脉冲离子计

该仪器是我公司依据环境监测技术规范要求，研发的一台涵盖了pH/ISE/mV/ORP/Eh/TEMP多项测量指标的实验室多参数离子计，仪器符合《JJG757-2018实验室离子计》0.01级的所有指标，广泛适用于医疗、环保、科研、大专院校、工矿企业，是化学分析必备的常规分析仪器。1)符合标准：仪器符合《JJG757-2018实验室离子计》0.01级的所有指标，满足国际离子计检测的各项技术指标2)触摸液晶显示屏：5.6吋触摸式液晶显示屏，纯中文操作界面，人性化的程序设计，显示直观，操作方便；3)多参数测量：集pH、ISE离子浓度、mV值、ORP、Eh、温度六种测量模式为一体；4)智能化功能：仪器具有校准、自动/手动数据保存、定时测量、时间显示、功能设置等智能化功能；5)多种数据功能：可存储760组数据，支持数据查阅、删除、传输和打印，断电后数据不丢失；6)数据稳定图标：仪器测值基本稳定时自动点亮稳定图标，显示当前测量状况；7)pH模式：pH模式内置三种标准缓冲液模式组：中国标准、欧美标准、NIST模式，另有一组自定义模式；8)ISE离子浓度模式：ISE离子浓度模式内置10种常用离子，可自定义其他离子。pX、mol/L、mg/L、ppm，4种单位可选。

PDD检测器是脉冲放电离子化检测器所有工作模式检测器的统称。按照其工作模式，包括有无放射性的电子捕获检测器和氦离子化检测器等多种产品系列。该产品曾获得美国创新100奖R&D100的殊荣。 脉冲放电检测器特点：无放射性，多种工作模式电子捕获 /氦离子化检测器VICI PDDs (脉冲放电检测器)采用稳定的，低功率的脉冲直流放电氦做为离子源。柱子中洗脱剂的流向同放电区氦气的流向是相反的。偏移电极把生成的电子束射向捕获电极，捕获电极的电流的改变，即检测器的输出结果。 效果比常规的放射源检测器相当或者更好。 电子捕获模式下, PDD 是一个选择性检测器，用以检测复电子亲和化合物，如氟里昂，含氯农药，和其它卤素化合物。此类化合物的最低检测浓度都在飞克级(10-15) 或皮克级(10-12)。 由于不使用放射性物质，深受用户欢迎。 在氦离子化的工作模式下，PDD是一个通用的, 无破坏性的, 高灵敏度检测器。检测器对无机和有机化合物检测浓度范围较宽，且线性范围也很宽。对各种气体响应值为正（在固定电流下增加），最小检测浓度值为ppb级。 在石油化工和炼厂的应用场合，如果氢火焰检测器无法检测，这时PDD脉冲氦离子化测器是FID检测器的理想代用品。另外, 放电气体中掺杂有氩，氪，或者氙气时（取决于理想截止值），PDD 做为一种特殊的离子化检测器，主要用于脂肪族化合物，芳香族化合物，胺类和其它类型的选择性分析。D-2 型脉冲放电检测器D-2是一个双模式通用检测系统，可对原有的气相色谱仪进行改造增加检测器。D-2-1主要用作于脉冲氦离子化检测器模式工作，用以检测痕量物质。这套独立的系统包括检测器，控制器，静电计，氦纯化器和电源。 PDD检测器D-2模式成套完整部件检测系统包括检测池，脉冲发生部件，静电计，静电计和氦纯化器

脉冲迷你无气源离子风机适合在自动化设备上使用，可替代离子风棒，可避免在洁净室使用离子风棒带来的“乱流”，因此，迷你卧式离子风机也称为“无气流离子风棒”迷你型直流脉冲风机，也称小型风幕机，是斯泰科微开发的新产品。*DC24V输入更安全*迷你系列 宽区域 大风量*适合无气源区域使用

美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-180 Neocera P180 脉冲激光沉积系统 • Neocera 在 PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验• Pioneer 系列 PLD 系统是全球研发领域广泛使用的商业化系统• Neocera 不仅为客户提供基本的 PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案 PLD 实验室交钥匙方案 脉冲激光沉积系统（PLD）一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法 PLD 是一种复杂材料沉积的有效方法脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到 10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种 “ 数字 ” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（?/pulse）。 Neocera Pioneer 系列 PLD 系统 — 基于优秀经验的创新设计 Neocera 利用 PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得 优秀 薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于 Pioneer 系统的设计之中。 • 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（100 Torr）下冷却可获得好的质量。所有 Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为 45°，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有 Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得优秀薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行控制。 技术参数： 。作为完整 PLD 实验室解决方案供应商，我们还可提供：248nm 激光器（准分子、固体等），气体柜，激光。器和光学器件桌，以及光学器件等。• 带 * 的项目均可客户化。• 上述技术指标如有变更，恕不另行通知，详情见具体报价描述或者咨询销售工程师。 离子辅助沉积 ( IBAD )高性能的离子辅助沉积系统离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。 无定形和多晶衬底上单个类单晶薄膜的沉积 离子辅助PLD沉积原理示意图 结果和最佳理论值吻合 连续组成扩展 ( CCS )连续组成扩展功能（CCS）可在单次沉积中沉积很多不同组分的材料，大大缩短了沉积不同组分材料合成新材料的时间，实现合成材料组分的优化。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料，没有必要使用掩模。可以在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是类似于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是非常有帮助的。Neocera 公司PLD 系统可在同一个系统上实现带有连续组成扩展功能（CCS-PLD）和标准型 PLD 功能。 PLD-CCS 三元连续组分扩散 PLD 原理示意图 三元模拟相图 In-Sn-Zn 氧化物相图解 激光分子束外延 ( Laser MBE )激光 MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数RHEED 通常在高真空（10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要的，维持 RHEED 电子枪的工作压力，同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统，比如超高真空激光衬底加热器，用于集成原位分析系统（XPS/ARPERS 等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。 激光 MEB 原理示意图 激光 MBE 计算机上的 RHEED 图案 RHEED 强度震荡曲线 脉冲电子束沉积系统（PED）：PED-180 脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近 1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取（烧灼）使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在优秀条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用 PED 技术沉积各自的薄膜。 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统 PED• 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格• 氧化物薄膜沉积时氧气兼容• 升级选项：离子辅助 PED, 连续组份沉积 PED, 进样系统 load-lock• 可附加的沉积源：脉冲激光与射频 / 直流溅射• 集成 XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统 PED 沉积的代表性材料示例• 高温超导 (HTS) YBCO( 和 GdBCO) 薄膜• 顺电 (Ba-SrTiO3) 薄膜• 金属氧化物 (SrRuO3) 薄膜• 隔热 / 音玻璃 (SiO2) 膜和 Al2O3 膜• 聚四氟乙烯 (PTFE) 薄膜 PED-180 系统的技术指标

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

产品展示 GC9800（N/PDHID）氦离子化气相色谱仪，配有VICI**度氦离子化检测器（PDHID）和*配套的脉冲高压电源、氦气净化器。仪器设置有带有载气吹扫保护的四阀多柱分析系统。对*超纯气体具有前组分切除、中心组分切割、后组分排空的通用性分析功能。针对不同被测气体，配置适用的多柱系统，就可实现对*超纯特种气体中有关PPb级痕量杂质的检测。仪器特点： 成套*的PDHID氦离子化检测器、脉冲高压源、氦气净化器、保证了高检测灵敏度及稳定性； 带有被测样品的前组分切除、中心组分切割、后组分吹扫排空的多柱分析系统，对*分析样的适应性强； 带有载气吹扫保护功能并可恒温控制的十通、六通、四通阀。 预柱与分析柱单独分开温控，便于调试、便于获得分离分析条件。 具有进样系统预冲洗系统，使进样*度高、稳定性快、使取样气体用量少、防止了环境空气中O2、N2的干扰。 具有电脑反控和10/100M以太网通信接口及内置工作站，可实现远程监管。

avvor 9000钙离子和氟离子计内建内存，可接收长时间历史数据，可记录并显示实时与历史测值，并绘制曲线图（8G记忆卡与USB随身碟机种为选购）,可设定记录频率及下载历史数据到电脑，并纪录历史警报。钙氟离子计7寸彩色触控式屏幕，操作简易，多国语言，功能强大；可设定自动清洗功能，并设定清洗时间（清洗模块另购）。 原理 含氟的水样中加入含有强螯合剂之缓冲液，可将氟盐复合物（如铝或铁等的氟盐）转化成自由氟离子，并消除阳离子及 pH 值之干扰(氟离子电极最适合的 pH 值范围在4-9之间)。利用氟选择性电极，测定水样中氟离子之氧化电位，以决定氟离子之活性或浓度。 利用此原理，透过触控主机进行5点(含)以上线性校正曲线或经验值予以修正，以达到在线水质监测之目的。 可选购 ◆钙离子和氟离子计可扩充模块为多人手机简讯系统，能自行编译工程名称，地点及简讯内容，并可自动传输数据到图控记录，可定时发送历史资料，亦可在水质到达警戒值时，实时通知使用者。 ◆钙氟离子计可选购3G/GPRS模块及原厂软硬件，进行实时网页监控，让使用者透过IE浏览器及PDA上网监看，并拥有个人登录账号、密码、SMS告警、历史曲线图与报表打印功能。 技术参数： 检测项目 钙离子 氟离子 检测范围 0.02~4010ppm 0.02~1900ppm 分辨率 0.01ppm 精确度 ± 5% full scale 信号输出 DC4-20mA Isolated Max load 1K&Omega 操作温度 0 to 55℃ 防护等级 IP 65 外观尺寸 D400× 300× 150mm H× W× D(BOX)

简介双脉冲纳秒脉冲激光器可产生两路共线传播的纳秒激光，两个脉冲之间的延时可调，延时分辨率可达纳秒量级。这种精确可控的双脉冲广泛用于流场粒子速度成像（PIV）、双脉冲LIBS、双脉冲LIF等研究中。Quantel提供一体双头式双脉冲调Q激光器Evergreen系列，以及更高能量的组合式双脉冲激光器Q-smart TWINS。Evergreen主要输出532nm波长，具备较好的近场光斑均匀性，适合成像；Q-smart TWINS则为两台Q-smart的组合，发散角较小，更适合聚焦使用。同时，Evergreen采用一体式倍频单元，而Q-smart TWINS 采用模块式倍频，可切换多个波长输出。一、EVERGREEN 系列激光器1、产品简介EVERGREEN系列采用Stable腔体，具备良好的近场均匀性。其中Evergren 可产生200mJ @ 532nm、25Hz重频的双脉冲输出；而Evergreen HP可输出高达400mJ @ 532nm的能量，或者高达200Hz的重复频率。EVERGREEN系列激光器均满足MIL-STD-810振动和冲击标准，并经过严苛温度循环。2、产品参数 ? Evergreen2 参数型号EVG00070EVB00145EVG00200EVG25100EVG00200-266输出波长 nm532266重复频率 Hz152515脉冲宽度 ns≦12≦10单脉冲能量 mJ7014520010030光束口径 mm56.356.3556.35发散角 mrad4远场重合度±100μrad近场重合度±100μm? Evergreen HP 参数型号EHP10EHP15EHP30EHP100EHP150EHP200输出波长 nm532重复频率 Hz101530100150200脉冲宽度 ns≦15单脉冲能量 mJ4003503001007550光束口径 mm≦6发散角 mrad≦6二、Q-smart TWINS激光器1、产品简介Q-smart TWINS为两台Q-Smart850经过偏振合束构成双脉冲共线输出。两台激光器共用倍频模块，故可通过切换/拔插倍频模块获取不同的波长。2、产品参数重复频率 Hz10脉冲宽度ns5 ~ 7光束口径 mm9单脉冲能量mJ1064nm2*730532nm2*380355nm2*200266nm2*90213nmOn request如有其它需求，请联系我们。

产品简介脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。在靶材上的非平衡提取（烧灼）能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。产品特点* 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED* 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格* 氧化物薄膜沉积时氧气兼容* 升级选项：离子辅助PED, 连续组份沉积PED, 进样系统load-lock* 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/ 直流溅射* 集成XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统脉冲电子束沉积系统PED沉积的代表性材料示例* 高温超导(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜* 顺电(Ba-SrTiO3) 薄膜* 金属氧化物(SrRuO3) 薄膜* 隔热/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3 膜* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜技术指标真空腔18" 直径的球形腔体8"CF 窗口6.75"CF PED 源窗口3 个6"CF 窗额外的2.75" 与1.33"CF 窗口PED源电子枪能量：8-20 keV脉冲能量：最大能量800 mJ最小能量100 mJ工艺气体压强: 3-20 mTorr工艺气体: 氧气，氮气，氩气脉冲能量变化: ±10%脉冲宽度: 100 ns最大重复率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV最小束截面: 8 x10-2 cm2最大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2Z 向对准范围: 50 mmXY 向对准范伟: +/- 20 mm火花塞寿命 ~3x107 脉冲基片加热器最大直径2"，最小10x10mm2最高温度：850 ℃基片旋转：1-30 RPM（360° 旋转）基片加热器：兼容1 个大气压的氧压加热器温度通过可编程的PID 控制多靶材旋转台6 个1" 的靶材或3 个2" 的靶材靶材旋转：360° 连续旋转(1-20 RPM)靶材栅格式扫描独特的靶材栅格化烧蚀方案靶材索引，镀多层薄膜靶材高度可调靶材挡板避免靶材间的交叉污染提供连续组成扩展/ 组合PED 的能力PED系统软件Windows 7, LabVIEW 2013控制基片加热台控制靶材公转台控制真空泵控制质量流量计?外部的PED 源触发器可选的工艺自动化选项真空泵干泵，涡轮分子泵本底真空压强：标准配置8 x 10-8 Torr涡轮分子泵转速由软件控制

脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。在靶材上的非平衡提取（烧灼）能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。产品特点* 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED* 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格* 氧化物薄膜沉积时氧气兼容* 升级选项：离子辅助PED, 连续组份沉积PED, 进样系统load-lock* 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/ 直流溅射* 集成XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统脉冲电子束沉积系统PED沉积的代表性材料示例* 高温超导(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜* 顺电(Ba-SrTiO3) 薄膜* 金属氧化物(SrRuO3) 薄膜* 隔热/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3 膜* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜技术指标真空腔18" 直径的球形腔体8"CF 窗口6.75"CF PED 源窗口3 个6"CF 窗额外的2.75" 与1.33"CF 窗口PED源电子枪能量：8-20 keV脉冲能量：最大能量800 mJ最小能量100 mJ工艺气体压强: 3-20 mTorr工艺气体: 氧气，氮气，氩气脉冲能量变化: ±10%脉冲宽度: 100 ns最大重复率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV最小束截面: 8 x10-2 cm2最大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2Z 向对准范围: 50 mmXY 向对准范伟: +/- 20 mm火花塞寿命 ~3x107 脉冲基片加热器最大直径2"，最小10x10mm2最高温度：850 ℃基片旋转：1-30 RPM（360° 旋转）基片加热器：兼容1 个大气压的氧压加热器温度通过可编程的PID 控制多靶材旋转台6 个1" 的靶材或3 个2" 的靶材靶材旋转：360° 连续旋转(1-20 RPM)靶材栅格式扫描独特的靶材栅格化烧蚀方案靶材索引，镀多层薄膜靶材高度可调靶材挡板避免靶材间的交叉污染提供连续组成扩展/ 组合PED 的能力PED系统软件Windows 7, LabVIEW 2013控制基片加热台控制靶材公转台控制真空泵控制质量流量计?外部的PED 源触发器可选的工艺自动化选项真空泵干泵，涡轮分子泵本底真空压强：标准配置8 x 10-8 Torr涡轮分子泵转速由软件控制

离子计IM2021-1介绍离子计IM2021-1的用途离子计是用于测量溶液中离子浓度的电化学分析仪器。在日常检测中，酸度计（或PH计）也属于离子计的一种，主要是测量溶液的H+浓度。氟含量对水泥性能的影响根据水泥熟料配料方案和煅烧状况不同，以及掺加混合材种类和含量不同，因此水泥的初终凝时间也不相同。微量的氟会引起水泥较长时间的缓凝，氟对水泥的凝结时间的影响主要是与水泥的水化产生的氢氧化钙反应生成难溶性的氟盐，因此导致水泥的凝结时间延长。因此，准确测定水泥等其他原材料中的氟离子含量，对于水泥的质量有着至关重要的作用。离子计在水泥中的应用GB/T 176-2017《水泥化学分析方法》中氟离子的测定方法是离子选择电极法，该方法原理是待测试样经过酸溶变成液体，调节酸度定容后，测定溶液中的电位值，在标准工作曲线上查得氟离子的含量。该方法还可用于水泥生料、熟料、石膏等其他原材料中氟离子含量的测定。IM2021-1离子计考虑到水泥生产企业的使用需求，为更好提高我国水泥产品质量。IM2021-1型离子计仪器操作便捷，内置pH测量、氟离子测定程序，一键拟合曲线，并带有磁力搅拌功能，人机互动简便，广泛应用于水泥企业、质检机构及科研院校等单位。仪器特点1、整机外观精致，配合7寸触屏，UI界面一目了然2、具有计时搅拌功能，并可自定义搅拌时间、速度3、具有计算功能，输入质量，测量后自动计算出含量4、具有保存功能，可保存曲线方程和测量数据5、具有pH功能，通过校正，可测量溶液中的pH值主要技术参数1、电源：220V，100W2、酸度：0.00~14.003、范围：-1999.9 mV ~1999.9mV4、工作温度：5~40℃5、分辨率：pH 0.01仪器配置清单1、 IM2021-1主机 一台2、 电源线 一根3、 pH复合电极 一支4、 参比电极 一支5、 氟离子电极 一支6、 标准样品 一瓶7、 搅拌子 两只8、 说明书、合格证 一份9、 pH缓冲试剂 一套

Nd:YAG脉冲纳秒激光器为整机原装进口激光器，近三十年的激光器生产经验，主要应用于瞬态吸收光谱TAS、瞬态显微Mapping扫描、瞬态表面光电压谱（TPV）、荧光光谱、拉曼光谱、拉曼、激光诱导荧光（LIF）、化学元素分析（LIBS）、粒子成像测速（PIV）、差分吸收（DIAL）、军用及民用雷达（LIDAR）等高端分析仪器及前沿科学研究等领域。灯泵浦Nd：YAG激光器是可调谐OPO激光器的理想泵浦源，实现光谱220nm-2200nm的连续可调。 激光器的特点：1）固态脉冲Nd:YAG激光器的激光体为全密封结构；2）光束路径全封闭结构，以保护光学元件免受灰尘和湿气的影响；3）激光器采用实心杆结构，确保了激光长期稳定的输出，以保证不受外力和环境影响；4）激光器中使用的所有非线性晶体都放置在恒温器中，以确保谐波的高转换效率以及各种频率下输出能量的高稳定性；5）所有晶体采用气密密封，实现热稳定。冷却系统单元特点1）内置加热器，预热时间短2）没有外部回路（水-空气热交换器）3）热交换效率高，最高可达1200 W.4）高精度温度冷却系统，温控稳定度到0.05℃ ，保证激光能量和光斑的高稳定输出5）内置去离子盒 电源单元特点1）单相220V供电2）功率自动校正3）附件扩展连接功能4）恒温器的持续供电 Nd:YAG脉冲纳秒激光器技术参数激光器纳秒Nd:YAG激光器单脉冲能量---1064nm320mJ532nm180mJ355nm60mJ266nm40mJJitter1.0ns脉冲宽度 (1064 nm)10 - 14 ns光斑直径6mm能量稳定性(1064 nm)2.5%重复频率1-10（20Hz）温控系统控温精度0.05℃；内部预热器，可快速预热。电源220V（110V），50-60Hz，1000W，435*485*245mm激光器外形720*136*156mm制冷单元435*485*285mm

详细产品介绍及技术参数　　在使用旧式金属探测器时，令人讨厌的问题是地面的影响：随着探测盘与地面的距离变化仪器的信号也跟着变化，若把探测盘扫过凹凸不平的地面，这个变化就更大了，操作者仿佛到处都听到信号声，弄不清那里真正埋有金属。这种现象叫做"矿化反应"。造成"矿化反应"的原因，是由于构成土壤和各种矿物使仪器发出信号。在土壤结构复杂的地方，"矿化反应"非常强烈，它引起的信号比金属信号还要大，这时操作人员就很难判断发出信号的地方到底是埋有金属还是"矿化反应"。　　地下高精度双脉冲脉冲金属探测仪内设有地平衡线路，能排除一切"矿化反应"的影响，只有在探测盘遇到金属时才发出信号，从而大大提高了探测深度和准确性。　　地下高精度双脉冲脉冲金属探测仪产品特点：　　●外壳采用高强度ABS工程塑料，具有强度高、重量轻、寿命长 　　●能有效准确区别黑色金属和有色金属功能 　　●可以排除黑色金属(钢铁)只探测有色金属(金、银、铜)　　●设有地平衡线路，能消除“矿化反应”带来的影响，有效提高探测的深度及准确率 　　●具有欠压工作报警装置 　　●采用重复的充电电池进行工作 　　●通过喇叭或耳机识别探测金属声音。　　探测说明：　　所有金属探测器的探测深度都是相对物体的大小来说的，一般有四个方面决定了探测的深度。　　第一是物体的大小(物体越大磁场大测的就深、物体小磁场小测的就浅)　　第二是根据地质的不同探测深度也不同(干燥的沙土地相对比的比在矿山上探测的深)　　第三是根据物体埋藏时间的长短(埋的越长探测的就越深、因为金属和土壤结合可以产生氧化磁场增强)　　第四 是和操作的熟练度，都有关系。最大深度是指100厘米*100厘米*2厘米厚的铝板再干燥的沙土中所达到的极限深度　　探测工作是一件细致而又艰苦的作业，它要求操作者有耐心、信心和毅力。任何探测器都不能将地下的金属物体显示的一清二楚，若想要能准确地找到所需的东西，还要求操作者具有丰富的经验，根据仪器的反应仔细地分析，以作出正确的判断。　　技术参数　　操作方式：地平衡/识别　　发射频率：6.99KHz　　音频频率：437Hz　　功 率：约2.5W　　电 源：11.1V4Ah锂离子电池　　标 配：充电器、耳机、探测盘　　探测盘尺寸：探测盘(直径390mm)

脉冲激光沉积系统-PLD型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源，最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等

仪器简介：Ion Beam Assisted Deposition (离子辅助沉积) 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术 高性能的IBAD(离子辅助沉积)系统 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera开发了离子辅助的PLD系统，该系统将PLD在沉积复杂材料方面的优势与IBAD能力结合在一起。得到无人伦比的技术专家知识的支持Neocera离子辅助的PLD系统会得到重要应用经验的支持。系统开发结合了Neocera的工程和工艺经验，保证了最大的用途和工艺性能。 利用离子辅助的PLD, Neocera在柔性多晶yttria稳定的YSZ基片上，开发了具有下列性能的双轴结构的YBCO薄膜： l X-ray F-scan full width at half maximum of ~7° l 转变温度Tc在88-89K，转变宽度DTc约为约为0.5 K l 77 K零场强时，临界电流密度Jc范围 1.5&mdash 2x106 A/cm2 l 77 K时，磁深入深度l: 284nm l 77 K，10G时，表面电阻Rs等于700mW Continuous Composition Spread (连续组成扩展) 一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS)方法。 经济的组合合成 组合合成是材料科学中最激动人心的最新进展。在一次镀膜实验中，生产多种不同材料组成的能力，大大的提高了获得具有期望材料性能的最佳组成的速度。然而，现有组合合成系统的高成本对绝大多数研究预算来说都是不切合实际的。 得到Neocera PLD经验的支持 Neoceora已经应用我们丰富的PLD和开发性能可靠的经济型设备的经验，发明了PLD-CCS(脉冲激光沉积-连续组成扩展)系统。PLD-CCS受益于多层薄膜沉积的方便性和PLD工艺能在基片上改变二元，假二元，或三元体系的组成这一固有特性。 常规沉积条件下的组合合成 PLD-CCS能以连续的方式，而不是间隔的方式改变材料，没有必要使用掩模。这就允许在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。事实上，该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。 Laser MBE (激光分子束外延) 一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，PLD和原位高压RHEED的结合， 为单分子水平上的薄膜生长提供了精确控制。 使用激光MBE是纳米技术研究的理想工具 激光MBE是普遍采用的术语，定义了高真空下的PLD与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用。该法为用户提供了类似于MBE的薄膜生长的单分子水平控制。随着更多的PLD研究受到纳米技术的驱动，激光MBE变得对用户更加有益。 正确的设计是成功使用RHEED和PLD的重要因数 RHEED通常在高真空（10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD采用较高的压力，差动抽气是必要的，维持RHEED枪的工作压力，同时保持500 mTorr的PLD工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。 Neocera的激光MBE系统为用户在压力达到500mTorr时所需的单分子层控制。技术参数：一种用途广泛的、用于薄膜沉积和合成纳米结构和纳米粒子的方法。 PLD是一种复杂材料沉积的创新方法 激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种&ldquo 数字&rdquo 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A° /pulse）。 Neocera Pioneer系列 PLD系统 &mdash 基于卓越经验的有效设计 Neocera利用PLD开展了深入广泛的研究，建立了获得最佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于Pioneer系统的设计之中。 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer系统设计的工作压力范围从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。 Pioneer PLD系统的激光束的入射角为45° ，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除担心油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer系统的标准配置都采用无油泵系统。 所有的系统都可以按完整PLD实验室的方式获得，包括248nm激光器，激光气体柜，激光和光学器件台，光学器件包。 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行最大的控制。主要特点： Pioneer240 Pioneer180 Pioneer120 Pioneer80 最大wafer直径 4&rdquo 2&rdquo 1&rdquo 0.5&rdquo 最大靶材数量 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个2&rdquo 4个1&rdquo 压力(Torr) 10-8 10-6 10-6 10-6 真空室直径 24&rdquo 18&rdquo 12&rdquo 8&rdquo 基片加热器 4&rdquo ，旋转 3&rdquo ，旋转 2&rdquo ， 平板 1&rdquo ，平板 最高样品温度 850 ° C 850 ° C 950 ° C 950 ° C Turbo泵抽速 （liters/sec） 800 260 260 70 计算机控制 包括 包括 包括 包括 基片旋转 包括 包括 - - 基片预真空室 包括 选件 选件 - 扫描激光束系统 包括 选件 - - 靶预真空室 包括 - - - IBAD离子束辅助沉积 选件 选件 选件 - CCS连续组成扩展 选件选件 - - 高压RHEED 选件 - - - 520 liters/sec 泵 a/n 选件 - -

脉冲选择器/脉冲选择系统/脉冲拾取器所属类别： ? 调制器 ? 电光调制器/电光Q开关 所属品牌：美国ConOptics公司 脉冲选择器产品简介应用最广的飞秒脉冲选择系统(激光降频装置) 关键字：脉冲选择器,脉冲选择系统,脉冲拾取器,激光降频器,激光降频装置,Pulse selection,pulse picker Conoptics公 司生产的脉冲选择器，在其成熟的光电调制器产品系统上，添加了信号同步系统，此款脉冲选择器更加适合在钛宝石飞秒激光器脉冲选择中使用，也使得作为光脉冲 选择系统更加便捷——只需在相应刻度盘上选择就可达到相应脉冲选择需求，此款脉冲选择器系统就可自动快捷实现脉冲选择。此款脉冲选择器系统最可实现0-80Mhz重频可调。（此款脉冲选择器系统最高可实现0-100Mhz重频可调） 脉冲选择器重点参数： 脉冲选择器效果示意图： 分享到 : 人人网 腾讯微博 新浪微博 搜狐微博 网易微博 脉冲选择器相关产品 ConOptics低压电光调制器 激光脉冲选择器（控制电路） 用于双光子显微镜的电光调制器系统 铌酸锂(LiNbO3)电光强度调制器 铌酸锂(LiNbO3)偏振开关/偏振切换器

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延 超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

1. 产品概述脉冲激光沉积镀膜机PLD 系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2. 设备用途脉冲激光沉积镀膜机PLD 是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质。3. 技术参数基片尺寸：8inch（可向下兼容）加热温度：1000℃ 加热方式：辐射加热靶材：3*4”真空度：5*10-7Pa气路系统：氧气、氮气、氩气模块：PLD+进样室激光窗口：配有闸板阀光路系统：激光扫描功能4. 企业简介深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

STA-01-7 OM红外单频单脉冲激光器STA-01-7 OM是一款低抖动，外触发，被动调Q二极管泵浦固体激光器，输出波长为1062.5nm，单脉冲能量高达20μJ，脉宽2ns。该激光器可工作于单脉冲模式或重频1-100Hz。产品特点:● 脉冲延迟时间＜5μs●集成于12STAD-01-7数字控制器内部的高可靠性光纤耦合二极管激光器●增加脉冲延迟时间，可让脉冲能量达到mJ级●USB接口●Interlock控制应用领域:● LIBS● LIPS● 热或等离子灼烧● 质谱分析波长，nm1062.5脉冲能量，μJ20脉冲宽度（FWHM），ns2脉冲延迟时间，μs＜5抖动（PTP），ns＜±25重复频率，Hz1-100M2＜1.2脉冲能量稳定性，RMS＜1%光束腰直径，μm＜30光谱特性SLM偏振比100:1预热时间，分钟＜10接口USB, 外触发外部电源 V DC5（-5%，+10%）工作温度，℃15-40激光头尺寸，mm25*25*75独立控制器尺寸，mm165*50*220激光头重量，g控制器重量，g1001600

仪器简介：PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。我们PLD系统拥有最好的性能价比,具有以下优异的性能:主真空室腔体直径18英寸，本底真空可达高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵★基片加热温度最高可达1000℃。基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。 8个装1英寸靶的坩埚（或靶盘），各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.★ Dual Load Lock System, 两次装样-送样系统，高效保证传片精准设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。感谢上海交通大学 使用此研究级高性能的PLD系统（购买5套）， 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助！！具体配置:一， 超高真空腔体二， 分子泵三， 激光扫描系统四， 衬底加热铂金片，最高可达1200度五，基板加热构造设计六， 基板加热电源七， Rheed八， Rheed软件九， 多靶位 ，标准配置6个1英寸靶十，Load-Lock样品传输腔体技术参数：一， 靶。数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制。二， 基板。采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。三， 基板加热电源。四， 超高真空成膜室腔体。不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 pa。五， 样品传输室。不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa。六， 排气系统。分子泵和干式机械泵，进口知名品牌。七， 阀门。采用超高真空挡板阀。八， 真空检测。真空计采用进口产品九， 气路两套。采用气体流量计（MFC）。十， 薄膜成长监控系统。采用扫描型Rheed（可差分抽气）。十一， 监控软件系统。基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换。十二， 各种电流导入及测温端子。十三， 其它各种构造各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等。另外我公司注重发展和销售大面积的PLD 系统和电子束蒸发器和溅射沉积。目前，公司提供以下物理气相沉积系统和元件产品：? 大面积脉冲激光沉积系统? 脉冲激光沉积元件包括靶材操纵器和智能窗? 电子束蒸发系统? 磁控和/或离子束溅射系统? 组合沉积系统? 定制的基底加热器产品具有如下基本特点：1. 系统可根据客户的特殊要求设计，操作简单方便。可使用大尺寸靶材生长大面积薄膜，基底的尺寸直径可从50mm 到200mm2. 电抛光腔体，主腔呈方形，其前部是铰链门，方便更换基底和靶材3. 双轴磁性耦合旋转靶材操纵器，可手动或计算机控制选定靶材。磁力杆传送基底到基底旋转器上，可手动或电动降低旋转器，实现简单快速地更换4. 主腔室预留备用的腔口，如用于观察靶材和基底，安装原子吸收或发射光谱仪、原位椭偏仪、离子枪或磁控溅射源、残留气体分析器和离子探针或其他的元件等等5. 系统使用程序化的成像链(Optical Train) ，包括聚焦透镜、反射镜台、动力反射镜支撑架和智能视窗等，无需频繁地校准光学组件。在激光通过大直径靶材时可使其光栅扫描化（rastering），以获得均匀性的薄膜。智能视窗不仅可精确监视沉积过程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可长时间保持激光束光路的清洁6. 系统使用特有的黑体基底加热设计，高温下（950°C）可与银胶兼容使用 根据PLD 客户的不同需求，提供以下型号：1．NANO PLD2．PLD 30003．PLD 50004．PLD 80005．PLD T100其中NANO PLD 系统简单、紧凑，具有多种功能，非常适合小型的研发实验室，大面积 PLD 系统包括PLD 3000，PLD5000，PLD8000 非常适合于大的公共机构，政府实验室和国防机构的研发和试制生产。PLD T100 系统也就是高温超导带涂层系统非常适合于生产高温超导带和线缆，目前已有两套系统卖到日本知名的国际超导产业技术研究中心超导工学研究所（SRL-ISTEC），而且在高温超导线缆中获得了记录电流密度，创高温超导线材创新记录。 大面积PLD 的每个系统的具体一些参数如下：系统最大基底尺寸靶材数目靶材尺寸最大基底温度温度的均匀性靶材和基底之间的最大距离Nano-PLD2 inches (50 mm)32 inch (75mm)850°C/950°C±4°C100mmPLD30003 inches (75mm)34 inch (100 mm)850°C/950°C±3°C127mmPLD50005 inches(125mm)36 inch (150mm)850°C/950°C±4°C152mmPLD80008 inches(200mm)312 inch(300mm)750°C/800°C±7°C203mm这些型号的设备适用于以下的客户群：1) 高温超导研发-----合成新的高温超导材料或者微调高温超导材料2) 高温超导工业研发-----高温超导线缆和带沉积，移动通信的微波过滤器，电力分配网的错误电流限制器，超导磁能存储器(SMES)，超导量子干涉磁量仪元素制作，超导电子配件，磁共振成像应用，磁悬浮如火车3) 铁电材料和设备-----使用大面积的PLD 研发4) 电-光和光学材料-----电镀铬材料，电-光材料如PLZT, BST 等5) 电介材料---如AlN 薄膜6) 硬质薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜7) 透明导电氧化物 (TCO) 沉积8) 测辐射热敏元素生产商----用于热跟踪的热探测，热成像，热度量衡等9) 制备新材料特别是功能陶瓷10) 制备纳米粒子11) 基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)聚合物薄膜12) 制备用于MRAMs 和录音磁头上GMR 的铁磁材料等

美国奥立龙PH离子计品牌：赛默飞型号： 410P/420Star A系列pH/离子（氨氮、钠、氟、氯等多种离子）台式及便携式测量仪美国奥立龙PH离子计的产品介绍：名称：STAR A PH/离子计 410P/420P详细介绍：Star A系列pH/离子（氨氮、钠、氟、氯等多种离子）台式及便携式测量仪名称：Star A系列台式及便携式PH/离子测量仪美国奥立龙PH离子计的技术指标：PH测量范围：-2.000-20.000分辨率：0.1，0.01，0.001相对精度：±0.001校准点：zui多5点校准编辑功能：有mV/RmV测量范围：±2000.0mV分辨率：0.1相对精度：±0.1mVEHORP模式：有离子浓度测量范围：0-19999分辨率：zui多3位有效数字相对精度：±0.1mV单位：ppm，M，mg/L，%，ppb或无单位校准点：zui多5点校准编辑功能：有校准功能：线性标准，定时终点，可选择性非线性自动空白，低浓度测量稳定性温度范围：-5-105℃分辨率：0.1相对精度：±0.1温度校准功能：有，1点数据存储数量：2000条，符合GLP标准（台式）；5000条，符合GLP标准（便携）记录类型：手动、自动、定时（间隔）记录编辑：单条删除、全部或部分选择性删除输入PH/ISE电极：BNC，参比电极接口ATC探头：8针mini DIN接口输出：RS232接口，USB接口仪表功能操作界面：中文、英文等6种语言供选择电源：4×AA电池，100-240V AC电源适配器防护：台式防护等级IP54，便携式防水设计，防护等级IP67订货指南：订货号产品描述标准配置410P-01AStar A专业型台式pH/ISE（离子浓度)测量仪A214 pH/ISE主机，8102BNUWP超级ROSS pH电极，927007MD温度探头，096019搅拌器，810199 ROSS溶液套装（pH4、7、10缓冲液各475mL,储存液，清洗液，电极储存瓶），电极支架，电源适配器 410P-19AStar A专业型台式pH/氨氮测量仪A214 pH/ISE主机，8102BNUWP超级ROSS pH电极，9512HPBNWP氨气敏电极，927007MD温度探头，096019搅拌器，951007氨氮标准液1000ppm（475mL），951210低浓度离子强度调节剂，951213氨气敏电极储存液，电极支架，电源适配器410P-13AStar A专业型台式pH/氟离子测量仪A214 pH/ISE主机，8102BNUWP超级ROSS pH电极，9609BNWP氟离子电极，927007MD温度探头，096019搅拌器，040906氟离子标准液1ppm（含TISAB Ⅱ，475mL），040907氟离子标准液2ppm（含TISAB Ⅱ，475mL），040908氟离子标准液10ppm（含TISAB Ⅱ，475mL），940909 TISABⅡ溶液1加仑，电极支架，电源适配器410P-06AStar A专业型台式pH/钠离子测量仪A214 pH/ISE主机，8102BNUWP超级ROSS pH电极，8611BNWP钠离子电极，927007MD温度探头，096019搅拌器，电极支架，电源适配器420P-01AStar A专业型便携式pH/ISE（离子浓度)测量仪A324 pH/ISE主机，8107UWMMD ROSS三合一pH/ATC电极（3米线缆），910410 pH4.01缓冲液10袋，910710 pH7.00缓冲液10袋，911010 pH10.01缓冲液10袋，810001 ROSS电极储存液475mL，911110润洗液10袋，仪表护套（带电极固定器），便携箱，4节AA电池

钠离子计DWS-51型特别对电厂高纯水( 如蒸汽、凝结水、锅炉给水等)的品质监测更适宜，也可用于高等院校、科研机构、石油化工、微电子等部门，测定天然水、工业排水等水中的钠离子浓度(或活度)。特点l 采用大屏幕LCD段码式液晶，显示清晰、美观；l 仪器可以测量pNa值、钠离子浓度值[Na+]；l 钠离子计DWS-51具有手动温度补偿功能；二点标定（静态和动态标定）；l 静态和动态两种测量（选配DWS-51-1型碱化装置可实现动态测量）；l 仪器除具有pNa值显示外，还具有钠离子浓度值[Na+]显示功能；l 仪器外形美观轻巧。技术参数型号技术参数DWS-51型钠离子计仪器级别0.05级测量参数pNa值、Na+浓度测量范围pNa值（0.00～9.00）pNa[Na+]离子浓度（2.3×10-2～2.3×107）μg/L电子单元基本误差pNa值±0.02pNapNa 值～[Na+]值转换的计算误差±3%（读数）电源AC（220±22）V，（50±1）Hz尺寸（mm）；重量（kg）290×210×95；1.5

离子计酸度计T-7131.1.离子计酸度计T-713适用于各种实验室高精度的测量，涵盖 pH 值 /mV 值 / 电导率 / 电阻率 /TDS/ 盐度 / 溶解氧浓度 / 溶解氧饱和度 / 温度 / 多种常规的离子如 :H+、Ag+ 、Na+ 、K+ 、NH 4+ 、 CI- 、F- 、NO3- 、BF4- 、CN- 、Cu2+ 、Pb2+ 、Ca2+ 、Mg2+ 等多种电化学参数。 一机多用 : 内置 pH 模块，电导模块，溶解氧模块，常规离子模块，根据检测项目选购测量模块。● 7 英寸大屏彩色触控屏， 易于使用的图形交互界面设计， 自动息屏设计， 防冲击， 防刮花，防紫外线，配合实验室手套使用，易清洁、维护，具有丰富的测试参数信 息，操作简便，查看结果更加直观清晰。● 紧凑精巧的独立式电极支架，让实验操作更加灵活。内置中英文操作系统，时 间设置，亮度可调，温度单位可切换。● pH 支持 0.001pH、0.01pH 和 0.1pH，mV 支持 0.01mV、0.1mV 和 1mV 三种 精度可自由选择，内置 3 组 15 种缓冲液，自动识别支持用户自定义 1-3 点校准， 自动显示电极斜率和状态。● 内置 H+ 、Ag+、Na+ 、K+、NH4+ 、Cl- 、F- 等多种常规的离子， 自动识别缓冲溶液， 支持自建， mg/L、g/L、mol/L、PX 多种离子浓度单位快速切换， 直读浓度法测量、 标准添加法测量、样品添加法测量、GRAN 法测量。● 自动盐度补偿和自动气压补偿的功能，溶氧电极可同时测量温度和溶解氧，支 持定时测量，连续测量。● 内置国际和中国 8 种电导率校准溶液，支持任意一点校准方式，电导率、 TDS、盐度和电阻率之间可切换，配套 1.0 常数电极可覆盖全量程测量，20μS/cm 以下样品建议选用 0.1 常数或者 0.01 常数电导电极测量。● 具有数据统计功能， 允许用户将测量结果进行统计、查阅、删除， 分析、保存， 打印， 符合 GMP， 实现数据追溯， 支持自诊断信息 , 固件升级， 断电保护和恢复出 厂设置，符合 IP54 防护等级设计。● 全自动温度补偿，支持手动温度补偿，智能判断电极使用状态。● 具有 USB 接口，支持数据导出，仪器标配蓝牙模块，支持无线蓝牙打印， PC 或手机 APP 传输数据，方便用户操作。测量项目 PH、溶解氧

上海瞬渺光电技术有限公司 脉冲激光器：1.PGFL-KULT系列超加脉冲绿光光纤激光器-532nm工作波长-每个脉冲能量达到10KW-脉宽1到5ns-脉冲重复频率50KHz-线性偏振2.PEFL-KULT系列超加脉冲光纤激光器-1.5μm波长范围-每个脉冲能量达到100μJ-峰值功率达到15KW-平均功率达到1.2W-脉宽0.5到200ns-脉冲相对频率10Hz到1MHz-间隔和连续操作-线性或者自由偏振3.PEFL-MIRVISION系列脉冲高功率铒光纤激光器-1.5μm波长范围-每个峰值能量达到200μJ-峰值功率达到25KW-平均功率达到110W-脉宽从0.5到200ns-脉冲相对频率10KHz到1MHz-线性或者自由偏振4.PEFL-EOLA系列脉冲掺铒光纤激光器-1.5μm工作波长，对人眼无伤害-脉冲能量高达10μJ-峰值功率高达50W-脉冲宽度为100ns-500ns-脉冲重复频率：10kHz-20kHz-3kHz的窄线宽输出-非常低的RIN噪声和相位噪声-线偏振输出-窄线宽，适合做频域变换-光束发散度为衍射极限，M2 1.1-工作时对温度要求不高（0℃-+70℃）-高度集成的设计5.PTFL-KULT系列超加脉冲铥光纤激光器-2μm波长范围-每个峰值能量达到15μJ-峰值功率达到1.5KW-平均功率达到200mW -脉宽10到40ns-脉冲频率5到20KHz-线性或者自由偏振

上海瞬渺光电技术有限公司 脉冲激光器：1.PGFL-KULT系列超加脉冲绿光光纤激光器-532nm工作波长-每个脉冲能量达到10KW-脉宽1到5ns-脉冲重复频率50KHz-线性偏振2.PEFL-KULT系列超加脉冲光纤激光器-1.5μm波长范围-每个脉冲能量达到100μJ-峰值功率达到15KW-平均功率达到1.2W-脉宽0.5到200ns-脉冲相对频率10Hz到1MHz-间隔和连续操作-线性或者自由偏振3.PEFL-MIRVISION系列脉冲高功率铒光纤激光器-1.5μm波长范围-每个峰值能量达到200μJ-峰值功率达到25KW-平均功率达到110W-脉宽从0.5到200ns-脉冲相对频率10KHz到1MHz-线性或者自由偏振4.PEFL-EOLA系列脉冲掺铒光纤激光器-1.5μm工作波长，对人眼无伤害-脉冲能量高达10μJ-峰值功率高达50W-脉冲宽度为100ns-500ns-脉冲重复频率：10kHz-20kHz-3kHz的窄线宽输出-非常低的RIN噪声和相位噪声-线偏振输出-窄线宽，适合做频域变换-光束发散度为衍射极限，M2 1.1-工作时对温度要求不高（0℃-+70℃）-高度集成的设计5.PTFL-KULT系列超加脉冲铥光纤激光器-2μm波长范围-每个峰值能量达到15μJ-峰值功率达到1.5KW-平均功率达到200mW -脉宽10到40ns-脉冲频率5到20KHz-线性或者自由偏振

脉冲激光沉积系统-PLD型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源，最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等

美国SUNSTONE ORION MPULSE 脉冲电弧焊机, 脉冲电弧（微型 TIG）, 氩弧焊机，小型氩弧焊机，微型氩弧焊机， ORION MPULSE 热电偶焊机， 微型TIG焊机, 微型焊机，微型TIG焊接系统，好用的焊机，功率设置范围从3.0瓦到30瓦Orion mPulse 脉冲电弧焊机的功率设置范围从3.0瓦到30瓦，以1瓦为增量，共有27种不同的功率设置可供选择。非常适用于那些需要一个快速焊接，微型焊接，工作周期短的应用。取决于焊接材料不同，最小设置的焊点尺寸接近1毫米。最大的30ws设置将产生一个直径约为1.5mm的焊点。 mPulse与金、银和许多其他金属配合得非常好。这是一个优越的替代任何焊料应用；而且，mPulse工作面积只有25x30x40厘米，几乎不占用您的工作台空间.mPulse具有30ws的功率潜力，几乎任何人都可以使用它，并且有能力处理各种工作。这是完美的那些需要焊工快速，小焊接在轻负荷周期。我们的客户将mPulse 30用于各种应用。许多玻璃框架维修店现在可以修复损坏的钛框架。小划痕很容易用金属丝和mPulse的一圈焊缝磨平。当Sunstone Orion mPulse焊机工作时，任何小型金属应用程序都更容易操作。这么小的热电偶焊机怎么能做这么多？我们不断完善和改进焊接技术，将其应用到我们已经生产了10多年的产品中。每台Orion脉冲电弧焊机都是根据客户的需求量身定制的，通过我们的工程师博士团队的研发，证明了我们的产品超越竞争对手的原因。 Orion mPulse 基本款 Orion mPulse 升级款微型TIG焊机工作原理：电能-等离子放电微型TIG/脉冲电弧焊利用电能产生等离子体放电。高温等离子体反过来在一个小的点上熔化金属。这个过程以毫秒为单位。这一过程是清洁和非常可控的-完美的复杂和微小的焊接非常适合应用在贵金属和非贵金属上！也可以添加填充金属，以形成接头，并形成坚固可靠的“焊道”或焊缝。Orion mPulse 脉冲弧焊机规格：焊接能量范围（焦耳）：3-30焦耳焊点直径范围≈ 1-1.5毫米显示器（触摸屏）：11厘米最大焊接速度：1次焊接/2秒可用焊接能量设置：27高频点火选项：无5x显微镜放大：是显微镜红外和紫外线眼睛保护：是20+屏幕语言：无脚踏板输入：无电弧启动技术：无定位模式：无基本屏幕金属预设：无自适应焊接点火： 无动态能量调整： 无Orion mPulse的使用操作非常简单：1.）连接接地夹2.）使用聚焦在焊接电极尖端的专用显微镜。3.）只需将工件与电极接触，即可触发焊接。4.）开始完美焊接！为什么要购买Orion mPulse？美国制造：最高质量标准Orion mPulse是根据严格的ISO 9001:2015标准在美国设计和制造的。你可以期待这位焊机多年来的表现。触摸屏简单性你所需要的只是你的手指来选择力量。明亮的触摸屏提供两种选择所需电源的方法：使用能量轮“拨入”正确的数字；或者使用加号和减号按钮。完美的永久珠宝解决方案Orion mPulse是完美的永久珠宝解决方案，原因有三：费用低：入门级价格为快速实现盈亏平衡和更大的投资回报率奠定了基础。功率：你只需要3到15焦耳的能量。简单：你唯一需要做的是设置是电源。Orion mPulse完成其余任务。

PLD技术在薄膜制备方面的优势和特点:脉冲激光沉积技术是目前火热薄膜制备技术, 利用PLD技术制备薄膜具有很好的可控性和可设计性, 可通过控制材料成分、激光能量密度、气压、气体、基底材料、沉积角度等, 来实现薄膜的各种功能和结构. 另外, PLD 可以在室温下进行沉积 然而, 目前PLD还有一些技术和工程上的难题需要解决, 例如, PLD会出现相爆炸等效应, 引起大颗粒飞溅, 从而增大薄膜的表面粗糙度, 降低薄膜质量 另外, 大面积均匀沉积也是目前PLD实现大规模工业化生产的一大瓶颈 芬兰Pulsedeon的ColdAb技术基于皮秒, 飞秒短脉冲激光薄膜沉积技术, 可从源头遏制引起薄膜不均匀的微粒及飞溅效应, 且配合独特的设计和功能配置, 从而被证实在制备大面积高质量薄膜方面有优势, 且可实现全自动产业化.凭借这些技术特点, Pulsedeon受邀成为欧盟LISA锂硫电池, PulseLion全固态电池项目中PLD薄膜沉积工艺参与者.PLD制备高性能薄膜拥有很多的优势，总结如下:1）PLD制备的薄膜材料类型非常广泛。由于高能量密度的激光可以烧蚀大多数材料，包括难融材料和特殊材料，并且材料之间还可以组合成复合材料，这又提高了可制备材料体系的丰富度，因此脉冲激光制备的薄膜材料不受材料类型的限制，拥有庞大的材料体系。2）PLD制备的薄膜结构和形貌可控。PLD可以通过控制激光能量密度、背景气压、背景气体种类、基底材料种类、基底温度、沉积倾斜角度等参数实现对产物结构和形貌的控制，实现不同晶体结构、不同疏松度形貌、不同颗粒形状尺寸薄膜的制备，这使得薄膜性能具有很好的可调控性。3）利用PLD的保组分性能够很容易地实现薄膜成分控制，易获得期望化学计量比的多组分薄膜，有利于制备多元复杂化合物和合金薄膜。4）薄膜生长所需的基底温度相对较低，且与基底结合力强。由于高能量密度的脉冲激光轰击的原子(离子)具有很高的能量，不需要很高的基底温度就可以在基底表面自由迁移，因此与传统方法相比，PLD的薄膜生长温度更低，甚至可以在室温下沉积高质量的薄膜，在不耐高温的柔性基底上沉积薄膜以制备柔性器件。5）沉积效率高。文献中所报道的PLD沉积效率可达10 μm/min以上。欧盟PulseLion全固态锂电电池应用案例：PulseLion项目获得了欧盟地平线及欧盟研究与创新计划的资助, 并联合全欧固态电池行业中知名的15个研究单位及企业, 致力于解决行业技术瓶颈并将第四代全固态电池技术大规模制造产业化 该项目中PLD作为工艺关键一环, 其应用是薄锂金属阳极、高离子导电率固态电解质及隔膜层和缓冲膜等关键技术解决方案均由Pulsedeon公司供应. 除了PLD薄膜沉积工艺外, 其高品质靶材也由Pulsedeon制备供应.欧盟LISA锂硫电池应用案例：欧盟LISA新型固态锂硫电池项目, 致力于解决固态锂硫电池稳定产业化瓶颈, Pulsedeon作为薄膜沉积技术参与者, 提供了从实验级到产业级的PLD相关技术工艺和材料, 其中包括 “集流体及隔膜上多个工艺多层薄膜沉积” “金属锂阳极制备沉积” “陶瓷薄膜沉积层的制备” “固态电解质的制备及优化工艺” “用于R2R PLD中试涂层生产的SSE” “锂硫电池实验级到产业化大面积薄膜沉积制备工艺”等环节.

仪器简介：装置构成 1．冷却用真空室单元 2．高速排气单元 3．PAS特殊电源 4．自动加压控制单元 5．温度控制单元 6．位置检出单元 7．6笔记录仪技术参数：采用独特锯齿状高频脉冲电源可以更为高效地完成几乎任意材料的烧结。现在大家常用的电源达不到锯齿状高频脉冲效果尤其是可以在大气下完成Al.Ti,Be等粉末的烧结最大压力(KN) 50～300 脉冲电流 (A) 800～2000 最大输出 (A) 2000～15000 最大输入 (KVA) 19～315 最大使用温度 (℃) 1200～2800 行程 (mm) 70～200 冷却水 0.2～0.3MPa、最小20l/min　水 烧结环境 大气中，真空中，气氛中都可以 主要特点：现在大家常用的电源达不到锯齿状高频脉冲效果 尤其是可以在大气下完成Al.Ti,Be等粉末的烧结Ed-PAS是通过采用特殊锯齿高频脉冲电源施加高能量于粉体微粒上形成微区等离子放电，使得粉体表面氧化膜破裂产生新鲜表面同时施加通电加热于粉体利用热扩散以及电界扩散效应完成烧结过程。所以它有如下特点1。不要求任何粉末冶金知识，不管是谁都可以得到高质量烧结体。2。因为粒子间微区放电具有净化功能，所以不需要真空或保护气氛。3。因为能量密度高，所以可以在比其他方法更低的温度下完成烧结。4。因为在较低温度，较短时间下完成，所以晶粒不长大，非晶态也能够几乎完整地保持下来。

最小脉冲工作压力：10MPa；最大脉冲工作压力：80Mpa)；可调的脉冲速度：20-70 次/分钟最大试验样品数：12 个样品流体温度范围：常温-145℃样品弯曲角度：90 度弯曲和180 度弯曲脉冲波型：T 型波（或方波）；可连续显示脉冲波形；可选择脉冲次数；可联接PC机；