域：如提取天然维生素AE等.制取氨基酸及葡萄糖的衍生物等等食品行业：如精制鱼油.油脂脱酸.精制高碳醇.混合油脂的分离等等其他领域：石油行业，日用化学，环保领域等等安研仪器 实验型薄膜蒸发器 真空提纯装置产品的构成：1.进料装置 2.传送物料装置（可选）3.蒸发装置（双层夹套）.4耦合电机装置5.刮膜装置6.一级冷凝装置7.回收装置（多个）8真空冷却装置9.真空装置10.热源装置11.冷源装置 12.密封夹套装置（多套）13.精准进料泵 14.压力分散器产品特点：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达5mmHg以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质8.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物9.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；10.进料罐可选实现预加热功能，最高温度300度，温度可调节11.各个接口采用的是硅胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质实验结果与分析2.2.1导 热油温度的影响图2.3分别给出了转子转速为306r/min、进料温度为40 ~45心、真空度91. 7kPa时,不同导热油温度下总传热系数K和蒸发强度EI与进料量的变化规律。由图2、3可以看出,在本文实验参数范围内,总传热系数K和蒸发强度EI均随导热油温度的升高而增大。这是由于导热油温度升高,虽温差AT增大,总传热量Q也增大,但Q增大的影响超过了AT增大的影响,因而总的效果是导热油温度升高时K增大。2.2.2系统真空度的影响图4、5分别给出了转子转速为306r/min、进料温度为40~45C、导热油温度120C左右时,不同真空度下总传热系数K和蒸发强度EI与进料量的变化规律。由图4、5可以看出,总的来说,K和EI均随真空度的升高而增大。与导热油温度升高时类似,真空度升高,温差AT增大,总传热量Q也增大,Q增大的影响超过了OT增大的影响,故总的效果是真空度升高时K增大。2.2.3转子转速的影响图6.7分别给出了进料温度为22C、导热油温度120C左右、真空度70. 7kPa时,不同转子转速下总传热系数K和蒸发强度EI与进料量的变化规律。由图6、7 可以看出,总传热系数K和蒸发强度EI均随转子转速的提高而增加,高转速能有效地促进圈形波与薄膜之间物质热量的交换，加强湍流程度，提高薄膜蒸发器传热和传质性能。进一步分析发现，在转速增大的整个范围内,K增大的幅度不同:低转速时,增大转速,K和EI随转速的增大而增大的幅度较明显 而当转速较高时,增大转速,K和EI增大的趋势较小,这与文献[6]中的变化趋势一致。由图6.7可知,当进料量为70L/h时,转速259r/min与306r/min时的对应的K值以及EI值各自接近相等，由于本实验条件的限制,变频调速电机转速高只能调至306r/min,可以预计，随着转速的进- -步增大,K将出现文献[8]所示的下降趋势。在实际生产中,应合理设置转速使之既能提高传热性能,又能减少因高转速带来的高动力消耗。

仪器介绍平行真空浓缩蒸发仪是一台在真空条件下对大批量样品快速、平行浓缩、蒸发到特定体积的小型仪器。该产品应用于环境分析和农药残留分析等大批量样品的浓缩。如色谱蒸馏的蒸发，平行萃取液的蒸发，质量控制的重量分析，平行反应产物的蒸发。将推出平行合成反应系统。 主要特点1.操作方便，蒸发过程可视化。2.一次可以处理12个样品，效率高。3.每个样品都有独立的密封，不存在交叉污染。4.通过同时加热／摇动／抽真空，浓缩速度快。5.有梯度温度控制系统，无需操作人员看管。6.不需要用氮气，节省实验室空间。7.溶剂可以冷凝回收，回收率高，不会排放到室内或环境中造成污染。8.定量浓缩固定体积（0.5mL/1mL）后浓缩自动停止，无须人员在旁监测。 体积小巧，可置于通风橱中操作 梯度压力控制 安装效果对比图，使用平行浓缩蒸发仪节省大量实验室空间。技术参数转速 0-500r/min离心率 5mm温度范围 室温+5℃-100℃温控精度 ±0.5℃定量 0.5或1ml定量浓缩单次处理样品量 12个*120ml总功率 1500w重量 32kg外形尺寸 510*380*450mm配套装置指南标配：主机一台选配：冷却水循环泵、真空控制系统

1.产品概述：该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。2.产品应用：在实际应用中，这种系统常用于半导体、光电子、有机电子等域，用于制备各种有机薄膜、金属薄膜或复合薄膜，以满足不同器件和材料的研究与开发需求。3.真空室:沈阳科学仪器的高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统 DZ350的详细介绍可能因具体型号和配置而有所不同真空室结构:U形开门真空室尺寸:φ350×400mm限真空度:≤6.6E-5Pa沉积源:2个钨舟、2个有机源样品尺寸，温度:50mmx50mm，1片，高300℃占地面积（长x宽x高）:约2.5米×1.2米×1.8米电控描述:采用先进的控制系统，方便用户设置和调整工艺参数，如蒸发温度、沉积时间等。手动：样品台：拥有可旋转或可移动的样品台，以便均匀沉积薄膜。工艺:不含工艺