进口狮跑仪

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

离轴抛物镜又叫离轴抛物面反射镜，是由金属铝材加工而成的一种金属抛物面反射镜，英文名称为Off-axis Parabolic Metal Mirrors。离轴抛物镜主要用于聚焦离轴光束。我们提供的离轴抛物镜,离轴抛物面反射镜由优质进口实心棒料加工而成，具有最小的表面畸变，所有离轴抛物镜,离轴抛物面反射镜都是采用棒料加工减少面型变形，都使用先进的金刚石车削先进设备加工。质量可靠。离轴抛物镜产品特点：采用高级铝材作为镜片衬底可提供30,60,90度的离轴抛物面反射镜可提供安装器件离轴抛物面反射镜主要参数：材料：铝直径公差：+0.00/-0.4mm焦距公差：+/-1%表面质量：L/4--L RMS (依据尺寸决定）表面粗糙度：100-175埃 RMS镀膜：镀铝或镀金询问服务，有关离轴抛物镜,离轴抛物面反射镜信息请Email给我们，您会收到及时的报价回复。

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

产品描述：ASPIN美国进口精密定量移液管材质：玻璃 容量校准为“In”蚀刻、不可拭除的容量标记；高温上釉铭文带彩色编码和批次证书ASPIN美国进口精密定量移液管： ASPIN移液管的吸头厚度足以耐受冲击。末端较薄，呈锥形且经过抛光。机械生产工艺能够确保其形状整齐、一致。A+级的公差精确度是A级的两倍。 ASPIN美国进口精密定量移液管产品规格：容量 误差 长度 包装规格 VWR目录号 10 ml 0,012 ± ml 450 mm 1VWRF09551.207

圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸 实验室酸缸由上海书培实验设备有限公司提供，耐酸碱塑料浸泡缸耐强酸、强碱，用来浸泡实验室器皿，大多用于化学实验室，生物实验室、等科研单位。规格齐全，质量优质欢迎新老客户来电咨询选购。圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸 实验室酸缸 产品介绍：缸按照结构分为：外缸，内缸，缸盖，两侧托手！外缸最下面与最上面一圈封条，由专用粘合剂粘合，全部塑料焊接这样保证安全性，长期使用不漏液，本产品弥补了玻璃与陶瓷材质易碎危险性大的不足！酸缸使用方法：内缸里面放要清洗的器皿，浸泡结束，把内缸向上提出，内缸上面有很多小孔，液体从内缸体小孔流出！取出物品，盖上盖子！可以放下内缸！圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸 实验室酸缸 产品规格：产品名称直径（cm）高度(cm)价格（元）圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸1625430圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2030488圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2045600圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2050720圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2055768圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2060850圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2550989圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸25601000圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸30401050圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸30501200圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸30601350圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸2040565圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸20701000圆形移液管酸缸 耐酸碱浸泡缸30701650关于酸缸材料的说明：一：无毒、无嗅；二：强度高：韧性好，耐冲击。三：不结垢：材料光滑，长期不结垢。四：耐高温：在规定的长期连续工作压力下，可以在80℃左右下操作。3、耐腐蚀：耐强酸强碱。

深圳市天友利标准光源有限公司(Since 1998)，10多年来长期直接进口国际品牌标准灯管、灯泡到三地工厂仓库，大量备有现货，客户所需的标准、特殊灯管几乎都直接或间接出自于天友利。因常年服务于客户，知道客户所需的型号：备有数百种标准光源的灯管、灯泡之现货，涵盖各个行业之领域。 inca灯泡 120V 75W Macbeth Judge II 专用 A灯 电压：120V 功率：75W 产地：原装进口 深圳市天友利标准光源有限公司(Since 1998)，10多年来长期直接进口国际品牌标准灯管、灯泡到三地工厂仓库，大量备有现货，客户所需的标准、特殊灯管几乎都直接或间接出自于天友利。 因常年服务于客户，知道客户所需的型号：备有数百种标准光源的灯管、灯泡之现货，涵盖各个行业之领域。 注意：非标准光源专业厂家很容易弄错型号或因包装不好而极易损坏！！！

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

PHILIPS飞利浦卤素灯 型号　　规格　　通用代码　　主要应用　　产地 7387　　6V10W米泡　ESA／FHD　　显微镜　　欧洲进口 7388　　6V20W米泡　　ESB　　光学设备　　欧洲进口 5761　　6V30W米泡　　　　　　欧洲进口 7027　　12V50W米泡　　BRL／BCD　　内窥镜　　欧洲进口 7023　　12V100W米泡　　FCR　　投影仪　　欧洲进口 6834　　12V100W杯泡　　　　显微镜　　　　　　　　　欧洲进口 Zeiss蔡司荧光显微镜灯泡 灯泡型号： HBO50W/3HBO50W/ACHBO100W/2HBO103W/2HBO200W/2HBO200W/4 HBO200W XBO75W/2XBO75W/2OFRXBO150W/1XBO150W/1OFRXBO450WOFR OLYMPUS奥林巴斯显微镜灯泡 灯泡机型 LS156V15WBHCBHMBHMJVM-LSG.STM LS306V30WBHABHBIMT 6V10WCHACHB 6V20WCHK2CHSCH20CH30CK2 6V30WBX41BX40CX40CX2IX50BHTCK30/40 12V100WBX12BX50BX60BHS 220V20WSBCHK HBO50WCHCXCX2CK40 HBO100WBX2BXBH2 HBO200W 型号： HBO50W/ACHBO100W/2HBO200W XBO75W/2XBO150W/1OFRBHF Leica莱卡显微镜灯泡 型号： HBO50W/ACHBO1000W/2HBO200WHBO200W/2HBO200W/DCHBO200W/4 XBO75W/2XBO75W/2XBO100WOFRXBO150W/1XBO450WOFR OSRAM荧光显微镜灯泡HBO100W/2HBO100W/2 OLYMPUS倒置显微镜灯泡LS-30 NIKON显微镜灯杯6V20WJCRM6V20W OLYMPUS显微镜灯GB-4GB-4 Leica/Leitz显微镜灯泡仪器型号如下，灯泡型号： ZEISS灯泡39-01-536V25W ZEISS灯泡38-01-776V15W Zeiss荧光显微镜灯泡如表 BAUSCH&LOMB灯泡71-71-506V25W LEICA手术显微镜灯泡38464312V50W OSRAM荧光显微镜灯泡HBO103W/2HBO103W/2 Zeiss显微镜灯泡38-01-776V15W OSRAM荧光显微镜灯泡HBO50WACHBO50W/AC NARVA灯泡551476V25W Nikon荧光显微镜灯泡见表 ZEISS显微镜灯泡6V15W 各品牌显微镜灯泡OLYMPUS/Storz/Zeiss/Leitz/Nicon/Wolf ZEISS定位机灯泡38-61-07SL1206V OLYMPUS倒置显微镜灯泡LS-15 OLYMPUS显微镜灯泡TB-16V5A6V5ATB-1 OLYMPUS荧光显微镜灯泡见表 手术显微镜灯泡12V60W ZEISS灯泡39-01-766V15W 220V30W奥林巴斯灯泡 380018-252012V60W Standard014-380018-1740.6V15W StandardWL-380018-1730.6V15W 380018-2520Zeiss12V60W XTL-3100(E,F)连续变倍体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTJ-4000D体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTX-3C体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTD-6分档变倍体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V20W --------------------------------------------- MMDS-SP倒置金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V30W D5000透反射倒置金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V30W BDS系列（BDS200-FL，BDS200，BDS200-PH）倒置显微镜灯泡：卤素灯泡12V20W -------------------------------------------- MDJ系列金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V/20W MIT100反射金相显微镜灯泡：6V20W卤素灯 MC006-6XB正置三目金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W MPC-850金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W MC006-5XB正置双目金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W 6XB-PC型金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W MDS-SP金相显微镜灯泡：卤素灯泡6V/30W, MDS系列实验室倒置金相显微镜6V/30W ------------------------------------------- SMZ-B2双目体式显微镜灯泡：卤素杯灯12V/15W XTD-406B体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTD-406C体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTJ-4400体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTL3400体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTL-2600体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTL-2400体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W XTJ4600体视显微镜灯泡：卤素灯泡12V10W --------------------------------------------- XLE-1大平台金相检测显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W XLE-2大平台金相检测显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W XLE—3大平台金相检测显微镜灯泡：卤素灯泡12V/50W ---------------------------------------------- BK-POL偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡12V50W BK-POLR偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡12V50W XPT-7单目偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡灯泡:6V15W XP400D型偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡6V20W XP400B型偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡6V20W XP400C型偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡6V20W POL-280偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡12V20W XP500C偏光显微镜灯泡：6V15W XP1D实验室透射偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡6V15W 59X普及偏光显微镜灯泡：卤钨灯泡12V30W ---------------------------------------------- BK-FL24荧光显微镜泡：卤素灯泡6V20W BK-FL4荧光显微镜泡：卤素灯泡6V20W 奥林巴斯BX51-FL荧光显微灯泡：卤素灯泡12V100W ------------------------------------------------ XSP-15C生物倒置显微镜灯泡：卤素灯泡12V50W SMART系列生物显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W 奥林巴斯CX21生物显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W 奥林巴斯CX41/CX31系列生物显微镜灯泡：卤素灯泡6V30W XDS1C电脑型倒置生物显微镜灯泡：卤素灯泡12V50W XDS1D数码型倒置生物显微镜灯泡：卤素灯泡12V50W. 万能研究级正置奥林巴斯BX41生物显微镜灯泡：卤素灯泡6V30W L1100型生物显微镜灯泡：卤素灯泡6V20W

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

GPC-50A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要适用于UNIPOL-802研磨抛光机上。GPC-50A精密磨抛控制仪是工件进行磨抛时不可缺少的精密器具，尤其适用于对表面质量要求高的小尺寸薄片样品，磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪相连接，样品采用粘附的形式装卡在载样块上，载样块承载样件直径不大于50mm、厚度不大于10mm。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的样品研磨使用。产品名称GPC-50A精确磨抛控制仪产品型号GPC-50A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：无。5.外形尺寸：φ89mm*154mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 52mm2、载样盘轴向行程：10mm（分度螺母移动一格，载样盘轴向移动0.025mm）3、数显表精度：0.001mm4、载样盘部分空载压力：500g5、承载样件尺寸：直径≤50mm、厚度≤8mm产品规格尺寸：外径89mm，高154mm标准配件配重砝码（共400g）可选配件配重块（25g、50g）

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

名称型号规格价格（元） 电极抛光材料（美国进口） 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉（4.5g）1000.3微米抛光粉（4.5g）1000.05微米抛光粉（17g）150抛光绒布（张）40尼龙抛光布（张）40金相砂纸（张）15

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

现货供应销售德国克吕士/Kruss-DFA100动态泡沫分析仪DFA100，办事处，现货销售，特点：咨询热线，15300030867,010-82752485-815，张经理欢迎您的来电咨询！1．非接触式检测，极为灵敏，精确，无污染2．模块化设计、玻璃样品桶可随意拆卸，极易清洗3．内置空压机，多种模式产生泡沫4．良好的重现性和稳定性5．最少仅需20ml溶液现货供应销售德国克吕士/Kruss-DFA100动态泡沫分析仪DFA100，办事处，现货销售，技术参数：气流流速：0.2~1.0L/min最小样品体积：20ml最大测量高度：200ml光源类型：连续LED光源最大速度：20照片/秒检测器类型：高灵敏度带状检测器高度分辨率：0.125mm现货供应销售德国克吕士/Kruss-DFA100动态泡沫分析仪DFA100，办事处，现货销售，软件功能：1 成泡能力表征 最大泡沫体积（ml）在鼓泡程序结束时的泡沫体积泡沫容量：C=V(foam)/V（gas）（%）泡沫体积和使用的空气体积之间的关系比容：S=V(foam)/(V(liq,0)-V(liq,i))（%）泡沫体积和泡沫中液体总量的关系密度：D=1/S(%)2 泡沫稳定性表征不同时间的泡沫体积和液体体积（ml(t))泡沫体积：半衰期，NIBEM(s)时间:R5,R10,Ross-Miles(mm ml)液体体积：头保留值（HRV）(s)Bikerman指数：稳定泡沫体积/气流流速（s）*Lunkenheimer：t（dev），t（tr）（s）（专利方法）浊点检测功能：有电压：220-240V,30W体积：245x275x460(WxDxH)

GPC-100A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要适用于UNIPOL-1202、UNIPOL-1502研磨抛光机上，是工件进行磨抛时不可缺少的精密磨抛器具，尤其适用于晶圆样品、表面平行度和平面度要求高的大的圆片状样品的研磨。GPC-100A精确磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪进行连接，试样装卡方式为真空吸附，并配有数显厚度测量仪，可实时监测样品减少的厚度，承载样件直径不大于103mm、厚度不大于13mm且具有工艺重复性高的优点。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的晶圆样品研磨使用。产品名称GPC-100A精确磨抛控制仪产品型号GPC-100A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：真空泵（0— -0.1MPa）。5.外形尺寸：φ146mm*266mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 103mm2、载样盘轴向行程：12mm3、数显表精度：0.001mm4、载样盘可调加载压力：0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程：1g-5000g6、样品装卡方式：真空吸附7、承载样件尺寸：直径≤103mm、厚度≤12mm产品规格尺寸：外径146mm，高266mm标准配件1、真空泵2、过滤瓶3、底座4、玻璃片

氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75

GPC-80A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要应用于UNIPOL-1202、和UNIPOL-802精密研磨抛光机上，是工件进行磨抛时不可缺少的精密器具，尤其适用于地质薄片样品的研磨与抛光。GPC-80A精确磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪相连接，样品采用粘附的形式装卡在载样块上，载样块承载样件直径不大于80mm、厚度不大于9mm且具有工艺重复性高的优点。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的地质薄片样品研磨使用。产品名称GPC-80A精确磨抛控制仪产品型号GPC-80A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：无。5.外形尺寸：φ117mm*155mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 80mm2、载样盘轴向行程：9mm（分度螺母移动一格，载样盘轴向移动0.025mm）3、数显表精度：0.001mm4、载样盘部分空载压力：750g5、承载样件尺寸：直径≤80mm、厚度≤9mm产品规格尺寸：外径117mm，不带配重高155mm，带配重高204mm可选配件配重块（≥50g、≤200g）

在醒面过程中，通过面皮双向延展，沿着气室（gas cell）变形-形成气泡，因此任何面团的流变测试都是设法预估其焙烤性能，在此条件下达到评估接近其焙烤产品的膨胀性。在唤醒过程中，面团是双向拉伸的，并沿着气池形成气泡变形，因此对任何面团的流变测试都是试图估计其烘烤性能，在这种情况下，评价接近其烘焙产品的溶胀性。用以观察面团在膨胀时流变性质的变化，例如弹性（Springiness）、黏着性（adhesiveness）、抗张力（toughness）等，以了解在烘焙、延压、整形时面团的特性。

进口专用灯泡，高亮度，长寿命，详见报价单。

微波消解罐是为在一定温度、一定压力条件下合成化学物质提供的反应器。它广泛应用于新材料、能源、环境工程等领域的科研试验中，是高校教学、科研单位、化工实验室进行科学研究的常用小型反应器。德氟公司生产的TFM材料的微波消解罐内杯特性：1、与PTFE相比：除PTFE所有优点外，TFM还具有一些特性改进：具有更低的本地保证，高温高压下抗变形性，耐渗透性，可恢复性更好，是PTFE的两倍，外观更接近于与白色 2、使用温度为260℃，极限可达300℃ 3、特殊研发生产工艺，保证特别厂家(如CEM)的超长罐的光洁度，可定制各厂家各规格型号的微波管，配套仪器使用4、微波消解后期可配套我公司赶酸仪进行赶酸处理。5、针对进口微波消解仪配套的内罐尤其是应用广泛的CEM微波管我们加工的内杯能与原厂仪器通用，经大批使用客户反馈实验数据与原装进口所得一样好 我们提供的配套CEM/迈尔斯通/新仪/屹尧/元析//APL-奥普乐各型号微波消解仪使用的内罐，罐体和垫片为实验级高纯TFM材质，盖子为进口透明PFA材质，也可根据客户需求，加工各种材质的微波管。我们是国内少数能定制各厂家仪器标配的内管，同时我们承诺，产品质量与原厂一致，性价比高。诚招全国省级消解罐代理商和经销商：合作形式可以是区域普通代理或经销商，本公司提供价格、售前、售中及售后强力支持，该模式对合作法人有一定的实力要求。加盟合作/低价拿货请联系我们的负责人。

美国QMAXIS氧化铝/硅/铈精细抛光悬浮液原装进口美国QMAXIS金相精细抛光用氧化物抛光悬浮液，纯度高，分散均匀，稳定性好，与高品质的抛光布配合使用，去除材料的变形层，从而精致地再现材料微观结构。AluminaPrep 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶、热解SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 胶体Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体 AluminaPrep I 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶溶胶-凝胶氧化铝抛光悬浮液，pH值8.5，适用于矿物、黑色金属、低熔点合金、碳化物、印刷电路板、贵金属和电子元器件等材料的精细抛光订货信息：颜色/pH粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L]白色0.05µ mPA-005-006PA-005-032PA-005-064AluminaPrep II 氧化铝抛光悬浮液 团聚团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更高的去除率，适用于镁、铅及其合金的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAA-005-006PAA-005-032白色0.3μmPAA-03-006PAA-03-032白色1μmPAA-1-006PAA-1-032AluminaPrep III 氧化铝抛光悬浮液 非团聚非团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更好的表面效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAD-005-006PAD-005-032白色0.3μmPAD-03-006PAD-03-032白色1μmPAD-1-006PAD-1-032AluminaDia 氧化铝抛光悬浮液 胶体氧化铝+多晶金刚石高效率+无划痕表面的精密光学材料专用抛光液，水基的α氧化铝与多晶金刚石混合抛光液，适用于氟化钙、硫化锌、硒化锌、蓝宝石、碳化钨、单晶硅、陶瓷、热压烧结碳化硅等材料的精细抛光订货信息：名称pH值粒径32oz [950ml]1gal [3.8Ll]AluminaDia8.50.1µ mPAP-01-032PAP-01-128 SilicaPrep 二氧化硅抛光悬浮液 胶体二氧化硅抛光悬浮液，pH值9.5，适用于化学/机械抛光，特别适合金属、矿物、陶瓷、玻璃、宝石、半导体、微电子和聚合物等材料的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L] SilicaPrep I白色0.02µ mPS-002-006PS-002-032PS-002-064 SilicaPrep II蓝色0.05µ mPS-005-006PS-005-032PS-005-064 SilicaPrep III白色0.06µ mPS-006-006PS-006-032PS-006-064Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝氧化铝和硅胶混合抛光悬浮液，pH值9，适用于化学/机械抛光，协同具有二氧化硅的化学抛光作用和氧化铝的机械抛光作用，特别适合钢铁、铝合金和电子材料等的精细抛光订货信息： 颜色粒径32oz [950ml]蓝色0.05µ mPAS-005-032CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液，适用于半导体、集成电路、光学镜片、光纤连接器、玻璃陶瓷基板和晶体表面等材料的精细抛光订货信息：名称pH值粒径固体含量（%）32oz [950ml]64oz [1.9L]CeriumPrep I9.71.15µ m15PC-1.15-032PC-1.15-128CeriumPrep II 8.50.95μm10PC-0.95-032PC-0.95-128CeriumPrep III8.51.05μm10PC-1.05-032PC-1.05-128 CeriumUltra8.00.75μm20PC-0.75-032PC-0.75-128CeriumFinish8.20.4μm45PC-0.40-032 PC-0.40-128

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。产品工艺及用途：特殊纤维结构高耐磨的抛光材料，适用于碳化硅SIC/再生晶圆/各类三五族或二六族等晶圆，如蓝宝石、砷化镓、氮化铝等抛光，也适用于各类衬底、窗口片或玻璃片的高平坦效果。可定制化：标准槽深为抛光垫厚度1/2，可以按客户不同开槽要求定制抛光垫价格：吉致的抛光垫生产引进国外技术，品质可以媲美进口的抛光垫产品。选择吉致电子抛光垫产品，价格比进口抛光垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

喷泡式吸收管 规格: 10mL

大泡氏棕色吸收管: 有棕色和白色两种规格

VWR 拭子，泡沫头，关键拭子?? 非常适合于受控环境? 可使用各种常用溶剂? 非磨蚀性，可保护精密组件型号头宽度 (mm)头长度 (mm)总长 (mm)手柄宽度 (mm)手柄长度 (mm)149-026415,025,0131,06,6106,0149-02654,812,0105,04,393,0149-02667,021,0114,0149-02676,217,0163,03,2146,0149-02683,410,568,02,457,5149-02693,612,071,03,059,0149-02703,510,089,079,0149-02713,420,070,02,550,0149-02723,279,72,259,7149-03334,817,4170,02,5152,0149-033415,1167,03,1149-03373,917,581,52,564,0149-03383,625,4108,082,8149-033913,5152,05,0130,0149-03431,814,6173,02,4161,0?订货信息：VWR 拭子，泡沫头，关键拭子说明包装数量货号大型矩形泡沫头（封闭）100149-0264中型可活动泡沫头，带尼龙把手（封闭）100149-0265大型灵可活动沫头（封闭）100149-0266中型泡沫头（打开）500149-0267小型泡沫头，带可活动尖端（打开）500149-0268小型泡沫头（打开）500149-0269迷你尖压缩泡沫头（打开）500149-0270中型尖压缩泡沫头（打开）500149-0271微型泡沫头（打开）500149-0272泡沫头，带木轴500149-0333桨形泡沫头500149-0334圆锥形网状泡沫头，带蓝色玻璃纤维强化的聚丙烯轴500149-0337延长的网状泡沫头，手柄端尖锐，可两用，带蓝色玻璃纤维强化的聚丙烯轴500149-0338大型矩形泡沫头500149-0339细点网状泡沫头，带蓝色玻璃纤维强化的聚丙烯轴500149-0343

抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极Polishing tape to Polishing Set for Ultra Trace Electrode订货号：6.2802.030抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极。 粒径 12 μm. 在抛光筒中使用。 每套50件。技术参数宽度（mm）9长度（mm）140

FT640索氏提取自动脂肪仪主要应用于食品、饲料、油料、清洁剂、聚合物、药品、石化产品、土壤、污泥等样品中粗脂肪含量的测定。主要特点&bull 自动实现萃取、淋洗、试剂回收&bull 收集瓶与萃取室双加热，萃取速度更快&bull 真正的国标索氏提取法，数据真实&bull 支持经典索氏萃取、索氏热萃取热萃取连续萃取等多种方法，多功能&bull 基于杠杆原理的收集室压紧机构，高防泄漏&bull 进口聚四氟乙烯管材，耐有机溶剂性能指标&bull 测定范围：0.1%~100%（与样品有关）&bull 萃取时间：缩短20%~80%&bull 重复性：≤1%（脂肪含量5%~100%）&bull 控温范围：室温5℃~300℃&bull 控温精度：±1℃仪器参数&bull 加热功率：1200W&bull 输入电压：AC220V±10% 50HZ&bull 冷却水压：0.1Mpa&bull 冷却水温：26℃&bull 环境温度：10℃~28℃&bull 通道数：4通道（8通道可选）仪器详细介绍 &bull 自动实现萃取、淋洗、溶剂回收等核心功能，轻松做实验&bull 实现全程热浸泡萃取，收集瓶与萃取室双加热，萃取速度快，比传统索氏提取法缩短20%~80%提取时间&bull 真正国标索氏提取法，实验数据真实可靠（市面上的半自动脂肪仪不是索氏提取法，只是热浸泡和淋洗）&bull 支持索氏热萃取法、经典索氏萃取法、热萃取法、连续萃取法等多种萃取方法，功能齐全，有机化学实验好帮手&bull 基于杠杆原理的收集室压紧机构，可靠性高防泄漏，安全有保障（针对市面自动脂肪仪电机压紧易出问题）&bull 聚四氟乙烯管路，非一般氟橡胶管和硅胶管可比&bull 萃取过程随时可暂停和恢复，灵活操作&bull 加热方式：金属浴加热方式，加热更快，温度更稳定&bull 防腐设计：采用聚四氟乙烯阀芯阀门，进口耐有机溶剂管材，关键部位防腐蚀处理&bull 安全特性：具备冷凝水监控、乙醚泄露监控和温度异常监控等功能&bull 操作方式：外接控制器，大屏幕显示&bull 萃取程序：全自动程序控制，可保存10个萃取程序&bull 批处理量：4个/批（8个/批可选）&bull 样品量：0.5g～15g&bull 测定范围：0.1%～100%（0.1%与样品有关）&bull 重复性：±1%（脂肪含量5%～100%）&bull 溶剂回收率：85%（自动回收）&bull 萃取时间：缩短20%～80%&bull 萃取室容积：120ml&bull 接收瓶容积：160ml&bull 控温范围：室温+5℃～300℃&bull 控温精度：±1℃&bull 加热功率：1200W

ALLIED抛光布（Polishing cloths） 美国Allied High Tech公司生产的系列抛光布分为三种类型，分别为编织布、无纺布和植绒抛光布，可用于所有材料的精细或粗研磨、半成品和成品的抛光。提供标准研磨盘上使用粘性背胶抛光布。1.编织抛光布（woven polishing cloths）:具有低应压力的特点，施加有效的压力即可达到最大化的材料去除率和平面度。交叉式的编织方法是精细或粗研磨、半成品抛光的理想选择.常用到的是Nylon编织抛光布，与15-3um金刚石配合使用，对于大部分材料抛光都能够达到良好的平整度和边缘保持性。2.无纺抛光布（non-woven polishing cloths）:对于柔软的表面也具有低应压力的特点，更适合软的非金属、铁合金和高分子材料/塑胶的半成品和成品抛光。常用到的是Kempad无纺抛光布，与9-1微米的金刚石配合使用，提供良好的去除率和平整度。3.植绒抛光布（napped (flocked) polishing cloths）:用不同长度的纤维和刚性布料制作而成，像植绒的“刷子”一样对成品进行抛光清理以及对半成品和粗抛样品的划痕进行清除抛光。Glenco植绒抛光布，硬绒合成人造纤维，与3-1微米金刚石或氧化铝配合，可以提供卓越的中间或最终抛光效果，尤其用于抛光软性金属和材料。Spec-Cloth植绒抛光布，柔软的中绒合成纤维，与1-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，可用于各种材料的普通抛光。Final B植绒抛光布，柔软的低绒人造纤维，与3-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，提供卓越的完成度和平整度，尤其是坚硬材料、含铁材料和玻璃货号产品名称规格50314-05Nylon编织抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50310-05Kempad无纺抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50318-05Glenco植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50320-05Spec-Cloth植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50344-05Final B植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张 价格仅供参考，详情请致电010-52571502

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：