真空指读仪

真空离心浓缩仪是一种用于样品浓缩的实验室仪器，通过高速旋转，使样品中的溶剂快速分离，从而将高浓度的样品提取出来。它在环境科学、医学、生物工程、高分子材料等领域具有广泛的应用。作为三大高分子材料之一,橡胶材料是人们生活中的重要材料,在交通、建筑、航天、军事、化工、农业、机械等领域得到了广泛应用。按照形态不同,橡胶材料可以分为固体生胶、胶乳、液体橡胶和粉末橡胶,其中胶乳是较为常用的橡胶材料,广泛应用于手套、气球、海绵、胶管等制品中。按照来源不同,橡胶可以分为天然橡胶和合成橡胶,其中天然橡胶是重要的战略物资和工业原料。由于地理位置的限制,我国长期面临着天然橡胶自给率低下的问题,因此寻求一种可以替代天橡胶的橡胶材料具有重要的现实意义。1、杜仲胶制备介绍杜仲胶( Eucommia ulmoides gum) 来源于杜仲树,其主要结构为反式聚异戊二烯,与三叶橡胶树产生的天然橡胶互为同分异构体。由于反式结构更加规整,分子链微观有序,易堆集结晶,因此杜仲胶是一种性能优异的新型材料(如形状记忆材料等),同时它具有的橡塑二重性,可以用于改性沥青、增韧塑料,并且在橡胶并用方面也有很好的应用前景。作为一种天然高分子材料,杜仲胶可以部分替代天然橡胶,在一定程度上缓解我国天然橡胶自给率不足的问题。但是由于提取工艺的限制,目前杜仲胶只有固体生胶而没有胶乳制品,制约了杜仲胶产业的进一步发展。采用溶液乳化法制备杜仲胶乳。将杜仲胶溶解在环己烷中,其中杜仲胶的质量分数为6% 。将杜仲胶的环己烷溶液与乳化剂的水溶液混合,在高速剪切搅拌的作用下使其乳化均匀,得到粗胶乳。将粗胶乳中的环己烷脱除后得到稀胶乳,经浓缩后得到杜仲胶乳。2、乳化剂的选择在胶的制备过程中,乳化剂的选择至关重要。根据亲水亲油平衡值(HLB)的大小,乳化剂可以分为油包水型(HLB01、单一乳化剂分别采用 Span-20、 SDBS、OP鄄10、 Tween-20、油酸钠、歧化松香酸钾、PVA-1788、Brij-52作为乳化剂,按照油相和水相的体积比(油水体积比)1：3,将油相胶液加入含有乳化剂的水相中,以 8000r/ min搅拌10min,制得含有不同乳化剂的杜仲粗胶乳,观察单一乳化剂的种类和用量对乳化效果的影响,结果如表1所示。由表1可知,选用单一乳化剂制备杜仲胶乳时,乳胶不能乳化,静置时很快发生相分离,且析胶和起沫严重,达不到理想的乳化效果。这是因为杜仲胶为反式聚异戊二烯结构,分子间排列较为紧密,同时杜仲胶的分子量大且分布较宽,单一乳化剂不能将其包覆,导致乳液体系不稳定,容易发生相分离。因此，采用复配乳化剂对杜仲胶进行乳化,从表1中选出乳化效果相对较好的Tween20和Brij52进行复配。02、复配乳化剂采用Tween-20 与 Brij-52 复 配 的 方 式 进 行 乳化,考察两种乳化剂的用量及油水体积比对乳化效果的影响。使用正交试验法设计了 3 因素3水平的试验方案,如表2所示。采用相同的乳化工艺,以8000r/ min搅拌10min 进行乳化,通过旋转蒸发除去溶剂,离心浓缩后,制得含有复合乳化剂的杜仲胶乳,考察各试验因素对乳化效果的影响,结果如表 3所示。由于破乳率可以直观地表现出乳化效果,因此本文以破乳率为主要评价指标对正交试验结果进行极差分析。通过比较极差值 R,可以得出各因素对乳化效果影响的大小顺序为: Tween-20用量B Brij-52用量 A 油水体积比C。根据K值大小,得到正交试验的条件为 A1 B1 C1 ,即Brij-52 用量为1% ,Tween-20 用量为5% ,油水体积比为 1：1.5。在优化的条件下通过重复试验进行验证,制得的杜仲稀胶乳的破乳率几乎为0,经离心浓缩后固含量可达50% 以上, 粒 径 约 为 411 nm, Zeta 电位可达-30mV，浓缩胶乳放置一周无任何变化。3、除溶剂和浓缩方式杜仲胶乳的制备过程中需要除去有机溶剂环己烷。本文比较了常压蒸馏(蒸馏温度80°C)和旋转蒸发(压力 - 0.09 MPa,温度40°C )两种除溶剂方式对杜仲胶乳化效果的影响,结果如表6所示。当采用旋转蒸发方式除溶剂时,得到的乳液体系较稳定,几乎不破乳,乳液粒径约为 321nm,Zeta 电位的绝对值约为58mV 而采用常压蒸馏时,乳液体系的稳定性较差,破乳严重,乳液粒径较大。脱去有机溶剂后,乳液体系中仍有大量的水,胶乳固含量很低,无法满足运输及使用要求,因此需要对其进行浓缩以除去部分水。本文比较了常压蒸发(100°C )、旋转蒸发( - 0.09 MPa,50°C)、离心浓缩(10 000 r/ min,10 min)这 3 种浓缩方式对杜仲胶乳化效果的影响,结果如表 7 和图 2 所示。当采用常压蒸发浓缩时,乳液体系的稳定性几乎被破坏,胶乳粒径约为1045nm,且粒径分布较宽,这主要是因为在高温下乳液粒子运动加剧,粒子间更容 易碰撞、聚集、絮凝,从而破坏了乳液体系的稳定性 当采用旋转蒸发浓缩时,体系较为稳定,乳液粒径约为509nm,但是破乳严重 当采用离心浓缩时,体系的稳定性最好,Zeta电位的绝对值为57mV,胶乳固含量可达54% ,胶乳粒径约为333nm,且粒径分布较窄。4、富睿捷真空离心浓缩推荐富睿捷真空离心浓缩设备可同时处理多个样品，无需担心交叉污染。系统内程序可设定至多60个，主机配备样品在线成像系统，可在运行过程中观察样品浓缩状态，并根据不同的样品对整机的真空度进行调节。设备采用皮拉尼真空计可实时显示腔体内的真空度，并保证真空度的真实性。根据不同的样品可对整机转速进行调节，配备实验室智能互联及远程操控系统及智能云端故障排查系统，手机app可直接操控机器对主机远程进行腔体预热，温度和真空度以及转速可实时在app显示。产品参数冷冻型控温范围：-6°C-100°C常温型控温范围：室温-100°C控温精度：±0.1°C转速范围：400RPM-2500RPM

WELCHLAB APPLICATION某客户致力于材料表面处理和真空薄膜仪器的研发，在竞争方面，直接对标国外知名产品。有别于其他同类产品的国产厂家，该客户产品定位高端，在国内市场有较好的口碑，其对配套的旋片真空泵（油泵）要求，无论是在真空度、噪音、外观、售后服务等，还是在品牌知名度方面，都有非常高的要求，为保证离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效率，已标配选用了某原装进口品牌的旋片泵，且销售了数年时间，但此品牌的旋片泵价格高昂，货期不稳定，售后服务有着很大的提升空间。此时，我们针对性的向该客户介绍了Welch品牌CRVpro2旋片真空泵。CRVpro2外观设计美观，真空度高，泵体小巧，运行非常安静，泵体内部做PTFE防腐处理，能够明显提高其使用寿命，完全适合配套客户的离子镀膜仪设备。且因CRVpro2旋片真空泵性价比高，售后服务完善，能瞬间提升客户产品的受关注度和整体竞争力。当然，对于临阵换将，任何人都会有所犹豫，为打消客户疑虑，我们及时提供了一台全新的 CRVpro2旋片真空泵，进行现场测试。CRVpro2的安装非常简单，加注真空油、安装转接头、连接不锈钢波纹管，一气呵成。开机运行！在寂静的实验室里，CRVpro2安静的运行着。时间一秒一秒得飞逝，镀膜仪操作面板上的真空度数值飞速变化，结果仅仅用了不到3分钟，就达到了镀膜仪恒定工作压力以下，即1-2Pa。同时，由于Welch研发工程师对CRVpro2的排气端进行了优化设计，其排气口几乎无油雾排出，非常有利于实验室环境，该公司的测试人员对此结果非常满意。随即，设备配套顺理成章，双方打开双赢的合作局面̷̷CRVpro实验室旋片真空泵的优点：　　1、泵体运行温度低，能有效减低泵被化学腐蚀风险。　　2、油箱和泵体都有抗化学腐蚀涂层，能够保护泵不被化学物质侵蚀。　　3、油箱容量大，能够稀释吸入真空油里的化学物质，降低了化学腐蚀的风险和油被污染的程度。　　4、低噪音：运行特别安静，不干扰工作。　　5、自润滑功能：确保所有运动部件浸润在新鲜的油里，平衡温度，减少油染，延长机械寿命。　　6、防倒吸阀：防止在停机时油被倒吸进真空容器　　7、气压载阀：减少化学蒸汽被夹带进入泵油；保护泵不被可凝性流体如水，乙酰腈等的影响。　　8、cUL和CE认证：具有各国的安全认证，满足官方的3安全标准。　　9、满足各种应用的外形尺寸：现代和紧凑的外形设计，满足各种应用场合的要求。　　10、双电压电机：IP44 电机，可在115V 和240V之间切换，并可配置各种相应的电源插头，使CRVpro可使用。CRVpro实验室旋片真空泵的应用： 1、双排管 2、冷冻干燥 3、真空浓缩 4、采暖通风、空调 5、真空干燥箱 6、手套箱 7、质谱仪 8、工业应用关于威伊（Welch）威伊真空设备（上海）有限公司WELCH是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了实验室和工业用真空泵，包括真空活塞泵，真空隔膜泵，真空旋片泵，螺旋泵，涡轮分子泵，液体输送泵等，还有各种真空测量仪，真空控制器，真空蒸馏装置，真空浓缩设备，真空抽吸设备等。关于英格索兰英格索兰（纽交所代码：IR），以企业家精神和主人翁意识为动力，致力于创造美好生活。我们通过旗下备受赞誉的40余个品牌，在工业、能源、医疗和特种多功能车领域提供关键和创新的产品与服务，涵盖空气压缩机、泵、鼓风机，以及流体管理、装载、动力工具和物料吊装系统以及知名的Club Car品牌多功能车。在极其复杂和严苛的工况下，亦能确保优越的性能。我们在世界各地的16,000多名员工将持之以恒地为客户提供可靠的专业知识，帮助客户提高生产力并提升效率，与客户建立终身连接。

p 　　未来可卷曲、如纸一样轻薄的各类终端屏幕主要选材是OLED（有机发光二极管），OLED生产过程最重要的一环就是“蒸”，工艺难度极高。 /p p 　　真空蒸镀机就如同OLED面板制程的“心脏”，被日本Canon Tokki独占高端市场，说其掌握着OLED产业的咽喉也不过分，业界对它的年产量预测通常在几台到十几台之间。有钱也买不到，说的就是它。 /p p 　　可惜，目前我国还没有生产蒸镀机的企业，在这个领域我们没什么发言权。 /p p 　　 strong 这台设备就如同生产OLED面板的“入场券” /strong /p p 　　买到Canon Tokki的设备就如同得到了一张生产OLED面板的“入场券”，Canon Tokki在业内的名声很像顶级光刻机企业ASML，神一样的存在。 /p p 　　仅有300多名员工，却基本垄断了全球真空蒸镀机的供应，每台报价过亿美元，仍然一机难求，排队等货因此成为常态。 /p p 　　据说京东方6代柔性OLED生产线能够提前量产的重要前提就是，拿到了Canon Tokki的真空蒸镀机。三星之所以能垄断中小尺寸OLED的生产和供货，也是因为有了Canon Tokki的助攻。 /p p 　　蒸镀设备厂商不止一家，Canon Tokki为什么一机难求？因为它量产稳定与技术成熟的优势无人可比。 /p p 　　买到Canon Tokki的设备就能有良品率吗？不然。 /p p 　　中粤金桥投资合伙人罗浩元对科技日报记者说：“蒸镀设备虽然是OLED生产中的关键环节，但一条生产线要实现批量化、高品质的生产，要对整个生产链进行科学管理及整合，确保每一道工序可控、可靠。但是，没有真空蒸镀设备，以上无从谈起。” /p p 　　 strong Canon Tokki能把蒸镀误差控制在5微米以内 /strong /p p 　　蒸镀是OLED制造工艺的关键，直接影响着OLED屏幕显示，蒸镀机的工作就是把OLED有机发光材料精准、均匀、可控地蒸镀到基板上。 /p p 　　OLED显示面板中大量应用的有机材料极易受到氧气和水的影响，有机材料间也很容易造成污染，因此，面板的蒸镀一般都是在真空环境下且相互独立进行。 /p p 　　通过电流加热，电子束轰击加热和激光加热等方法，使被蒸材料蒸发成原子或分子，它们即以较大的自由程作直线运动，碰撞基片表面而凝结，形成薄膜，这个过程就是真空蒸镀。 /p p 　　“通俗地说，OLED屏幕每个像素都是蒸上去的，除了发光材料，金属电极等也是这样蒸上去的，实际操作非常复杂。 /p p 　　Canon Tokki能把有机发光材料蒸镀到基板上的误差控制在5微米内，这是什么概念？1微米相当于头发直径的1％。”罗浩元说，“没有其他公司的蒸镀机能达到这个精准度。” /p p 　　潜心于一个领域20余年，让Canon Tokki拥有不少专利，比如，它很早就将机器视觉应用在设备上。生产环节中，对准玻璃基板和用作像素模板的细金属网难度很大，利用摄像头追踪，Canon Tokki可将误差范围缩小到人体红细胞大小。 /p p 　　 strong 这是一场多维度、立体化的综合性突破 /strong /p p 　　就如中国科学院院士、中国科学院物理研究所欧阳钟灿教授所说，中国平板显示全球第一，但大而不强。我国OLED企业主要聚集在产业链中下游的面板和手机等显示终端产品应用领域，上游核心生产设备完全依靠进口。 /p p 　　当年三星从全球40多家蒸镀机业者选到今天最牛的Canon Tokki，在OLED产业蛰伏期，Tokki遭逢破产危机时，依然全力扶持，这种患难情谊让三星一度独家拿下Canon Tokki的全部产量。 /p p 　　电子创新网创始人、半导体技术专家张国斌对科技日报记者说：“虽然离了Canon Tokki三星也可能玩不转，但三星对产业趋势和技术的判断、把握值得我们反省。” /p p 　　罗浩元比较认同张国斌的观点：“具体到真空蒸镀机这种卡住产业咽喉的核心装备，能不能追，怎么追，从上到下都很迷茫。我国目前的OLED产业布局和推进方式可以让我们短期内形成产业规模，却无法实现高端设备的自主研发、装备能力。这个问题不解决，别说真空蒸镀机，其他OLED装备的突破也将是空谈。” /p p & nbsp 　　中国电子材料行业协会常务副秘书长袁桐认为，材料或设备并不是单一的产品，它牵涉到面板系统性的工艺和技术，如果只凭配套企业一己之力，可能只能实现某一种材料或设备的国产化替代。罗浩元说：“这是一场多维度、立体化的综合性突破。” /p p 　　OLED的生产难度在精密制造，精密制造的技术壁垒在精密设备。国内OLED大型生产线装备虽仍一片空白，但OLED科研型蒸镀设备已达国际水平，中试型生产装备已成功研发。“虽然距离摆脱‘真空’有点远，但好歹上路了。”罗浩元说。 /p p 　　“真空蒸镀机等核心设备的缺失，反映出我国基础研究、精密加工、自动化控制等多领域的短板。”罗浩元说，“虽然很难，但一代人有一代人的任务，希望我们这一代能生产出真空蒸镀机。” /p

要说近年来被公认增长最快的分析仪器，毫无疑问非质谱仪莫属。据美国acs网站统计，目前国际上排名前十的仪器厂商中，有七家都在从事质谱仪的研发和生产。就中国而言，对质谱仪的需求也在快速增长。质谱分析是一种测量离子质荷比（质量-电荷比）的分析方法。首先通过电离源将样品中各组分电离成离子，接着在高真空的质量分析器中，在电磁场的作用下主要根据质荷比（带电离子质量/所带电荷的数量）将离子进行分离，使这些离子最后在探测器上产生可以被互相区分的信号。对于不同的组分，电离生成的离子不同——故而质谱可以被用于鉴定样品中的不同组分。质谱仪基本结构示意图质谱技术发展至今已逾百年，质谱工作者们站在彼此的肩头，将一个简单的物理现象在理论和实践上推到如今的高度，使其成为了分析领域最重要的方法之一。目前质谱已不仅是常规化学分析中的重要手段，逐渐也开始被用于生命科学、国土安全、食品安全、临床医学检测和空间技术等热门领域。质谱技术的应用领域越来越广泛但我们知道，传统的实验室台式质谱仪昂贵、耗能、连接气路管道、需要强力真空泵，并且经常需要前端的分离系统，机体往往庞大笨重。若要应用于临床、机场安检、食品安全等原位现场测量场景，仪器必须小型化。不过，说小型化就小型化，你问过真空系统的意见了吗？没错，在小型化质谱仪的设计中，最大的一个挑战在于真空系统。上面在简介质谱仪工作原理的时候，已经提到，“真空”是质谱仪内部工作的必要条件。保持高真空度可以防止分子、离子、电子之间发生碰撞，避免噪声的产生。也就是说，真空度越高，质谱仪的信噪比越好。 遗憾的是，真空系统往往比较笨重，小型质谱仪也只能选择小型的真空泵，而泵速的下降，会直接导致系统真空度降低，这会严重影响质量分析器及探测器的正常运行。而从目前的研究结果来看，质谱的背景噪声主要来自探测器端，这源于一个叫离子反馈的作用。 常见的质谱探测器（如mcp、电子倍增器/em）都是将离子转化为电子；电子被电场加速、倍增并最终检出。而加速的电子会和残余气体分子碰撞，产生正离子。这些正离子在电场中会反向运动，再次轰击产生电子，这个过程称为离子反馈（ion feedback，ifb）。由于正离子反向运动是需要时间的，所以离子反馈所产生的信号与真实信号本身并不会叠加，反而成为了噪声/杂峰的重要来源。离子反馈（ion feedback，ifb）过程示意图而低真空度下较高浓度的气体分子是客观存在的，因此相比于控制离子生成，更为明智的做法是控制生成离子的走向。但如今四级杆及离子阱质谱仪一般采用的电子倍增器（em），却并没有办法解决这一问题。 新探测器技术的出现，成为了质谱仪小型化的一个关键。 小质谱仪不要慌，滨松gen3 mcp来了微通道板（mcp）也是应用于质谱仪中的一种常用探测器，特别是tof-ms。但传统的两片结构的mcp（见下图a）和电子倍增器（em）等其他传统质谱探测器一样，残留的气体分子也会发生电离生成正离子，并返回mcp形成离子反馈。不过，滨松最新推出的拥有三级结构的mcp，通过实现控制离子走向的策略，成功解决了上面说到的问题。传统两片结构（bi-planer mode）和滨松最新三级结构（triode mode）mcp的结构和电位对比滨松最新推出的适用于小型质谱仪的gen3 mcp 滨松gen3 mcp采用了这样的结构设计：在mcp出口和打拿极之间加入栅网电极构成三级结构，栅网电极作为阳极（负高压模式下接地），后端打拿极和mcp入口则被设置为等电位，这样残留的气体分子电离生成的正离子会从栅网电极向打拿极运动，并被打拿极俘获。这种三级的创新结构设计可以避免电离正离子返回mcp，从而在源头上解决了暗电流的问题。下图是三级结构的滨松gen3 mcp和传统两级mcp电流输出结构在不同真空度下的实验数据对比。传统两片结构（bi-planer mode）和滨松最新三级结构（triode mode）mcp的实测噪声（暗电流）对比 可以明显的看出，在105增益下，传统的2片mcp电流输出型组件在真空度高于10-3pa的情况下即会发生离子反馈。而对于三级结构的gen3 mcp，即使真空度降低到1pa，仍然不会发生离子反馈。凭借在低真空度下的优异表现，加上小巧的尺寸（有效面积直径：14mm），滨松gen3 mcp将会大大释放束缚在质谱仪真空系统上的缰绳，方便开发者开发更为灵活便携、功耗更低、更适合现场使用的小型质谱仪。滨松gen3 mcp有效面积直径：14mm滨松致力于光电技术探索60余年，在质谱探测器的研究也已有40余年的历史，可为质谱应提供mcp、em、离子化光源等产品。2018年我们推出了，并也将继续推出更多应用于质谱的新品（文章底部的小编传送门中，有部分新品链接）。希望通过探测技术的原始创新，从最底层技术出发，稳定而坚实地推动最终质谱应用的发展。

据中国新闻网报道，针对近日连发的肉毒杆菌中毒案件，台“卫生署”初步怀疑可能是真空即食豆制品惹祸。对此，台“卫生署”今日表示：根据调查，全台仅有3家厂商符合灭菌标准，可以在常温下贩售，提醒民众购买时要小心。 　　针对“真空包装即食豆干”可引发肉毒杆菌中毒的说法，“卫生署食品药物管理局食品组组长”蔡淑贞表示，经“食品工业发展研究所”调查市售的真空包豆干发现，真正符合灭菌标准，且可以在常温下贩售的产品，只有3家：得意中华食品有限公司、福记冷冻食品公司、大房食品有限公司。对台湾市场上，不符合灭菌标准，也无法达到冷藏条件的生产者，建议暂时不要大规模生产真空包装的黄豆制品。同时，蔡淑贞还表示，为确保民众健康，“卫生署”将订定《真空包装即食食品良好卫生规范》，最快下个星期发布公告，若20天后，各界对该规范无异议表示，公告后3个月后，最快11月便可实施。 　　消息传来，网友不禁要问，在传统认知里，真空包装不就是无菌抑菌的代名词吗?对此，专家解释：一般消费大众认为的“真空”即代表“无菌”、开封后立即食用的“绝对安全”，并不完全正确。 　　有些真空包装的食品，入卤豆干、卤素肚等，因为具有低酸性(酸碱值高于4.6)、高水活性的特性，如果在不符合食品良好卫生规范环境下，生产制造过程受到肉毒杆菌的污染时，真空包装的无氧条件，便成为肉毒杆菌适合生长的“温床”。 　　据了解，肉毒杆菌的理想生长温度在摄氏35至40度或28至30度之间。因此，单凭冷藏这项措施不能有效消除容易腐坏的密封包装食物的肉毒杆菌风险。肉毒杆菌，作为毒性极强的神经毒素，极小量便已足以引致肉毒中毒。食用者在进食毒素后约18至36小时内，产生疲倦、虚弱无力、眩晕、视力模糊、言语障碍和吞咽困难等症状，严重者可令患者的呼吸肌肉瘫痪，引致死亡。作为美容中常见的“瘦脸针”便是以肉毒杆菌的医疗使用。但肉毒杆菌也不是不可预防的，当食物加热至摄氏80度并维持至少10分钟，就可破坏这种毒素。在治疗方面，应尽快注射肉毒中毒抗毒素，也可影响肉毒杆菌的发病。 　　对于食品中肉毒杆菌的卫生规定，国家标准中规定：为防止肉毒杆菌生长或毒素形成，真空包装食品，在包装前必须把食物加热至摄氏90度，并维持10分钟，或进行其他可同样有效杀死肉毒杆菌的加热程序 提高食品含盐量，并将食物的酸碱度保持在5或以下 降低食物的水活性至0.97或更低水平 使用适当分量的防腐剂，例如亚硝酸盐等。 　　在此，国家标准频道要提醒众位消费者，请谨慎食用真空包装的食品，一定要注意购买保质期内的真空包装食品。购买后，必须依标识采用冷藏或冷冻，且食用前必须煮沸(100℃加热10分钟以上)。为了家人的身体健康，请一定要在保存期限内食用。如果出现不适症状，请及时就医。

双级直联旋片式真空泵（旋片泵）是真空应用领域中常用的真空获得设备之一，广泛用于需要获得高、低真空环境的场合，旋片泵可单独使用，也可作为扩散泵、罗茨泵、分子泵等高真空获得泵的前级泵配套使用。中科科仪RV系列旋片泵具有极限真空度高、震动噪音小、外型美观大方等优点，内置快关型防返油止逆阀系统、压力油循环系统、油泵增压系统、前级保压系统等多种独特结构及关键核心技术，产品整体性能优异、质量稳定可靠。全系列旋片泵产品共计7种型号，抽速涵盖2 L/S到24 L/S，能够满足真空行业的绝大多数应用场景。经过多年产品技术研究，可根据客户工况进行产品的特殊化定制。下面就跟着小编一起了解一下RV系列旋片泵的产品特点、技术亮点、行业应用以及主要技术参数吧。1、产品特点极限真空度高、抽气速率稳定。泵体温度低，温升小。震动噪音小。维修保养简便。 2、技术亮点快关型防返油系统，降低泵停机后泵油对真空系统的污染。保压性能优异且稳定，保护前级分子泵免受高大气压力瞬间冲击。低泵体泄漏率，带负载能力强、抽气效率快。独特的油润滑系统及压力油调节系统，泵体温升小、运行噪音小。3、行业应用RV系列双级旋片泵广泛应用于材料制备、表面工程、能源科技、分析仪器、生物医药、电子工业等领域，可根据实际工况环境提供产品定制化方案。 4、主要技术参数如您有任何疑问和需求，可通过以下方式联系我们，我们会在第一时间给您满意答复。北京销售公司：18611455301西安销售公司：18611455311深圳销售公司：18611455320苏州科仪：18611455317关于中科科仪中科科仪始建于1958年，是中国电子光学和真空技术领域领军企业，曾研制出我国第一台扫描电子显微镜、第一台涡轮分子泵和第一台商用氦质谱检漏仪。近年来，成功研制出国内首台场发射枪扫描电子显微镜、首台磁悬浮分子泵，均达到国际一流水平。2008年被评为国家级高新技术企业，2014年被评为国家级企业技术中心，2021年获评国家级“专精特新”小巨人企业称号，并获重点支持。中科科仪产品广泛应用于科学研究、航空航天、半导体、汽车工业、新能源、新材料、节能环保等前沿科学研究和高端装备制造领域。

光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (PlasmaSystem)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）

世界首个集材料生长、器件制备、测试分析为一体的纳米领域大科学装置——纳米真空互联综合实验站正在我国江苏苏州工业园区建设。这个实验站相当于在太空建设了一个全真空的纳米器件研发平台。　　正在建设中的这个纳米实验站是目前世界上最大的真空互联科研装置。其总体方案是：用总长近500米的超高真空管道，将上百台用于材料生长、器件制备、测试分析的大型仪器设备互联，实现样品在不同设备之间传送时其表面不被氧化、沾污，不被外界大气环境所破坏。中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员、纳米真空互联实验站常务副总指挥丁孙安说，实验站通过超高空间分辨、时间分辨、能量分辨、质量分辨等的高端能力仪器设备，对物质的“本征性质”进行研究，从而实现量子材料的设计、制备和表征，后摩尔时代器件加工和测试分析，同时开展新材料、新工艺、新结构和新功能的开发和研究，以及形成第三代半导体工艺包。　　“这个实验装置是在类似太空的全真空环境下的纳米器件研发平台，相当于把现有的加工设备统一搬到太空。”丁孙安说。　　纳米真空互联实验站是依托中科院苏州纳米所，联合清华大学薛其坤院士团队、中科院大连化学物理研究所包信和院士团队建设的。一期建设由中科院、江苏省、苏州市和苏州工业园区共建，预计2018年建成，建设经费3.2亿元。一期建成后将连接30多台设备，形成100米的真空管道。整个实验站的总预算是15亿元。　　苏州工业园区是全球纳米领域具有代表性的八大产业区域之一。中科院纳米所所长杨辉说，在此建设纳米真空互联实验站，是力图通过真空条件下的互联集成和若干重大项目验证，突破现有仪器设备的功能限制，实现材料制备、测试分析与微纳加工工艺等方面协同效应，为科研和战略性新兴产业发展提供先进的、开放性的平台。

医用真空超声波清洗机是一种利用超声波高频振动产生的微小气泡在清洗液中爆破产生冲击波来清洗和消毒医疗器械的设备。医用真空超声波清洗机主要由超声波发生器、清洗槽、加热系统、水循环系统等组成。 其中，超声波发生器通过振动产生超声波，使清洗槽内的清洗液产生高强度的微小气泡，从而将医疗器械表面的污垢和细菌震落，达到清洗和消毒的效果。 医用真空超声波清洗机在医疗器械清洗和消毒方面具有以下优势：清洗效果好：医用真空超声波清洗机利用超声波高频振动和微小气泡的冲击力，能够有效清除医疗器械表面的污垢和细菌，达到彻底清洗和消毒的效果。操作简单：医用真空超声波清洗机操作简单，只需要将医疗器械放入清洗槽中，启动设备即可完成清洗和消毒的过程，省时省力。无需化学药剂：医用真空超声波清洗机不需要使用化学药剂进行清洗和消毒，避免了化学药剂残留对人体的危害。节能环保：医用真空超声波清洗机采用超声波振动和加热系统来清洗和消毒医疗器械，不需要大量的水和化学药剂，节能环保。 医用真空超声波清洗机广泛应用于医院、诊所、药房、实验室等医疗机构，可用于清洗和消毒各种医疗器械，如手术器械、注射器、针头、口腔器械等。在医疗器械清洗和消毒方面，医用真空超声波清洗机已成为不可或缺的重要设备。

冻干机做制品冻干时要经过预冻，升华，解析，最后出仓，每个阶段都很重要，需要设计适合的冻干工艺配方才能做出合格的冻干制品。尤其在升华阶段真空度对升华是及其重要的，真空报警工作时间和真空控制的工作时间都很重要。因此冻干机均要设有真空报警装置。真空报警装置的工作时间在加热开始之时到校正漏孔使用之前，或从开始一直到冻干结束。一旦在升华过程中真空度下降而发生真空报警时，一方面发出报警信号，一方面自动切断冻干箱的加热。同时还启动冻干箱的冷冻机对产品进行降温，以保护产品不致发生熔化。另外真空控制的工作时间真空控制的目的是为了改进冻干箱内的热量传递，通常在第二阶段干燥时使用，待产品温度达到最高许可温度之后即可停止，继续恢复真空状态，使用时间的长短由产品的品种、装量和真空度的数值所决定。也可第一阶段干燥时使用。Pilot10-15ES冻干机设有真空报警功能，真空度差时切断加热，真空度太好时可进行自动调节。整机电气系统具有逻辑连锁、控制、保护功能，加热循环保护。Pilot10-15ES冻干机长年使用性能稳定，带有免费的冻干工艺优化服务。

新品发布！！！ 西安禾普着力研发各类常用仪器设备，特色产品双层玻璃反应釜、旋转蒸发器，通过数年经验积累，拥有领先的技术和先进的工艺。我公司于近日推出最新设计的新型真空控制器，，突破传统的设计模式，大胆突破。不只限于专业的性能突破，更充分结合人体工学和现代美学。新推出的新型真空控制器的功能更加全面、强大。产品设计至始至终秉承以人为本，人性化设计。 1 关键配件完全采用进口，具备控制精度高、耐腐蚀、阀门寿命达到百万次寿命。 2 大屏幕触摸型彩色液晶屏可显示检测和设定的真空度，同时可直接在液晶屏上进行真空度的调整。3 旋钮键，可对真空度随时调整，使用方便。4 进气阀采用过滤装置，防止试剂被污染。 5 真空控制器可进行惰性气体补气，使试料不受氧化和污染。6 可配套进口包括（瑞士步琪、德国海道尔夫、德国IKA、日本雅玛托、日本东京理化EYELA等国际品牌）或国产各品牌旋转蒸发仪。7 可进行自动梯度程序控制，合成实验层析减压蒸馏时，对真空度的逐步控制。（梯度控制需要另配程序软件） 以具备优良控制真空度的真空控制器VC-3000为例。它与旋转蒸发仪等相连接，可以对旋转蒸发仪内部真空度进行控制，从而提高例如：甲叉二氯、苯、三氯乙烷、乙醇等沸点低试剂的回收率，也可进行惰性气体的置换对减压浓缩时内部不受氧化和污染， 在进行合成实验层析减压蒸馏时，可对真空度逐步控制，及试剂的逐步提取使用。欢迎新老客户订购！我们将竭诚为您提供最佳的产品和最好的服务！

CPB仪器与测量栏目最新发文：基于177.3nm激光的真空紫外光调制反射光谱仪，此装置将有望成为高效无损地探测宽禁带半导体材料电子能带结构高阶临界点的有效光学表征手段，并广泛用于超宽禁带半导体材料及其异质结的电子能带结构研究。光调制反射光谱是通过斩波器周期性地改变泵浦光源对样品的照射来测量半导体材料反射率相对变化的一种光谱分析技术。由于所测差分反射率作为能量的函数在材料电子能带结构的联合态密度奇点附近表现出明显的特征，光调制反射光谱已成为研究具有显著电子能带结构的半导体、金属、半金属及其微纳结构和异质结等材料联合态密度临界点的重要实验技术之一。光调制反射光谱中所使用的泵浦激光的光子能量一般要高于被研究材料的带隙，随着第三代宽禁带与超宽禁带半导体材料相关研究和应用的不断深入，需要更高能量的紫外激光作为光调制反射光谱的泵浦光源。目前国际上已报道的光调制反射光谱系统中，配备的泵浦光最大光子能量约5 eV，尚未到达真空紫外波段。因此，迫切需要发展新一代配备高光子能量和高光通量的泵浦光源的光调制反射光谱仪，使其具备探测超宽带隙材料的带隙和一般材料的超高能量临界点的能力。中科院理化所研制的深紫外固态激光源使我国成为世界上唯一一个能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家，已成功与多种尖端科研设备相结合并取得重要成果。此文详细介绍了由中科院半导体所谭平恒研究员课题组利用该深紫外固态激光源搭建的国际上首台真空紫外光调制反射光谱仪（图1）的系统设计和构造，将光谱仪器技术、真空技术、低温技术与中科院理化所研制的177.3 nm深紫外激光源相结合，同时采用双单色仪扫描技术和双调制探测技术，有效避免了光调制反射光谱采集中的荧光信号的干扰，提高了采集灵敏度。该系统将光调制反射技术的能量探测范围从常规的近红外至可见光波段扩展至深紫外波段，光谱分辨率优于0.06 nm，控温范围8 K~300 K，真空度低至10-6 hPa, 光调制反射信号强度可达10-4。通过对典型半导体材料GaAs和GaN在近红外波段至深紫外波段的光调制反射信号的测量对其探测能力进行了性能验证（图2）。此装置将有望成为高效无损地探测宽禁带半导体材料电子能带结构高阶临界点的有效光学表征手段，并广泛用于超宽禁带半导体材料及其异质结的电子能带结构研究。该系统基于中科院半导体所承担的国家重大科研装备研制项目“深紫外固态激光源前沿装备研制（二期）”子项目“深紫外激光调制反射光谱仪”，目前已经初步应用于多种半导体材料在深紫外能量范围内的能带结构和物性研究，并入选《中国科学院自主研制科学仪器》产品名录，将有望在推动超宽禁带半导体材料的电子能带结构研究、优化超宽禁带光电子器件的性能方面发挥重要作用。图1. 深紫外激光调制反射光谱仪图2. 177.3 nm（7.0 eV）激光泵浦下的GaAs在1.2 eV至6 eV内的双调制反射光谱及对应能级跃迁

在使用旋转蒸发仪过程中，分离纯化过程中，所用的温度和真空度是重要的设置参数。物质的饱和蒸气压是温度和真空度控制的参考标准（见附表）。* 什么是饱和蒸气压？ 无论是液体还是固体，时时刻刻都存在蒸发（升华）、凝结过程，而气化后的气体分子会对物质表面形成压力。而蒸气压指的就是液体或固体表面存在着的该物质的蒸气，这些蒸气对液体或固体表面产生的压强。　　饱和蒸气压就是指在密闭条件中、一定温度和气压下，物质的蒸发（升华）与凝结处于动态平衡状态时，那个时候该物质的蒸气压。 以常见的水为例（纯水），密闭容器中，抽走空气，水会不断蒸发，随着温度的不同，其蒸气形成的饱和蒸气压也会不同。如果温度稳定在100℃，那蒸气就会不断形成，直至蒸气压到101.32kPa，也就是那个时候水的饱和蒸气压。这个时候如果温度不再升高，101.32kPa的蒸气压下，随后蒸气虽然在继续产生，但同时也会有等量的蒸气重新凝结为水，形成平衡，压力不再升高；如果温度为30℃，那么水蒸汽形成的蒸气压就不会超过4.2455kPa；20℃时，饱和蒸气压就是2.3388kPa。* 真空控制与旋蒸分离纯化 旋转蒸发仪在进行分离纯化的过程中，要考虑到目的产物在高温下会出现变性或分子结构损坏的情况。因此需要到较低的温度下进行分离纯化。在较低的温度下形成分离试剂的饱和蒸气压，需要借助真空泵进行抽真空。通过对真空度的控制，可以在目的产物变性的安全温度以下对混合溶剂进行快速分离提纯。* WIGGENS防腐蚀真空控制器 WIGGENS的DVR480 型防腐蚀真空控制器，专用于旋蒸的真空度控制。最低可控制真空度达到0.1mabr ，支持最多5 段编程控制，可以高效自动地实现多种溶剂的回收。接触气体材料均为PTFE 或高性能陶瓷，可耐受酸、碱、以及各种有机溶剂气体。数字式显示，按键控制，具有USB 数字接口，以及模拟输入输出接口。可以连接泵电源控制，在达到稳定真空度后暂时关停泵电源，节能环保；也可工作在泵的常开状态。* 附表：常用有机溶剂饱和蒸气压（40℃）需要的真空度溶剂分子式40℃(104℉)下的饱和蒸汽压 (mbar)摩尔质量 (g/mol)水H2O7418.0四氯化碳CCl4285153.8三氯甲烷CHCl3477119.4甲酸CH2O211446.0二氯甲烷CH2Cl2~atm.84.9甲醇CH4O35232.0四氯乙烯 (PCE)C2Cl453165.8三氯乙烯C2HCl3191131.4五氯乙烷C2HCl514202.3反式-1,2-二氯乙烯C2H2Cl277796.9顺式-1,2-二氯乙烯C2H2Cl248896.91,1,2,2-四氯乙烷C2H2Cl419167.81,1,1-三氯乙烷C2H3Cl3307133.4乙腈C2H3N22941.1乙酸C2H4O24760.01,2-二氯乙烷C2H4Cl221499.0乙醇C2H6O17846.1丙酮C3H6O56358.1二甲基甲酰胺(DMF)C3H7NO1373.1正丙醇C3H8O7060.1异丙醇C3H8O13660.1四氢呋喃 (THF)C4H8O40272.1丁酮C4H8O26572.1(1,4-)二氧己环C4H8O210288.1乙酸乙酯C4H8O225188.1正丁醇C4H10O2574.1异丁醇C4H10O4274.1叔丁醇C4H10O14074.1乙醚C4H10Oatm.74.1二乙胺C4H11N58173.1吡啶C5H5N6079.1正戊烷C5H12atm.72.2正戊醇C5H12O1188.2甲基叔丁基醚C5H12O59788.2异戊醇C5H12O1488.2氯苯C6H5Cl34112.6苯C6H623678.1环己烷C6H1225084.2乙酸丁酯C6H12O235116.2己烷C6H1437386.2二异丙醚C6H14O372102.2甲苯C7H87792.1正庚烷C7H16124100.2二甲苯C8H1027106.2

一、引言随着预制菜市场的不断发展，包装密封性测试已成为保障食品品质和安全的重要环节。真空负压气泡法作为一种先进的测试方法，因其准确、高效的特点，逐渐成为预制菜包装密封性测试的首选方案。本文将详细介绍真空负压气泡法的原理及其在预制菜包装密封性测试中的应用。二、真空负压气泡法原理真空负压气泡法是一种基于压力差或真空度变化的测试方法，用于检测包装的密封性。该方法的原理在于，通过模拟包装在不同环境下的压力变化，观察包装内部是否出现气泡，从而判断包装的密封性是否良好。在测试过程中，首先将预制菜包装放入一个密封的测试腔体内，然后通过抽真空的方式使腔内形成负压。随着负压的增加，如果包装存在微小的泄漏点，空气将通过这些泄漏点进入包装内部，形成可见的气泡。通过观察气泡的产生和位置，可以准确地找到包装的泄漏点，进而判断其密封性能是否合格。三、真空负压气泡法在预制菜包装密封性测试中的应用真空负压气泡法在预制菜包装密封性测试中具有广泛的应用。首先，该方法能够准确、快速地检测出包装中可能存在的泄漏点，帮助生产厂家及时发现并改进包装问题。其次，通过调节负压的压力，可以适应不同类型的包装材料和密封要求，使得测试更加具有针对性和实用性。此外，真空负压气泡法还具有操作简单、测试成本低廉等优点，使得其在预制菜包装行业中得到了广泛的应用。四、预制菜包装密封性测试仪的选择与使用在选择预制菜包装密封性测试仪时，需要考虑多种因素。首先，要确保测试仪具有准确的测试精度和可靠的稳定性，以保证测试结果的准确性和可靠性。其次，测试仪应具备简单易懂的操作界面和友好的用户体验，方便用户进行快速、高效的测试操作。此外，测试仪的价格、售后服务等因素也应纳入考虑范围。在使用预制菜包装密封性测试仪时，需要遵循一定的操作规范。首先，要确保测试环境的清洁和干燥，避免外界因素对测试结果的影响。其次，要正确放置预制菜包装，使其与测试仪的测试腔体紧密贴合，避免漏气现象的发生。同时，要根据实际测试需求，合理设置负压的压力和测试时间等参数。五、结论真空负压气泡法作为一种先进的预制菜包装密封性测试方法，具有准确、高效、操作简单等优点，在预制菜包装行业中得到了广泛的应用。通过选择适合的预制菜包装密封性测试仪，并遵循正确的操作规范，生产厂家可以及时发现并解决包装问题，保障食品的品质和安全。未来，随着预制菜市场的不断扩大和消费者对食品品质要求的不断提高，真空负压气泡法将在预制菜包装密封性测试中发挥更加重要的作用。

由中科院近代物理研究所自行研制的“兰州重离子加速器充气反冲谱仪清洁、大流量真空差分系统”于10月28日通过了由甘肃省科技厅组织、中科院兰州分院主持的科技成果鉴定。 　　鉴定委员会听取了课题组做的研制报告、专家现场测试报告，审阅了科技查新报告、用户使用报告以及课题组提供的图纸和档案材料。经认真质询讨论后，一致认为：充气反冲谱仪是兰州重离子加速器开展超重核研究的核心装置，该项目所研制的清洁、大流量真空差分系统是保证充气反冲谱仪正常工作的关键设备。课题组在国内外首次采用自行研制的在过渡流状态下连续运行、大排气流量的分子增压泵机组取代传统的返油严重、体积庞大、能耗大的罗茨泵机组，设计并建造了清洁、大流量的真空差分系统，该系统洁净度好、体积小、能耗低 研制的新型分子增压泵具有中、高真空双重性能，与目前国内外已有的中真空泵相比结构简单、能耗低、体积小、重量轻 通过在小孔法兰上设计差分管道，在不影响束流通过的同时减小了流导，在差分距离短、节流孔径大的限制下实现了7-8个数量级的差分过渡。 　　鉴定委员会认为，该系统设计方案新颖，技术先进，创新点突出，达到了国际领先水平，同意通过科技成果鉴定。 　　鉴定委员会建议进一步监测系统运行的可靠性，将分子增压泵产品系列化。

铝箔针孔检测仪 药用铝箔针孔度检查台SBG-80T针孔检测台，由D6500高显色性超级光管与精密制造的投光机构组成。各项技术指标充分满足CIE国际照明委员会及CY3－91标准有关色评价与配色比色照明条件的规定。可全天候应用于铝箔针孔度的测试。SBG-80T针孔检测台专业技术：进口CIE D65 光源配置光谱稳定、显色准确符合标准的钢化玻璃，照度规范、光照均匀、可靠安全配置光源寿命自动计时器，方便用户及时了解仪器的运行情况测试原理：在规定的环境及灯箱光源下，利用铝箔针孔的透光性，观察铝箔针孔数量，并测量针孔的尺寸。测试标准：该仪器参照多项国家和国际标准：GB/T 3198、GB/T 22638.2、YBB 00152002-2015测试应用：基础应用：药用铝箔——适用于药品包装用铝箔针孔度测试工业铝箔——适用于工业用铝箔针孔度测试SBG-80T针孔检测台技术指标：观察尺寸：400×250mm色温：6500 K玻璃透射光照度：1000Lux左右使用环境光照度：20Lux-50Lux放大倍数：100倍最小刻度值：0.01mm电源：220VAC 50Hz/ 120VAC 60Hz外形尺寸：800mm(L) × 600mm(W) × 230mm(H)净重：10 kg产品配置：标准配置：主机、显微镜创新点：1、推出的新产品，用于铝箔材料针孔检测 2、实验效率高，坚固耐用，外形美观 铝箔针孔检测仪 药用铝箔针孔度检查台

table border=" 1" cellspacing=" 0" cellpadding=" 0" width=" 600" tbody tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 成果名称 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " 超高真空低温恒温器 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 单位名称 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " 中科院物理研究所 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 联系人 /p /td td width=" 175" p style=" line-height: 1.75em " 郇庆 /p /td td width=" 159" p style=" line-height: 1.75em " 联系邮箱 /p /td td width=" 192" p style=" line-height: 1.75em " qhuan_uci@yahoo.com /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 成果成熟度 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " √正在研发 □已有样机 □通过小试 □通过中试 □可以量产 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 合作方式 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " √技术转让 & nbsp & nbsp √技术入股 & nbsp □合作开发& nbsp √其他 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 成果简介： /strong br/ & nbsp & nbsp /p p style=" text-align:center" img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201603/insimg/a1a94f9f-3af9-4ec9-98bc-1812fcf23df2.jpg" title=" cryostat.jpg" width=" 280" height=" 373" border=" 0" hspace=" 0" vspace=" 0" style=" width: 280px height: 373px " / /p p style=" line-height: 1.75em " & nbsp br/ /p p style=" line-height: 1.75em " & nbsp & nbsp 针对SPM等振动敏感设备所设计的一款可在超高真空环境下工作的低温恒温器。设计运用有限元分析方法进行模拟和仿真，力求达到最低的漏热和振动，最大化低温制冷剂使用效率。尚在研发中，主要技术指标待测。 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 应用前景： /strong br/ & nbsp & nbsp & nbsp 在电子输运测量、磁性测量、拉曼光谱、X射线衍射、SPM等诸多实验过程中，都需要用到低温环境，其中很多测量还对真空度、振动等提出了更苛刻的要求。该设备针对机械振动进行了优化设计，同时兼容超高真空环境，适用于SPM系统以及光学光谱等应用，国内每年需求量在数十台至上百台。 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 知识产权及项目获奖情况： /strong br/ & nbsp & nbsp & nbsp strong & nbsp & nbsp & nbsp /strong 发明专利：201510345910.8 /p /td /tr /tbody /table p br/ /p

世界首个集材料生长、器件制备、测试分析为一体的纳米领域大科学装置——纳米真空互联综合实验站正在我国江苏苏州工业园区建设。实验站一期于2014年开始建设，预计2018年建成，建设经费3.2亿元，整个实验站的总预算为15亿元。　　正在建设中的这个纳米实验站是目前世界上最大的真空互联科研装置。其总体方案是：用总长近500米的超高真空管道，将上百台用于材料生长、器件制备、测试分析的大型仪器设备互联，实现样品在不同设备之间传送时其表面不被氧化、沾污，不被外界大气环境所破坏。中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员、纳米真空互联实验站常务副总指挥丁孙安说，实验站通过超高空间分辨、时间分辨、能量分辨、质量分辨等的高端能力仪器设备，对物质的“本征性质”进行研究，从而实现量子材料的设计、制备和表征，后摩尔时代器件加工和测试分析，同时开展新材料、新工艺、新结构和新功能的开发和研究，以及形成第三代半导体工艺包。　科研人员在建设中的纳米真空互联综合实验站调试设备　　纳米真空互联实验站是依托中科院苏州纳米所，联合清华大学薛其坤院士团队、中科院大连化学物理研究所包信和院士团队建设的。一期建设由中科院、江苏省、苏州市和苏州工业园区共建，从2014年开始建设，预计2018年建成，建设经费3.2亿元。一期建成后将连接30多台设备，形成100米的真空管道。整个实验站的总预算是15亿元。　　丁孙安指出，实验站力图通过超高真空条件下的互联集成和若干重大项目验证，突破现有仪器设备的功能限制，实现材料制备、测试分析与微纳加工工艺等方面协同效应，为科研和战略性新兴产业发展提供先进的开放平台。　　“这个实验装置是在类似太空的全真空环境下的纳米器件研发平台，相当于把现有的加工设备统一搬到太空。”丁孙安说。　　“未来电子元器件将发展到纳米级，也就是纳电子，器件尺寸越来越小，集成度越来越高，可以提高器件性能。但是那么小的器件以目前的工艺还有很多效应无法解决，不能完成新型器件的制造。所以未来生产纳米甚至以下级别的器件需要一种全新的技术路线。”丁孙安说。　　“在纳米科学技术研究中许多问题不能只靠一种手段解决，需要多种手段、多台设备联合解决。同一个材料样品在不同设备之间转换，暴露在空气中，性能就会发生变化，纳米真空互联装置把很多设备都集中在同一个平台上，减少了很多影响器件的因素，并且能省去很多不必要的工艺环节，从而节约成本，器件质量也会大大提高。”丁孙安说。　　他表示，纳米真空互联实验站不仅可以开展硬件研制，也能开发新的工艺，超导器件、半导体器件等对表面敏感的材料器件都可以在这里制造，可实现量子材料的设计、制备，这样就可以用于制造强大的量子计算机。科学家可以利用这套装置，生产很多更智能化、更可靠、更小型的器件，可应用于通讯、信息、人工智能等领域。由于降低了成本，未来普通人也可以使用更高端小巧的设备。　　实验站建成后将形成一个国际顶尖纳米科技人才的聚集高地，对地方经济、科技具有很强的带动与辐射作用 实验站设备大多数需要自主研发和设计改造集成，可大大提升中国重大仪器设备的研制水平。　　中科院纳米所所长杨辉说，在此建设纳米真空互联实验站，是力图通过真空条件下的互联集成和若干重大项目验证，突破现有仪器设备的功能限制，实现材料制备、测试分析与微纳加工工艺等方面协同效应，为科研和战略性新兴产业发展提供先进的、开放性的平台。

创元公司出席全国真空高温低压渗碳技术论坛会并宣传代理产品---日本不二越公司真空高温渗碳装置近日陈来军助理代表创元公司参加了全国热处理学会在常州举办的全国真空高温低压渗碳技术论坛并在会上宣传我司代理新产品----日本不二越公司真空高温渗碳装置。日本株式会社不二越公司高温真空渗碳炉简介1、 技术优势：对齿轮钢等零件在相同的渗碳层深度条件下，渗碳温度可以提高很多，渗碳温度最高可达1050度。和气体渗碳相比可以使渗碳时间缩短一半,渗碳质量更为稳定可控，相比以前更节能，环保。2、 历史悠久：自1999年开发出第一台高温真空渗碳炉一来，已经拥有小型实验型以及大型生产设备多种系列产品。在日本国内已经有30多家客户，爱知特钢等已经使用该公司该设备开始量产汽车零部件。3、小型高温真空渗碳炉NVC基本参数：炉容量（100KG）、达到的真空度为10Pa、最高渗碳温度为1050度，占用空间为3x4mx5m（高），无气体发生装置使用气瓶C2H4，渗碳室和淬火室用门分开，除了装料需要人工外，其他动作全部自动完成。 与会者一直认为，传统的渗碳方法是一个时间长、污染环境、耗能大的漫长过程，而高温真空低压渗碳技术的发展使得渗碳过程变得干净、耗能更少，质量更为稳定可控。 这一技术可广泛用于汽车工业,如变速箱和传动装置上的零部件以及其他需要进行零部件表面渗碳淬火的工业领域.欢迎大家来电垂询！

Chemker 耐腐蚀真空泵浦 / 高真空 / 低噪音 一次满足常用实验室真空过滤等◆ 溶剂纯化 将化学溶液中的精细颗粒或杂质，经滤膜等多孔性材料阻挡去除而得到澄清目标液，称为溶剂纯化，常见于精密仪器上机分析的前处理。 化学溶液、溶剂的负压过滤常以耐腐蚀真空帮浦进行，减缓化学蒸气对泵浦的侵蚀，也藉由负压加快整体过滤速度。◆ 旋转浓缩是一种适合大体积、单一样品的分离与纯化方法。其作用原理为同时调降真空度、增加蒸发面积及温度控制，连续、大量的蒸馏出易挥发性溶剂。但蒸馏出的溶剂若不加以搜集则容易逸散于空气中危害人体及环境，因此可搭配冷凝设备回收蒸馏出的溶剂，如循环式冷凝器等。 回转浓缩机的作用物质以溶剂及化学物质为主，因此帮浦的挑选以聚四氟乙烯(PTFE)制成的耐腐蚀帮浦为最佳选择。帮浦规格的挑选，如流量应与样品瓶容积呈正比；最大真空的要求则依溶剂及其沸点不同而有很大的差异，因此真空控制器的搭配能帮助您精准的控制真空度避免突沸，大幅缩短处理时间。◆ 真空烘箱利用真空降低水或溶剂的沸点并搭配温度加热，能在较低温度下得到较高的干燥效率，特别适合热敏性、易分解、易氧化物质的干燥。 泵浦的挑选依溶液(水或溶剂)种类、目标物质的耐受温度、干燥程度及烘箱的尺寸而有不同。目标物质的耐受温度愈低则应选择较高真空的机种以降低沸点；而泵浦流量则与欲干燥的蒸气量及烘箱的体积容积呈正比。

美国时间2011年12月21日，安捷伦科技公司宣布，其已收购历史悠久的真空泵制造商P.V.R. s.r.l.(以下简称为P.V.R.)。P.V.R.总部位于意大利，是一家私人控股公司。此次收购扩展了安捷伦工业应用的真空产品组合。该交易的财务细节没有透露。 　　P.V.R.从上世纪60年代开始设计和制造真空泵，目前产品组合包括定位工业市场的旋转叶片真空泵，以及为食品、造纸、化工等行业提供无油微型泵、转子式真空泵、干旋转爪式真空泵、中央真空系统及真空配件。 　　安捷伦的真空产品部与P.V.R.自2008年开始就是原始设备制造商的关系。2010年安捷伦收购瓦里安后，获得了瓦里安的真空部门。 　　安捷伦真空产品部门副总裁兼总经理Giampaolo Levi表示，“P.V.R.是安捷伦多年来值得信赖的合作伙伴。P.V.R.加入安捷伦将加快我们的创新和提高我们更快、更好地服务客户及提供更广泛的解决方案的能力。此次收购是整体大于部分之和一个很好的例子。” 　　P.V.R.的产品补充了安捷伦现有的真空产品组合，其中包括高真空泵、干和湿主泵及真空仪器。此次收购也给安捷伦带来了在增长的亚洲市场重要的真空产品客户基础。 　　P.V.R.前董事总经理Stefano Severgnini表示，“加入安捷伦，我们的业务将增长到一个新的水平。我们将受益于安捷伦的全球分销渠道和品牌知名度，这将有助于我们的业务扩大到新的地区和更多的客户。我们看重安捷伦在研发方面的持续投资以确保其真空技术的市场领先。” 　　P.V.R.在意大利的38名员工现在已经加入了安捷伦在意大利的全资子公司。

普发真空欢迎2014年度伦琴奖金获得者 原子量子态的相干叠加真空是基础科学研究的关键 2014年11月21日，德国，阿斯拉尔今年，德国吉森大学将伦琴奖金授予J?rg Evers教授。每年伦琴奖金都对辐射物理学和辐射生物学等基础研究的突出工作进行表彰。为纪念1879至1888年间在吉森任职教授的威廉伦琴而以伦琴命名的奖项主要对青年科学家的工作进行奖励。此奖由普发真空、Erich Pfeiffer博士基金会及Ludwig Schunk基金会资助。 本年度获奖者，Evers博士教授目前是海德堡马克斯普兰克核物理研究所的组长。他凭借对原子量子态的相干叠加的可能实现性进行理论预测而荣获该奖。此预测在汉堡德国电子同步加速器研究所(DESY)PETRA III贮存环进行的实验中得到了验证。Petra III以其强大光源为科学家们提供了卓越的实验设备。该尝试在薄层制备中实现，即利用一个处于碳层和钯层之间的具有铁芯的0.6nm厚的薄层。该实验包括了穆斯堡尔光谱学的应用成果，该成果于1961年曾获得伦琴奖和诺贝尔奖。 这些研究成果的一个典型应用就是在量子信息技术领域中对量子计算机的潜在用途。由于如量子态相干叠加等的典型量子现象极为易感干扰，所以它们仅在理想的实验室条件下才得以显现，即在真空条件下。 普发真空技术股份公司首席执行官Manfred Bender祝贺获奖者：Bender说道，“于我们而言，支持前沿研究领域的青年科学家是极为重要的”。“如今许多科研机构已是普发真空多年的伙伴了。我们的真空解决方案成功用于德国电子同步加速器研究所，我们PRESSRELEASEPage2of3也很高兴Evers教授能够在那里验证了他的理论假设。” 在吉森大学举行颁奖的前日，该获奖者造访了赞助公司普发真空并对他的研究成果作了报告。图片说明：普发真空技术股份公司首席执行官Manfred Bender，伦琴奖金获得者Evers教授及Erich Pfeiffer博士基金会主席Wilfried Glaum（左起）德国Pfeiffer-vacuum官方网址：www.pfeiffer-vacuum.com 地址：上海市浦东新区杨高南路428号由由世纪广场5楼B座 电话：021-3993 9940 微信公众号：普发真空 - Pfeiffer Vacuum 微信二维码：

仪器信息网讯 2024年4月18日，“大型质谱仪真空系统全新组合，革新质谱仪的节能之道”普发真空SmartVane产品推介会成功举办。该活动线上线下同步举行，整场活动精彩纷呈，高潮迭起，吸引了众多行业内外人士的目光，反响热烈。普发真空作为全球领先的真空技术解决方案的供应商之一，从1958年发明涡轮分子泵至今，在全球分析仪器、科研探索、真空镀膜、半导体制造以及尖端工业等领域。真空系统是质谱仪的主要组成部分，在质谱测定过程中，凡是有样品分子和离子通过以及存在的地方都必须抽成高真空。在本次推介会上，普发真空中国技术支持马良详细介绍了实验室中理想的无漏油真空解决方案以及SplitFlow + SmartVane 真空系统组合产品在大型质谱领域的应用。SmartVane作为一款密封的旋片泵，摒弃了传统轴封设计，避免漏油问题，特别适用于质谱分析。其出色的低噪音特性，为实验室提供了一个更为安静的工作环境，特别是在低于10 hPA的压力环境下，其静音效果更为显著。紧凑而精巧的设计，不仅简化了安装流程，更使得与其他设备的连接变得轻而易举。更值得一提的是，SmartVane还搭载了集成的节能IPM电机，有效降低了运行成本，同时大幅减少了维护成本，延长维护周期，极大地提升了使用效率。此外，它还配备了智能通信选项，为用户提供了更加便捷、智能的操作体验。而与SmartVane搭配使用的SplitFlow 350，则是一款炮筒式多口分子泵，其多抽口设计使得在差分系统中，仅凭一台泵即可实现多台泵的效果。SplitFlow 350不仅功耗低（功耗降低10-30%）、抽气速度快、气体压缩比高，还配备了优化的操控系统、集成的分子泵控制器，防护等级高达IP 44/NEMA 12，并通过了UL/CSA认证。此外，采用集成的转子温度测量功能，确保了分子泵的稳定性和安全性，为用户提供了更加安心、高效的使用体验。在直播过程中，普发真空中国分析仪器行业经理黄杰以及普发真空德国分析仪器行业经理Eduard Weber均亲临现场，为观众答疑解惑，分享产品使用的经验与心得。同时，众多行业专家、以及新老客户也都积极参与。普发真空中国技术支持马良（左二）、普发真空德国分析仪器行业经理Eduard Weber（右二）和普发真空中国分析仪器行业经理黄杰（右一）现场答疑现场演示为了感谢广大网友的积极参与，直播活动还特别设置了现场抽奖环节。此次普发真空SmartVane产品推介会的成功举办，不仅为广大用户提供了优质的解决方案分享，还生动的展示了普发真空在分析技术领域的创新实力。关于普发真空普发真空- (Stock Exchange Symbol PFV, ISIN DE0006916604)-作为全球领先的真空技术解决方案的供应商之一。我们不仅拥有全系列的复合轴承及全磁悬浮涡轮分子泵, 同时还拥有各种前级真空泵，检漏仪，真空计， 质谱仪以及真空管件腔体和系统解决方案。 从普发真空发明涡轮分子泵至今, 我们在全球分析仪器、工业、科研、镀膜和半导体领域，始终代表着创新的解决方案和高品质的产品。公司自1890年创立至今百余年始终走在世界前沿， 在全球拥有 4,000 多名员工和20 多家分公司。普发真空是Busch Group的一员，Busch Group 是全球最大的真空泵、真空系统、鼓风机、压缩机和废气净化系统制造商之一。Busch Group 旗下拥有普旭真空解决方案(Busch Vacuum Solutions)、普发真空(Pfeiffer Vacuum)及商先创环保科技(centrotherm clean solutions)三大知名品牌。

真空冷冻干燥机制冷系统常见的故障及排除方法 真空冷冻干燥机广泛用于医学、制药、生物研究、化工和食品等领域。经冷冻干燥处理的物品易于长期保存，加水后能恢复到冻干前状态并保持原有生化特性。LGJ-18N系列立式冷冻干燥机，适用于实验室使用或少量生产，可满足大多数实验室常规冻干的要求。 　　真空冷冻干燥机制冷系统常见的故障及排除方法： 　　1)高压报警。出现高压报警的主要原因有: 　　①冷却水水温过高或冷却水量不足。 　　②冷凝器内部结垢，导致换热效率降低。 　　③压缩机工作时，低压管道发生泄漏，从而导致外界空气进入制冷系统。 　　④制冷管道存在未开足阀门或因管道被堵而造成排气不畅的情况。 　　解决办法: 　　①降低冷却水温度或增加水流量。 　　②清洗冷凝器的冷却水管路。 　　③对制冷管道进行检漏，如果在工作中无法实现该项操作，可将水冷凝器上方的截止阀打开，使存在于冷凝器中的空气排放出一部分。 　　④将压缩机管道.上的阀门开启到最大。 　　2)水压报警。水压报警的主要原因有: 　　①冷却水供水压力不足或供水泵不运转。 　　②水压力控制器故障。 　　解决办法: 　　①增大外部供水压力或检修供水泵。 　　②检查压力控制器的触头是否能正常工作或检查在其线路.上是否存在其他问题。 　　3)压缩机吸气温度异常。吸气温度异常的主要原因是膨胀阀调节不当，开启度过小或过大，导致回气量过小或过大。其解决办法是对膨阀进行调节，如回气量过大，应关小开启度，如回气量过小，应开大开启度，调节过程中以微调为主，多观察压缩机的回霜情况。 　　4)膨胀阀堵塞。堵塞分泌物物堵塞(脏堵)和冰堵塞两种。 　　①杂物堵塞。在堵塞不严重时，可用扳手轻轻敲打阀体，经振动使阀体疏通。若不奏效或膨胀阀很快又重新堵塞，则说明堵塞严重，应拆卸膨胀阀，对膨胀阀滤网进行清洗，清洗完后重新装上即可。 　　②冰堵。出现冰堵，应更换冷凝器出液端过滤器。 　　5)载冷剂泄漏 　　可用肉眼观察，查找板层，软管上的泄漏点。若发现可疑漏点，应放空板层或软管内的载冷剂，对泄漏点进行充压确认，确认后放气补好泄漏点，重新加入载冷剂并排出板层和软管内气体。

冷却循环系统和真空泵是旋转蒸发系统中必不可少的外围设备。除了较高的密封性外，影响蒸发效率的三个主要参数是：加热锅温度、真空度和冷却循环系统温度。准确地设置这三个参数，可实现理想效率的蒸发。真空度是蒸馏实验中重要的影响因素。通常情况下，蒸发瓶旋转速度和加热锅温度保持不变，通过调节真空度，实现对不同沸点溶剂的蒸馏实验。与温度相比，真空度可灵活、快速地进行调整，并且有效降低热敏性物质受影响而导致的损坏。选择合适的真空泵可使您的实验工作事半功倍。比如，在蒸发高沸点溶剂（如DMSO）时，如选择的真空泵能力达不到要求，蒸发效率将大受影响。想要为您的旋转蒸发仪选择合适的真空泵，您需要考虑以下几点因素：01抽气速率真空泵的最大抽气速率是指在一定的压强和温度下，单位时间内通过真空泵入口横截面的平均气体流量。根据用户不同的应用体积，可以选择对应抽气速率的真空泵，泵的抽速越高代表着泵抽空给定体积的速度就越快。但是，最大抽速仅发生在正常大气压或接近正常大气压情况下，随着真空泵的持续运行，真空系统内压力降低，抽气速率也会随之下降。以Hei-VAC Valve Tec和Hei-VAC Valve Control为例：可以从上图看出，真空泵运行一段时间后，在相同真空度情况下，Hei-VAC Valve Control的抽气速率高于Hei-VAC Valve Tec，Hei-VAC Valve Control的能效更高。在实际实验过程中，真空泵的使用既要满足实现理想的极限真空度，同时也需要满足在较低真空值下保持良好的抽气能力，从而真正实现有效的真空稳定性。因此，选择真空泵时，需要关注的参数不只是极限抽气速率，而是在您需要的真空值下的实际抽气速率。02极限真空值极限真空值指真空泵能达到的最大真空度，系统经充分抽气后，稳定在某一真空度，此真空度称为极限真空。系统的极限真空度决定了系统的理想工作真空度。用户应根据应用对真空度的要求，选择符合极限真空的真空泵。部分旋转蒸发仪会内置真空调节系统。当然，从经济角度，您也可以选择基础款旋转蒸发仪搭配一台真空控制器，以便满足不同实验的真空要求。极限真空并非越低越好，还需结合泵的能效综合考量。03介质成分选择真空泵时，用户应考虑介质样品尤其是挥发出的介质是否含有腐蚀性或其他有害物质。如果含有腐蚀性或有害物质，则需要选择耐化学腐蚀的隔膜泵和连接管路，必要时，可在旋转蒸发仪与真空泵之间增加一个二级冷凝器，用于冷却有害气体进行回收，保障实验室的安全。04精度控制隔膜真空泵分为定频隔膜泵和变频隔膜泵。定频隔膜泵属于实验室常用设备，可通过电子或手动真空控制器进行真空控制，是蒸馏过程中较为经济便捷的真空解决方案。如需实现对设定真空度的正确、无滞后的控制，从而尽可能地减少暴沸、活性物质起泡等风险，使样品分离更纯净，可以为定频真空泵配置电子真空控制器，实现对真空度的精确控制。变频隔膜真空泵可通过旋转蒸发仪或泵自身控制单元的信号灵活地调节速度，当整个系统的泄漏导致真空度超过设定值或设定的滞后值时，会自动启动抽气，有效降低噪音干扰，节约能源。同时相较于定频泵而言成本偏高一些。用户可以根据需求选择。真空系统选购指南针对不同的旋转蒸发仪，我们为您提供多种真空系统，以满足您的个性化需求。END关于HeidolphHeidolph集团是创新型实验室前处理设备的制造厂商。磁力搅拌器、顶置式搅拌器、台式旋转蒸发仪、工业大型旋转蒸发仪、蠕动泵、混匀器、恒温摇床等相关产品构成了Heidolph实验室设备的产品线。集团总部位于德国南部的纽伦堡附近的施瓦巴赫市。作为Heidolph集团全资子公司，海道尔夫仪器设备（上海）有限公司于2019年正式成立，旨在为中国用户提供更为直接、更快速的服务。如需更多详细信息请致电400-021-7800或邮件sales@heidolph-instruments.cn，我们将竭诚为您服务。

产品介绍真空衰减仪依据《ASTM F2338-2013 包装泄漏的标准检测方法-真空衰减法》 标准研发。专业适用于各种空的/预充式 注射器、水针及粉针瓶（玻璃/塑料）、灌装压盖瓶、奶粉罐、其他硬质包装容器、电器元件等试样的无损正、负压的微泄漏测试。本产品采用先 进的设计和严谨、科学的计算方法保证了其快速测试和高准确度及高稳定性。亦可满足用户的非标准（软件或测试夹具）定制。执行标准：《ASTM F2338-13 包装泄漏的标准检测方法-真空衰减法》 《USP1207美国药典标准 》 《药品GMP指南——无菌药品》11.1密封完整性测试 《中国药典》2020年版四部 微生物检查法 《化学药品注射剂包装系统密封性研究技术指南（试行）》 《YYT 0681.18-2020 无菌医疗器械包装试验方法第18部分：用真空衰减法无损检验包装泄漏》 山东普创工业科技有限公司，专业研发生产包装检测设备，更多定制设备，等您来洽谈！

p 　　 strong 仪器信息网 /strong 2020年4月17号，上海——近日，普发真空推出全新单级油封式旋片泵Hena 50 和 Hena 70。这两款泵专为质谱仪系统的高要求而设计，根据尺寸和转速的变化，抽速在 32 m³ /h和 59 m³ /h 之间，其集成的油雾分离器可确保排气清洁。泵本身同时配备变频器，能够在全球范围内以单相输入和相同的50和60 Hz额定功率使用。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202004/uepic/63eb4489-ba8f-4181-97e9-95e712987da1.jpg" title=" 图片 1.png" alt=" 图片 1.png" / /p p /p p style=" text-align: center " 图片说明：Hena 普发真空旋片泵 /p p 　　Hena系列真空泵性能高且极为可靠，这源自于其在目标压力范围内的恒定的高流量、可调节抽速和低末端真空度。另外，泵中的高油量及低油温的运行方式也确保了较长的维护间隔和运行时间。 /p p 　　凭借自身出色的牢固性和可靠性，Hena 50 和 Hena 70 可以提高整体可利用性。同时，由于它们较低的噪声水平和高效的油分离器，也能轻松进行集成。Hena 50 和 Hena 70 已通过 UL（美国保险商试验所） & nbsp 和 IEC（国际电工委员会） 61010 认证，多个世界化标准组织的认可表明了普发真空Hena 50和Hena 70单级油封式旋片泵的安全与可靠，是各类实验室的理想之选。 /p

9月4日，zycgr21070801公布2024年10月采购意向，总预算金额5410万元，涉及CPU服务器、磁控溅射镀膜机、稀释制冷机等设备，共计51台/套，其中CPU服务器相关设备40台，包括36台计算节点服务器，1台登录管理服务器，1台IB交换机，2台千兆交换机。序号采购单位采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额（万元）预计采购日期1zycgr21070801真空泵A02109900其他仪器仪表详见项目详情1702024年10月2zycgr21070801尾气处理设备A02109900其他仪器仪表详见项目详情2702024年10月3zycgr21070801稀释制冷机A02109900其他仪器仪表详见项目详情6002024年10月4zycgr21070801CPU服务器A02010103服务器详见项目详情3002024年10月5zycgr21070801稀释制冷机A02109900其他仪器仪表详见项目详情6752024年10月6zycgr21070801磁控溅射镀膜机A02109900其他仪器仪表详见项目详情2702024年10月7zycgr21070801稀释制冷机A02109900其他仪器仪表详见项目详情3502024年10月8zycgr21070801时频比对处理机电路电性件A02109900其他仪器仪表详见项目详情5002024年10月9zycgr21070801高精度标准平面A02109900其他仪器仪表详见项目详情20002024年10月10zycgr21070801热蒸发系统A02109900其他仪器仪表详见项目详情2752024年10月

2016年2016年10月10日-12日，第八届慕尼黑上海分析生化展(analytica China 2016)在上海浦东新国际博览中心盛大召开。　　借此盛会，作为以实验室真空过滤设备为主要产品，集研发、制造、行销为一体的洛科仪器股份有限公司携两款真空泵新产品亮相了此次展会。　　为了让广大网友更加直观的了解洛科仪器此次带来的新品情况，仪器信息网对洛科仪器产品经理洪国展进行了展位采访，洪经理对两款新产品的特点、产品优势及应用领域进行了详细介绍，具体内容请观看以下采访视频：感谢仪器信息网采访

由李得天院士发起的“真空技术振兴计划”院士咨询课题研讨会于7月20日-22日在天津开展，北京市真空计量检测工程技术研究中心技术委员会会议（依托于中国航天五院五一四所）同期举行，中科科仪党委副书记、总经理王高峰受邀出席，并作了“国产分子泵发展现状及产业化进展”的主旨报告，来自中国航天五院五一四所、五一零所、清华大学、东北大学、北京航空航天大学、北京理工大学、中电科等众多高校院所和企业的50余位专家学者参加了会议。本次会议聚焦培育新质生产力，助力高水平科技自立自强，围绕李得天院士发起的“真空技术振兴计划”充分开展研讨，通过对高端真空测量仪器、真空镀膜技术与设备、真空获得产品的发展现状、市场需求、发展重点的研讨分析，充分厘清了我国真空技术产业化发展的痛点和难点，促进了真空产业链上下游的合作，会议的成功举办将对我国高端真空装备产业转型升级，国家战略性新兴产业高质量发展形成有效推动。王高峰首先介绍了国内外分子泵的发展历程和现状，对分子泵抽气结构、支撑结构、驱动结构等关键部件的演化进行了系统回顾，对国内外分子泵性能技术进行了直观对比，紧接着，他向与会专家介绍了中科科仪在磁悬浮分子泵、仪器泵领域的应用和最新研发进展，并围绕产业化过程中关键技术、资源投入、成果转化、市场应用、人才培养面临的挑战进行了论述，最后从新产品、新环境、新业态方面对国产分子泵的发展进行了展望，报告获得了与会专家学者的一致好评，李得天院士及五一四所、北京航空航天大学的多位专家学者就国产分子泵的发展与王高峰展开了详细讨论。中科科仪作为国内尖端科学仪器设备及真空行业的领军者，未来，将紧抓时代机遇，面向国家战略需求，践行国企使命担当，依靠关键核心技术创新，深度参与“真空技术振兴计划”，持续深耕真空技术领域，聚力核心技术攻关，提升行业应用能力，推进规模产业化，助力打好中国真空技术振兴的攻坚战。