镀膜玻璃器

3.5 在有效速度范围内，速度值任意设置；3.6 横梁移动过程中的速度快捷切换功能3.7 灵活的数据查询显示功能；3.8 过载停机保护功能；3.9 试验结束自动判断功能；3.10 极限位置保护等；本机采用机电一体化设计 ，主要由测力传感器、变送器、微处理器、负荷驱动机构、计算机及彩色喷墨打印机构成。它具有宽广准确的加载速度和测力范围，对载荷、位移的测量和控制有较高的精度和灵敏度，还可以进行等速加载、等速位移的自动控制试验。落地式机型 ，造型涂装均充分考量了现代工业设计，人体工程学之相关原则。主要特点:采用进口光电编码器进行位移测量，控制器采用嵌入式单片微机结构，内置功能强大的测控软件，集测量、控制、计算、存储功能于一体。具有自动计算应力、延伸率（需加配引伸计）、抗拉强度、弹性模量的功能，自动统计结果；自动记录大点、断裂点、点的力值或伸长量；采用计算机进行试验过程及试验曲线的动态显示，并进行数据处理，试验结束后可通过图形处理模块对曲线放大进行数据再分析编辑，并可打印报表。品质保证：3年保修，终身维护！注意事项1、该仪器初始的包装材料需小心保存，安装需由本公司的专业技术人员进行操作。2、若仪器由于任何原因必须返修，必须将其装入原纸箱中以防运输途中损坏。3、在开机前，操作者要首先熟悉操作方法。使用本机之前，请认真阅读使用说明书，充分理解之后，再开机使用。请爱护本机，正确使用，以便使该机永远保持较高的精度和良好的运行状态。中国检测行业与验证服务的尖端者和智领者，帮助众多检测质检单位和学校教研单位提供一站式的全面质量解决方案。 测量电气绝缘材料在工频、音频、高频（包括米波波长在内）下电容率和介质损耗因数的推荐方法准确度ALC ON 10% x设定电流 + 20μAALC OFF 6% x设定电压 + 20μADC偏置电压源电压 / 电流范围：0V—±5V / 0mA—±50mA分辨率：0.5mV / 5μA电压准确度：1% x设定电压 + 5mVISO ON：用于电感、变压器加偏置测试AC源内阻ISO ON：100ΩISO OFF：30Ω、50Ω、电源电压：220V±20%，50Hz±2Hz功耗80VA体积(W×H×D)： 280 mm × 88 mm × 370 mm(无护套)，369 mm × 108 mm × 408 mm(带护套)。重量：约5kg将在以后的测试过程中进行开路校正计算。如果频率1，频率2。设置为OFF, 开路校正计算采用插入法所计算出的当前频率的开路校正数据。如果频率1，频率2 设置为ON, 同时当前测试频率等于频率1，频率2， 则频率1，频率2 的开路校正数据将被用于开路校正的计算。平衡测试功能变压器参数测试功能测试速度:13ms/次电压或电流的自动电平调整（ALC）功能V、I 测试信号电平监视功能内部自带直流偏置源可外接大电流直流偏置源10点列表扫描测试功能30Ω、50Ω、100Ω可选内阻内建比较器，10档分选和计数功能内部文件存储和外部U盘文件保存测量数据可直接保存到U盘RS232C、 USB 、LAN、HANDLER、GPIB、DCI接口

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

Ossila公司浸渍提拉镀膜机英国Ossila公司浸渍提拉镀膜机性能卓越，内置软件，操作简单，价格经济，为科研领域工作者提供一款理想的适用于液相镀膜制备而设计的精密仪器。目前在化学、材料科学的研究中，被广泛应用于溶胶-凝胶（sol-gel）法薄膜材料制备。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面薄片材料镀膜工艺，可以控制膜片提出速度，进而控制涂层厚度，保证良好重复性。提供2年的质保，为使用者提供更高的保障。功能特征u 高精度电机---Ossila浸渍提拉镀膜机采用高精度电机，样品浸渍重复性好。u 平滑运动---Ossila浸渍提拉镀膜机采用微频步进电机，基片浸入、提出过程平滑准确，保证浸渍镀膜效果。u 基片兼容性好---各种尺寸、形状和材质的基片都可以，兼容性好。u 浸渍速度可设置范围广---Ossila浸渍提拉镀膜机基片浸提速度自0.01mm/秒至50mm/秒可设置。只需一台浸渍提拉镀膜机,便可以实现不同厚度的浸渍镀膜效果。u 形体小巧---Ossila浸渍提拉镀膜机占地面积小，只需20cmx30cm空间即可工作，适合大多数实验室。u 坚固耐用，防滑式设计---Ossila浸渍提拉镀膜机采用防滑台脚设计，具有牢牢的抓地功能，避免工作过程不会发生位移。u 软件操作简单---Ossila浸渍提拉镀膜机的内置软件(不需外接电脑)可以实现手动和自动控制。用户界面友好，实验编程和参数设置简单。样品的浸入速度、停留时间、提出速度、干燥时间等整个浸渍过程都是可调可控。手动浸渍情况下，用户可独立设置系统的样品浸入和提出。u 全彩显示屏---任何照明条件下、无论从任何角度，彩色显示屏都有良好的可识别性，视觉舒适性好。u 内置安全措施----Ossila浸渍提拉镀膜机内置软件多种安全保护，包括基于软件的碰撞探测功能，为用户提供高级别的安全性。当基片或工作臂碰到提拉镀膜机底座或烧杯底时系统自动停止工作。降低样品、玻璃容器或提拉机本身受损的风险。u 样品提出速度可变---样品提出速度在整个基片长度范围内可调整，以达到不同涂层厚度梯度效果，快速优化胶片厚度。u 用户协议可保存---Ossila浸渍提拉镀膜机可以存储20个不同的用户协议，每个协议可设置保存20个不同的步骤编程，可随时调用，节省时间，尤其适用于多个科学家共用一台设备的非常繁忙的实验室。u 快速释放夹---用户可以快速往工作臂上加样和卸样。u 标尺的磁铁固位---夹子下方有内置磁铁块，可以很方便地将金属标尺固定到位，便于测量(标尺是标配)。技术规格v 最小提取速度：0.01mm.s-1。v 提取速度：50 mm s-1。v 速度再重现性：±0.01%@1mms-1，±0.1% @10mm.s-1，± 0.3% @ 50mm.s-1。v 最长行程：100 mm。v 循环次数：1000个循环。v 定时器最长可设置时间：99:59:59 (时:分:秒)。v 内置软件特征：提出速度可变，重复循环，碰撞检测功能。v 程序数量：20。v 电源：DC24V。v 产品整体尺寸：宽200mmx高350mm (450mm完全展开)x长300mm。v 运输重量5kg。

日本原装实验室/研发专用台式浸渍提拉镀膜仪， Z轴和X轴双轴控制，具有提拉角度调节功能。ND-0407-S5日本热销的超低速浸渍提拉镀膜仪，它可以通过控制工作两轴和θ角以及对角线提拉来调节提拉角度。客户的需求：对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜两种液体交替对基材进行镀膜在提拉途中，通过改变提拉速度来控制膜厚 ND-0407-S5能够满足客户的需求：可以提供超低速的常规垂直镀膜可以通过调整θ角来获取提拉角度可以采用不同的液体（例如交替吸附等）进行镀膜独立运动和复合运动均可操作（在两个轴上）具有可以连续点运行的新功能 产品特点：可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度（变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。采用触控面板操作方式，在触控面板上，可以轻松完成设置速度变化点(最多16个点)、速度变化(以1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(最多8个模式)的操作。双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。 产品应用： 主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。 工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 技术参数：行程：Z轴：100mm；X轴：100mm速度(Min)：1nm/s速度(Max)：60mm/s操作方法：触控面板屏幕显示语言：英文/日文处理速度指定数量：16个停止位置指定数量：16个停止时间指定数量：16个连续运行模式：有手动运行模式：有存储程序的数量：8个程序监控功能(当前速度):有监控功能(当前位置):有剩余监控时间：有重复运行：有标准夹具：材料：聚丙烯(PP)电源：AC100V、300VA承重量(max)：500g处理尺寸(max)：100mm(H）线性运行模式：无设备尺寸(mm)：442(W)×250(D)×451(H)控制箱尺寸(mm):300(W)×285(D)×163(H)备注：※线性运行模式是指改变速度时，停止时间为零秒。※手动运行模式是指以设定的速度进行上升/下降运行（上升速度和下降速度的另一种设置）。

恒奥德仪器加热型提拉镀膜机 恒温浸渍提拉涂膜机 H18059 主要参数 标温度范围 室温-200℃样行程 150mm提拉速度范围 1um/s-20000um/ss提拉分辨率 1um/s浸渍时间 0-9999S镀膜次数 1-9999次每次镀膜间隔时间 0-9999S额定线性推力 20N控制度 ≤0.5%本公司主营 不锈钢采水器，弯曲测量装置，鼓风干燥箱，色度计，化学试剂沸点测试仪，提取仪，线缆探测仪，溶解氧测定仪，活性炭测定仪，磁导率仪，比浊仪，暗适应仪，旋转仪，酸度计，硅酸根测定仪，过氧化值测定仪，腐蚀率仪，电阻率测定仪，耐压测定仪，污泥比组测试仪，粉体密度测试仪，机械杂质测定仪，运动粘度测试仪，过氧化值酸价测定仪，噪声源，土壤腐蚀率仪，直流电阻测试仪，厌氧消化装置，耐压测试仪，甲醛检测仪，硅酸根测试仪，PH酸度计，测振仪，消解仪，读数仪，空气微生物采样器，，双波长扫描仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，钢化玻璃表面平整度测试仪，腐蚀率仪，凝固点测试仪，水质检测仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，气体采样泵，自动结晶点测试仪，凝固点测试仪，干簧管测试仪，恒温水浴箱，汽油根转，气体采样泵，钢化玻璃测试仪，水质检测仪，PM2.5测试仪，牛奶体细胞检测仪，氦气浓度检测仪，土壤水分电导率测试仪，场强仪，采集箱，透色比测定仪，毛细吸水时间测定仪，氧化还原电位计 测振仪，二氧化碳检测仪，CO2分析仪，示波谱仪，黏泥含量测试仪，汽车启动电源，自动电位滴定仪，，干簧管测试仪，电导率仪，TOC水质分析仪，微电脑可塑性测定仪，风向站，自动点样仪，便携式总磷测试仪，腐蚀率仪，恒温水浴箱，余氯检测仪，自由膨胀率仪，离心杯，混凝土饱和蒸汽压装置，颗粒强度测试仪，斯计，自动涂膜机，，气象站，动觉方位仪，，气味采集器，雨量计，四合气体分析仪，乳化液浓度计，溶解氧仪，温度测量仪，薄层铺板器，温度记录仪，老化仪，噪音检测仪，恒温恒湿箱，分体电阻率测试仪，初粘性和持粘性测试仪，红外二氧化碳分析仪，氢灯，动觉方位仪，冷却风机，油脂酸价检测仪，粘数测定仪，菌落计数器，气象站，雨量计，凯氏定氮仪，荧光增白剂，啤酒泡沫检测仪，发气性测试仪，低频信号发生器，油液质量检测仪，计数器，漏电流测试仪，标准测力仪，毛细吸水时间测定仪，大气采样器，流速仪，继电器保护测试仪，体积电阻率测试仪，侧面光检测仪，照度计，体化蒸馏仪，涂布机，恒温加热器，老化仪，烟气分析仪 本产品价格仅为配件价格，由于检测参数不同对仪器的终要求也不同，所展示的价格并非产品终价格，如给您带来不便请谅解请您在购买前联系我们客服人员，我们会给你确认产品信息，术参数以及报价，我们会以优惠的价格，诚恳的态度为您服务，期待您的来电！ 以上参数资料与图片相对应

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

离子溅射仪喷金仪镀膜仪SD-900实验室仪器SEM镀膜博远微纳VPI离子溅射仪外观亮丽，做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 离子溅射仪喷金仪镀膜仪SD-900实验室仪器SEM镀膜博远微纳VPI是一款最常用的离子溅射仪，是一切溅射仪的基础。是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。 具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控，数码计时等优点。 配有高位定性飞越真空泵参数：主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）靶材：Au（标配）也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H）样品台尺寸：可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台靶材尺寸：Ф50mm 真空指示表：1Pa离子电流表：50mA定时器：0-999S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种最高电压： -1600 DCV机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8） 输入电压：220V(可做110V),50HZ特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、钯等），以达到更细颗粒的涂层。6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料通过国际CE认证。

BLJ-02圆盘剥离试验机专业适用于凹版印刷工艺生产的塑料薄膜和玻璃纸装潢印刷品（包括复合膜印刷品）进行印刷墨层结合牢度的测试试验。亦用于真空镀膜、表面涂布、复合等相关工艺形成的面层之附着状态的测试试验。圆盘剥离试验机技术特征：剥离角度和速度严格按照国家标准进行设计，有效地确保检测数据的可靠性和通用性系统由微电脑控制，搭配PVC操作面板和液晶显示屏，方便用户快速便捷地进行试验操作和数据显示试验结束自动报警提示，保证用户的操作安全 圆盘剥离试验机测试原理及执行标准：将按标准规定选择的玻璃胶带纸与经过试验环境调节后的试样油墨印刷面，以标准的荷重、滚压速度和滚压次数粘合在一起，放置调节一定时间，然后以一定的压力与剥离速度将它们剥开，观察测量试样墨层被剥离的状况，以此判断分析印刷墨层的结合牢度。该仪器符合多项国家和国际标准：GB/T 7707、JIS C2107、JIS Z0237 圆盘剥离试验机技术指标：盘间压力：100 N 剥离速度：0.8 m/s 外形尺寸：280 mm(L) × 230 mm(W) × 380 mm(H) 电源：AC 220V 50Hz 净重：21Kg 以上信息由Labthink兰光 济南兰光机电技术有限公司发布！济南兰光，包装检测仪器优秀供应商，国际知名品牌，专业致力于为包装、食品、医药、日化、印刷、胶粘剂、汽车、石化、生物、建筑及新能源等领域提供行业咨询、产品销售、售后服务和风险控制。成立至今，公司秉承“以客户为中心”的服务理念，已为全球数万家家科研机构、第三方检测机构以及企业品管部门提供了全面、专业、精准的包装产品质量控制解决方案。如欲了解更详细信息，欢迎致电0531-85068566垂询！

该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。 设备技术参数1、使用条件：环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar2、真空室尺寸：蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜)3、电子枪：新型电子枪1套，6穴坩埚4、样品转盘：样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃5、系统真空度：? 极限真空：经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa? 抽气速率：从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa? 系统漏率：整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa6、抽真空系统：FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气7、镀膜监测：采用SQM160膜厚仪进行监测。8、镀膜厚度的不均匀度≤6%

仪器简介： 英国Q150GB涡轮泵高真空、模块化镀膜系统，自动程序控制，傻瓜相机式的简单操作。其镀膜单元可置于各种手套箱内，外置触摸屏用户界面、电源单元和前级机械泵。可监测手套箱压力。该系统不同的配置可以实现离子溅射镀膜、碳蒸发/金属蒸发镀膜或溅射蒸发二者兼有之功能，可用于SEM、TEM及薄膜样品镀膜，也常用于锂电池科研等需要在手套箱内镀膜的样品。 技术参数： 技术规格 仪器尺寸:267mm W x 490mm D x 494mm H 总重量:40公斤 工作腔室:硼硅酸盐玻璃152mmDia (内部) x 214mm H 安全钟罩:整体PET 样品台：直径为50mm的旋转样品台。转速8-20 rpm 真空范围: 10-5 mbar量级 溅射可选靶材：Au金、Au/Pd金钯合金、Pt铂、Pt/Pd铂钯合金、Ag银、Al铝、C碳、Cr铬等 蒸发源：可选用碳棒进行热蒸发镀碳，也可使用钨丝篮或钨舟/钼舟进行热蒸发镀各种金属膜。 主要特点： &bull 可安装在手套箱内的模块化系统 &bull 整体手套箱压力监测 &bull 金属溅射、碳蒸发 – 或二者兼有 &bull 触摸屏控制模块置于手套箱外部操作 &bull 镀膜颗粒精细 &bull 高真空涡轮分子泵抽真空 &bull 可选通过膜厚监控仪实现厚度控制

公司简介： 日本SDI株式会成立于1997年，20多年来一直致力于镀膜机、干燥剂、印刷电路板等的设计、开发与生产，为此类研究领域的客户提供稳定可靠的解决方案，SDI研发生产的浸渍提拉镀膜机，性价比高，运行稳定，极大提高了实验效率与实验精度，可广泛应用于玻璃、亚克力、铜箔等的固体材料表面的镀膜工艺。 北京东方德菲仪器有限公司作为SDI株式会社的中国区指定代理，将继续秉承东方德菲一贯的原则，与SDI株式会社一起以快捷的方式为客户提供专业的技术服务。浸渍提拉镀膜仪工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7 日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7是日本SDI株式会社研发生产的、实验室专用、高端台式、超低速浸渍提拉镀膜仪，速度可变范围1nm/sec到60mm/sec。产品特点：1 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。2 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。3 采用触控面板操作，可控16级变速程序、可控变速范围（变速单位：lnm/sec）、往复运转、存储8个运转模式。4 日语、英语显示可以一键式切换。 产品应用：MD-0408-S7主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料技术参数：行程：150mm(max:800mm) 速度(Min)：1nm/s 速度(Max)：60mm/s 操作方法：触控面板 画面文字：英语/日语 处理速度指定级数：16级 停止位置指定个数：16个 停止时间指定数量：16个 连续运行模式：有 手动运行模式：有 运转模式存储数量：8个运转模式电机功能(当前速度)：有电机功能(当前位置)：有电机功能(运行剩余时间)：有重复运行：有标准夹具：聚丙烯（PP）材质电源：AC100V、250VA搬运重量(max)：1kg处理尺寸(max): 150mm(H)直线运行模式:无※连续运行模式是指：改变速度时，停止时间为“Osec”。※手动运行模式是指：以设定的一个速度上升/下降运行（上升速度和下降速度分开设定）

南通振华光电有限公司供应光学玻璃，无色光学玻璃，有色光学玻璃、石英玻璃（JGS1、JGS2、JGS3）、乳白玻璃、红色玻璃（HB600、HB610、HB630、HB640、HB650、HB670、HB685、HB700、HB720）、绿色玻璃(LB1、LB2、LB3、LB4、LB5、LB6、LB7、LB8、LB9、LB10、LB11、LB12、LB13、LB14、LB15、LB16、LB17、LB18、LB19)、橙色玻璃（CB535、CB550、CB565、CB580） 、 金黄色玻璃（JB400、JB420、JB450、JB470、JB490、JB510）、青蓝色玻璃（QB1、QB2、QB2、QB4 、QB9、QB10、QB11、QB1、QB12、QB13、QB16、QB17、QB18、QB19、QB21、QB23、QB24、QB26、QB29、QB38、QB39、QB40）、紫色玻璃ZB系列（ZB1、ZB2、ZB3） 、氧化钬玻璃(HOB445)、高硼硅玻璃、耐热玻璃、耐高压玻璃、钢化玻璃、紫外玻璃（ZWB1、ZWB2、ZWB3）耐辐射玻璃、中性暗色玻璃（AB00、AB02、AB2、AB5、AB10、AB25、AB30、AB50、AB65、AB70） 、隔热玻璃（GRB1、GRB2、GRB3、KG5）、偏光镜、透镜（凹透镜、凸透镜）、棱镜、柱面镜、平面镜、滤光片、防护玻璃（FB1、FB3）、光学滤光片、有所光学玻璃滤光片、光学元件、升色温玻璃（SSB40、 SSB130 、SSB145、 SSB165、 SSB200）、降色温玻璃（SJB20、SJB80、SJB100、SJB130、SJB140）、偏光片、镨钕玻璃(PNB586)、选择吸收型玻璃、截止型光学玻璃、带通滤光玻璃、分光片、玻璃镜片、镀膜片、光学镀膜片、多层镀膜光学玻璃、UV镜、浮法玻璃、重火石玻璃，K9、B270、超白玻璃等等。

墨层剥离强度试验机_圆盘剥离试验机BLJ-01圆盘剥离试验机专业适用于凹版印刷工艺生产的塑料薄膜和玻璃纸装潢印刷品(包括复合膜印刷品)进行印刷墨层结合牢度的测试试验。亦用于真空镀膜、表面涂布、复合等相关工艺形成的面层之附着状态的测试试验产品特点◎ 剥离角度和速度严格按照国家标准进行设计，有效地确保检测数据的可靠性和通用性。◎ 系统由微电脑控制，搭配PVC操作面板和液晶显示屏，方便用户快速便捷地进行试验操作和数据显示。◎ 试验结束自动报警提示，保证用户的操作安全。墨层剥离强度试验机_圆盘剥离试验机测试原理将按标准规定选择的玻璃胶带纸与经过试验环境调节后的试样油墨印刷面，以标准的荷重、滚压速度和滚压次数粘合在一起，放置调节一定时间，然后以一定的压力与剥离速度将它们剥开，观察测量试样墨层被剥离的状况，以此判断分析印刷墨层的结合牢度。应用领域塑料薄膜印刷品、玻璃纸印刷品、真空镀膜、表面涂布、装潢印刷品测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：GB/T7707、JIS C2107、JIS Z0237。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

超白玻璃B270广泛应用于数码投影仪，真空镀膜基板，触摸屏，镀膜监控玻璃，光学元件等领域。超白玻璃B270，具有对日晒高稳定性。此外还具有高度稳定的热性能和化学性能及火抛光的表面。南通振华光电有限公司20年专注生产、研制、加工各种不同规格牌号的有色光学玻璃和无色光学玻璃等各种光学元件。有色玻璃：紫外滤光片、透紫外线玻璃、金黄色光学玻璃、橙色光学玻璃、红色滤光片、红外光学玻璃、红外透射可见吸收玻璃、紫外透射可见吸收玻璃、选择吸收型紫色光学玻璃、青蓝色玻璃、绿色玻璃、隔热玻璃（GRB1、GRB3、KG5）、选择吸收型波长标定玻璃、降色温玻璃、升色温玻璃、中性灰色玻璃、UV滤色镜、带通滤光片（宽带、窄带）。无色玻璃：超白玻璃B270、光学石英玻璃（远紫外石英玻璃JGS1、紫外石英玻璃JGS2、红外石英玻璃JGS3）、微晶玻璃、防辐射玻璃（ZF1、ZF2、ZF3、ZF4、ZF5、ZF6、ZF7)、耐辐射玻璃（k509耐辐射玻璃、k507耐辐射玻璃）、k9光学玻璃、微孔阵列玻璃、高硼硅玻璃、高铝硅玻璃、高硼硅浮法玻璃、乳白玻璃、异型镜片、偏振片。根据不同行业需求定制，可根据图纸定制各种款式。

700 – 1650nm 传统镀膜带通干涉滤光片 备有UV、可见和IR中心波长可供选择备有10 – 80nm带宽适合用于生物医学应用和仪器集成备有193-399nm、400-699nm，以及700-1650nm的CWL选项可供选择通用规格涂层:Traditional Coated 表面质量:80-50入射角 (°):0构造 :Mounted in Black Anodized Ring传统镀膜带通干涉滤光片用于选择性地透射范围狭窄的波长，同时阻断所有其他的波长，是各种生物医学和定量化学应用的理想选择。带通干涉滤光片广泛应用于各种仪器，其中包括临床化学、环境实验、色彩学、元件和激光谱线分离、火焰光度法、荧光和免疫测定。此外，还可使用带通干涉滤光片从弧形灯或气体放电灯散谱线中选择离散光谱线，以及从Ar、Kr、Nd:YAG及其他激光中隔离特定光谱线。它们经常与激光二极管模块和LED结合使用。传统镀膜滤光片传统镀膜滤光片由三个部分制造而成，其中之一决定其中心波长（CWL）、带宽（FWHM），以及透射率曲线的形状，其他两个步骤则控制滤光片的阻断范围。传统镀膜带通干涉滤光片经由在玻璃基片上反复一层层地真空沉淀部分反射的薄介电化合物层制造而成。由破坏性干扰引起的波长折射只限于中心波长的15%内，因此，将需要添加额外的玻璃或金属截止以降低带外透射。金属截止，如银层，能反射和吸收滤光片通带外的辐射，并取消从X射线到长波红外（LWIR）的较高级别通带。金属截止的阻断能力由能够吸收UV或长波长辐射的特制染料和颜色透射玻璃的增广。薄片沉淀完成后，这三个部分将会经过刻划、层压、切割和安装。Edmund 传统镀膜带通干涉滤光片#3198

1.产品概述MS450多靶磁控溅射镀膜系统由沈阳科友仪器等制造商生产，是一款集高真空、多靶材、磁控溅射技术于一体的镀膜设备。该系统能够在所需基材上沉积多种类型的涂层，包括耐磨损涂层、自润滑涂层、抗腐蚀涂层、抗高温氧化涂层、透明导电涂层等，广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业期探索性实验及开发新产品等。2.产品组成MS450多靶磁控溅射镀膜系统主要由以下几个部分组成：真空室：提供高真空环境，确保镀膜过程中的气体分子干扰小化。溅射靶枪：内置多种靶材，如金属、陶瓷等，通过磁控溅射技术将靶材原子溅射到基材表面。溅射电源：提供稳定的电源供应，支持直流(DC)、中频(MF)、射频(RF)等多种溅射模式。加热样品台：用于加热基材，提高镀膜质量和附着力。流量控制系统：精确控制工艺气体的流量和压强，确保镀膜过程的稳定性和可控性。真空获得系统：包括真空泵等组件，用于将真空室抽至高真空状态。真空测量系统：实时监测真空室内的气体压力等参数。气路系统：用于向真空室内通入工艺气体，如氩气等。PLC+触摸屏自动控制系统：实现设备的自动化控制和操作，提高工作效率和镀膜质量。3.工作原理MS450多靶磁控溅射镀膜系统的工作原理基于磁控溅射技术。在镀膜过程中，电子在电场的作用下飞向基片，并与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子。Ar正离子在电场的作用下加速飞向阴靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。溅射出的靶原子或分子在基片表面沉积成膜。同时，二次电子在电场和磁场的作用下产生E×B漂移，被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，电离出更多的Ar正离子来轰击靶材，从而实现高的沉积速率。4.技术特点多靶材选择：支持多种靶材的溅射镀膜，满足不同材料的镀膜需求。高真空环境：提供高真空环境，确保镀膜过程的稳定性和镀膜质量。高精度控制：通过PLC+触摸屏自动控制系统实现设备的精确控制和操作。高沉积速率：利用磁控溅射技术实现高的沉积速率和均匀的膜层质量。广泛适用性：适用于金属、陶瓷、玻璃等多种基材的镀膜处理。5.应用域MS450多靶磁控溅射镀膜系统广泛应用于以下域：材料科学：用于开发纳米单层、多层及复合膜层等新型材料。电子工程：制备金属膜、合金膜、半导体膜等电子材料，应用于太阳能电池、OLED等域。工业生产：在汽车零部件、航空航天器件等域制备耐磨损、抗腐蚀等高性能涂层。综上所述，MS450多靶磁控溅射镀膜系统以其先进的技术特点和广泛的应用域，在材料科学和工业生产中发挥着重要作用。

产品详情英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500适合研究开发需求的多功能系统平台 ATS 500 AUTO 500 Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计，可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺，甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。真空腔室安放在内部装载有真空泵系统的基座上。系统的真空系统由触摸屏操作显示的PLC自动控制。PLC显示操作面板以及其他工艺附件的控制面板都集中安装在真空腔室旁边的19”标准控制机柜上，操作十分方便。 Auto500既可以只配置单个镀膜源，也可以配置成多个不同的镀膜源，其工艺配置灵活性非常高，并且也很容易进行现场升级。 Auto500还可以配置一系列样品承载台，可实现样品旋转、倾斜、加热、冷却、偏压等。 真空系统可选无油干泵、分子泵及低温冷凝泵等。ATS500系统配置触摸屏控制方式和分子泵高真空系统。ATS500系统为复杂薄膜应用而设计，配合不同工艺附件适用于不同应用。 真空及控制系统：触摸屏控制系统集成在19”宽的标准控制机柜中，触摸屏系统可以自动控制真空系统和各种工艺附件的工作。?。带人机接口的PLC自动真空控制系统?。7英寸彩色触摸屏?。工艺菜单可以自动控制镀膜过程，包括镀膜源，开关，基片台旋转，基片台加热和其他相关工艺附件（针对所选附件）?。工艺真空显示，流量控制显示（针对所选附件）?。真空阀位置,泵状态和联锁状态?。警报或错误消息?。 USB端口. csv文件格式处理数据日志记录?。以太网端口的远程支持和诊断 系统操作模式:? 自动模式，按照工艺菜单运转? 手动模式，按照需求进行工艺过程配置? PLC中的关键设置密码保护 ATS500系统具有高产能真空系统，包括：? Edwards XDS20i型无油干泵，用于腔室粗抽真空以及分子泵的前级预抽泵? Leybold Turbovac 600C 560l/s 型涡轮分子泵? 涡轮分子泵通过ISO160真空法兰安装在真空室的后部? 使用皮拉尼规和冷电离潘宁规监控系统压力? 具有完善的互锁设计，确保操作人员的安全。 真空腔室：带水冷的真空腔室尺寸是500mm宽/直径，500mm高，采用304无磁不锈钢制造。腔室采用前方开门设计，门上安装有工艺观察窗潜望镜结构设计的玻璃挡片装置，可以观察腔室内部配置有一套可拆卸清洗的不锈钢腔室内衬板，便于腔室内壁的保护腔室后部有一个ISO160真空法兰连接真空系统腔室底板焊接到底部法兰，不可拆卸极限真空可达5E-7Torr。

克普斯镀膜机真空腔体:——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司克普斯采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。常见真空腔体技术性能:材质:不锈钢、铝合金等腔体适用温度范围:-190°C~+1500°C(水冷)空封方式:氟胶O型圈或金属无氧铜圈出厂检测事项:1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*//s2、水冷水压检测:8公斤24小时无泄漏检测.内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.不锈钢真空腔体加工,铝合金真空腔体的品质获得并通过|S0 -9001质量标准体系认证,所有产品均经过真空氦质谱检漏仪出厂,产品被用与航空航天、科研、核电、镀膜、真空炉业、能源、医药、冶金、化工等诸多行业,如有需要欢迎咨询！克普斯真空为高校、科研院所设计加工高真空、超高真空的真空腔体，可以根据客户的技术要求(PPT)开发设计，也可以按图(草图、CAD图、照片)设计加工。可以加工的真空腔体形状:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状 可以加工的真空腔体材质:不锈钢材质 (304、304L、316316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质等。真空产品设计能力、完善的真空机械加工体系以及快速的服务啦应支持，承接各种规格型号的真空室开发设计、按图定制等。我们为高真空或超高真空应用设计及制造的各种真空腔体，包括为高校和科研院所设计真空试验腔体、真空环境模拟腔体、真空放电测试腔体、真空激光焊接腔体、CVD反应腔体、真空镀膜室等。另外，客戶订制的真空室都可通过我们的工程设计，与您现有的真空系统融合，成为一套功能完整的系统。也可以通过我们的工程设计，预留标准接口及装配位置，方便您日后增配或更换真空部件，实现系统的升级或功能的转换。我们能定制的真空室结构与材质配置多种结构型态:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状:多种材质:不锈钢材质 (304、304L、316,、316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质。所有材质是经过特别选择的，可达到低磁渗透性的要求。我们的开发设计人员均具有10年以上真空行业工作经验，独立开发设计上百套涵盖真空室的相关产品 我们使用业界*的CNC加工中心以及其它配套的加工机械，并业已形成完善的真空机械加工体系。我们的质量保证及售后服务能力我们的产品严格遵照相关标准，并执行原材料检验、加工在线检测、半成品检测及成品出厂检测，对于非标定制的产品与客户联合检测验收 需要特别指出的是对于真空室，所有接缝处、焊接处及法兰连接处都要通过严格的观察检验及氨质谱检漏仪检漏测试，并对整个系统进行漏率测试，系统漏率优于 8.0x10-8 Pa.L/S.实验室真空系统,真空腔体,真空探针台,克普斯镀膜机真空腔体

英国VacTechniche,真空镀膜系统,SEM 镀膜机,涡轮泵溅射镀膜机 DST1-170涡轮泵溅射镀膜机 DST1-170SEM 镀膜机 |溅射镀膜机SEM/TEM 样品制备 Vac Techniche 介绍 DST1-170，这是一款先进的高真空磁控管台式溅射镀膜机。这种紧凑的涂层系统以其多功能性而著称，能够有效地涂覆氧化性和非氧化性金属。DST1-170 是短期沉积需求的理想选择，擅长快速生产具有细晶粒纹理的均匀薄膜。通过这种创新解决方案体验快速而精确的涂层周期。vac Coat DST1-170 具有最小的台式占地面积之一，可为高分辨率 SEM 和 TEM 样品制备提供直流溅射。台式溅射镀膜机 |DSR1 系列 台式磁控溅射镀膜机 （DSR1） 是一种高效的工具，以在全自动系统中提供一致且高度可重复的结果而闻名。DSR1 SEM 镀膜系统采用符合人体工程学的设计和较小的占地面积，易于使用。由于自动过程控制，可提供具有可重复结果的高分辨率清晰度涂层，从而轻松设置和操作。DST1-170 也可用于光学和薄膜镀膜的一般金属溅射。 样品旋转是标准配置，大多数应用都可以调整倾斜和高度。 Vac Techniche 还有一系列更大的涡轮泵浦溅射镀膜机，可选择 1 至 3 英寸、2 英寸磁控管、射频和直流、样品加热，该系列是 DST1-300 系列。DST1-170 也可用于光学和薄膜镀膜的一般金属溅射。 DST1-170 可配备水冷阴极，使其适合长时间沉积。此模型中基板的最大尺寸可以是 4 英寸。DST1 可以配备水冷阴极，使其适合长时间沉积。此模型中基板的最大尺寸可以是 4 英寸。 DST1-170 洁净真空脉冲碳纤维升级选项真空室是圆柱形 Pyrex。DST1-170 配有一个内部安装的 90 L/s 涡轮分子泵，由一个 6 m3/h 的两级旋片泵提供支持。它引入了普通扩散泵通常存在的无油污染的清洁真空。DST1-170 蒸发脉冲碳纤维升级选项 紧凑的台式真空溅射和碳镀膜机专为小腔室设计，具有令人印象深刻的脉冲碳纤维蒸发能力。在此过程中使用短脉冲可以在沉积过程中实现更精细的控制，并且作为一个显着的好处，可以大大减少通常与传统碳沉积方法相关的碎屑的产生。这一进步不仅提高了涂层精度，还大大减轻了碎屑带来的挑战，使其成为各个领域的研究人员和专业人士的宝贵工具。

ARC-LITE样品制备镀膜机ARC-lite样品制备镀膜机是一种快速的, 在常温状态下对各种封装形式器件和WAFER的样品，进行COATING的设备.　　设备主要特点:1. ARC-lite样品镀膜在常温下进行。 2. ARC-lite可以适用于ASAP-1选择区域精细研磨和ULTRAPOL ADVANCE抛磨后等镀膜,以便使样品在显微镜或其他观察时更为清晰 。3. 快速方便-只用45秒。4. 样片效果比不做镀膜可提高60%。5. 各种形式/尺寸封装和WAFER样品都可适用。6. 价格实惠,小巧方便。7. 可用于emission microscopy, Laser, FIB, voltage, thermal, FMI, probing, and most other backside techniques.

Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DTTDTT: Turbo Triple Thermal Evaporation Source Desktop CoaterVac Techniche三热源台式涂布机为各种形式的源材料提供了一个非常通用的热蒸发系统，包括电线、绳索、颗粒和粉末，与船/篮和线圈源支架兼容。为了便于使用，触摸7英寸彩色屏幕控制具有全自动控制、数据输入和显示功能，专为经验丰富和缺乏经验的操作员设计。控制系统允许记录多达300个历史处理。 三个独立的耐热热蒸发源。蒸发源支架的设计不会造成源材料对彼此的污染。 光源支架的长度可以在50mm~90mm的范围内进行调整。可进行联合蒸发升级 蒸发源篮子线圈/电线

英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备 HHV Auto306是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。Auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。 Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室，也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度，适用于安装较多的工艺附件。 客户可选择的模块化工艺附件，包括热阻蒸发源及其控制电源、电子束蒸发源、遮挡板、基片夹具以及膜厚监控仪等。 真空系统由触屏PLC控制和监控，易于操作；高真空泵选择包括扩散泵、涡轮分子泵、冷凝泵，并使用油封或干式泵作为支持泵。集成的具有备用电池的高真空阀门可在意外情况时保护泵和样品。

产品详情英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备 HHV Auto306是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。Auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。 Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室，也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度，适用于安装较多的工艺附件。 客户可选择的模块化工艺附件，包括热阻蒸发源及其控制电源、电子束蒸发源、遮挡板、基片夹具以及膜厚监控仪等。 真空系统由触屏PLC控制和监控，易于操作；高真空泵选择包括扩散泵、涡轮分子泵、冷凝泵，并使用油封或干式泵作为支持泵。集成的具有备用电池的高真空阀门可在意外情况时保护泵和样品。

SD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适； 特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大； 前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体； 调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好； 高压输出可使成膜更加牢固快速。 功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵。 SD-3000型是一款针对做电极研究和半导体研究的仪器，相对于基础型溅射仪，SD-3000型的镀层和样品之间更贴合，更有附着力，以便后续的研究。需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料参数：?主机规格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）?靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）?靶材：Au（标配）?样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H）?靶材尺寸：Ф50mm ?真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar?离子电流表： 最大电流：50mA?定时器： 最长时间：1-360s?微型真空气阀：可连接φ3mm软管?可通入气体： 多种?最高电压： -2800 DCV?机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8）特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。7、涂层牢固，特别适用于非导体材料实验电极制作和半导体材料的研究。

GL14---K9双凹透镜 双凹透镜其中由两个曲率相等的凹面组成，常用于透镜的扩束、投影及扩大光学系统焦距。 材料: 精退火K9光学玻璃设计波长： 587.6nm直径误差： +0.0/-0.1mm中心厚度误差: ±0.2mm　　面型不规则: 波长/4 @632.8nm焦距误差（EFL）: ±2%透镜定心误差: 3 分表面光洁度: 3~4级倒边 : 0.2mmX450镀膜: 见产品列表未镀膜透镜，及镀可见光(VIS)宽带增透膜透镜直径 (mm)焦距EFL (mm) 背焦BFL (mm) R1=-R2 (mm) 中心厚度 Tc(mm)边厚 Te(mm)镀膜--无AR @400~700nm适用的透镜安装环见样本Pg.100产品编号产品编号2.0-2.0-2.31-2.221.001.48GL14-002-002GL14-002-002-VISN/A2.0-2.5-2.81-2.741.001.38GL14-002-003GL14-002-003-VISN/A3.0-3.0-3.31-3.261.001.73GL14-003-003GL14-003-003-VISN/A3.0-6.3-6.62-6.671.001.34GL14-003-006GL14-003-006-VISN/A3.0-10.0-10.32-10.501.001.22GL14-003-010GL14-003-010-VISN/A4.0-4.0-4.32-4.301.001.99GL14-004-004GL14-004-004-VISPN35036-LM040-S6.3-6.3-6.78-6.751.503.06GL14-006-006GL14-006-006-VISPN35034-LM063-S 直径 (mm)焦距EFL (mm) 背焦BFL (mm) R1=-R2 (mm) 中心厚度 Tc(mm)边厚 Te(mm)镀膜--无AR @400~700nm适用的透镜安装环见样本Pg.100产品编号产品编号10.0-10.0-10.48-10.581.504.01GL14-010-010GL14-010-010-VISPN35032-LM100-S12.5-12.5-12.48-12.641.504.81GL14-012-012GL14-012-012-VISPN35030-LM127-S16.0-16.0-16.49-16.781.505.56GL14-016-016GL14-016-016-VISPN35028-LM160-S25.0-25.0-25.66-26.162.008.36GL14-025-025GL14-025-025-VISPN35022-LM250-S40.0-40.0-40.82-41.742.5012.71GL14-040-040GL14-040-040-VISPN35007-LM400-S50.0-50.0-50.99-52.153.0015.77GL14-050-050GL14-050-050-VISPN35004-LM500-S 近红外(NIR)宽带增透膜透镜，短波红外(SWIR)宽带增透膜透镜直径 (mm)焦距EFL (mm) 背焦BFL (mm) R1=-R2 (mm) 中心厚度 Tc(mm)边厚 Te(mm)AR @650~1050nmAR @1000~1650nm适用的透镜安装环见样本Pg.100产品编号产品编号2.0-2.0-2.31-2.221.001.48GL14-002-002-NIRGL14-002-002-SWIRN/A2.0-2.5-2.81-2.741.001.38GL14-002-003-NIRGL14-002-003-SWIRN/A3.0-3.0-3.31-3.261.001.73GL14-003-003-NIRGL14-003-003-SWIRN/A3.0-6.3-6.62-6.671.001.34GL14-003-006-NIRGL14-003-006-SWIRN/A3.0-10.0-10.32-10.51.001.22GL14-003-010-NIRGL14-003-010-SWIRN/A4.0-4.0-4.32-4.301.001.99GL14-004-004-NIRGL14-004-004-SWIRPN35036-LM040-S6.3-6.3-6.78-6.751.503.06GL14-006-006-NIRGL14-006-006-SWIRPN35034-LM063-S10.0-10.0-10.48-10.581.504.01GL14-010-010-NIRGL14-010-010-SWIRPN35032-LM100-S12.5-12.5-12.48-12.641.504.81GL14-012-012-NIRGL14-012-012-SWIRPN35030-LM127-S16.0-16.0-16.49-16.781.505.56GL14-016-016-NIRGL14-016-016-SWIRPN35028-LM160-S25.0-25.0-25.66-26.162.008.36GL14-025-025-NIRGL14-025-025-SWIRPN35022-LM250-S40.0-40.0-40.82-41.742.5012.71GL14-040-040-NIRGL14-040-040-SWIRPN35007-LM400-S50.0-50.0-50.99-52.153.0015.77GL14-050-050-NIRGL14-050-050-SWIRPN35004-LM500-S

1. 产品概述：HVD-1800 Series 是韩国真空公司推出的一款高性能部件镀膜设备。它采用了先进的真空镀膜技术，能够在各种部件表面镀上一层或多层具有特定功能和性能的薄膜，如耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、光学等特性的薄膜，以提升部件的性能和使用寿命。 2. 设备应用： 汽车工业：用于汽车零部件的镀膜，如发动机零部件、传动部件、制动部件等，可提高其耐磨性、抗腐蚀性和耐高温性能，减少摩擦损耗，延长部件的使用寿命，进而提升汽车的整体性能和可靠性。 电子行业：应用于电子元器件的镀膜，像半导体芯片、电容器、电阻器等。镀膜可以改善电子元器件的电学性能，如提高导电性、降低电阻，同时也能提供一定的保护作用，防止外界环境对元器件的影响，增强电子设备的稳定性和可靠性。 光学领域：可对光学元件进行镀膜，包括透镜、棱镜、反射镜等。通过精确控制镀膜的厚度和材料，可以实现对光的反射、折射、透射等特性的调控，提高光学元件的光学性能，如增加反射率、提高透过率、减少色散等，广泛应用于相机镜头、望远镜、显微镜等光学仪器中。 机械制造：为机械零部件提供镀膜服务，例如刀具、模具、轴承等。镀膜能够赋予机械零部件更高的硬度、更好的耐磨性和抗腐蚀性，使其在复杂的工作环境下保持良好的工作状态，减少磨损和损坏，提高机械加工的精度和效率，降低生产成本。3. 设备特点： 先进的镀膜技术：采用了多种先进的镀膜工艺，如物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等，能够满足不同材料和镀膜要求，确保镀膜的质量和性能。 高精度的膜层控制：配备了精密的膜厚监测和控制系统，可以精确控制镀膜的厚度和均匀性，保证每一批次产品镀膜的一致性，满足对膜层厚度和质量要求较高的应用场景。 高效的生产能力：具备较高的镀膜速率和较短的工艺周期，能够实现大规模的部件镀膜生产，提高生产效率，满足市场对大量镀膜部件的需求。 良好的兼容性：可以适应多种不同形状、尺寸和材料的部件镀膜，对于复杂形状的部件也能实现均匀镀膜，具有广泛的适用性。 可靠的设备稳定性：采用了高品质的材料和先进的制造工艺，确保设备在长时间运行过程中保持稳定的性能，减少设备故障和停机时间，提高设备的利用率和生产效率。4. 产品参数： 镀膜腔室尺寸：通常具有较大的镀膜腔室空间，以容纳不同尺寸的部件，可能在直径和高度上有不同的规格选择，如直径 1.8 米，高度 2 米等。 极限真空度：能够达到较高的极限真空度，比如优于 10^-4 Pa，以保证镀膜过程在高真空环境下进行，减少杂质和气体对镀膜质量的影响。 镀膜温度：可在一定温度范围内进行镀膜，根据不同的镀膜工艺和材料，温度范围可能有所不同，例如常温到几百摄氏度。 电源功率：根据设备的规模和镀膜工艺的需求，配备相应功率的电源，可能在几十千瓦到上百千瓦不等。 气体流量控制：精确控制各种镀膜气体的流量，以确保镀膜过程中气体的比例和供应稳定，气体流量控制精度可能达到 ±1% 或更高。 实际参数可能会因设备的具体配置和定制需求而有所不同。

HHV BT150和BT300适用于电镜样晶制备以及其他常规科研用途的新型台式镀膜设备 技术信息：BT150腔室：真空玻璃制，圆柱体165mm直径×150mm高，配内爆防护罩；可选配200mm高度的腔室初级真空泵： 12时／h抽速的双级旋片真空泵；可选配无油干泵分子泵（选项）：621/s抽速的涡轮分子泵 极限真空（无分子泵）：5×10E-2mba「（3分钟内）极限真空（有分子泵） ：5×10E-5mba「（8分钟内） 输入电源： 110/230V, 50/60Hz，单相 工艺附件金属溅射：单个溅射靶枪（54mm直径靶材） 适用溅射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, C「等 贱射选项：用于溅射易氧化的金属（如Al），需配置分子泵选项 碳纤维蒸发： 脉冲沉积，可选择电流及除气模式 碳棒蒸发：脉冲沉积，可选择电流及除气模式 水冷SEM样品台： 6个SEM样品位，水冷和偏压功能旋转SEM样品台：6个SEM样品位，单轴旋转或行星运动式 常规科研用旋转样品台：适合最大4” 或100mm直径基片 BT300腔室： 真空玻璃制，圆柱体30mm直径×150mm高，配内爆防护罩；可选配200mm高度的腔室初级真空泵：12时／h抽速的双级旋片真空泵；可选配无油干泵分子泵（选项）：621/s抽速的涡轮分子泵 极限真空（无分子泵）：5×10E-2mba「（12分钟内） 极限真空（有分子泵）： 5×10E-5mba「（20分钟内） 输入电源： 110/230V, 50/60Hz，单相 工艺附件金属溅射： 单个、 双个或者三个溅射靶枪（54mm直径靶材）适用贱射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, Cr等溅射选项：用于溅射易氧化的金属（如Al），需配置分子泵选项旋转样品台：常规科研用，适合最大4” 或100mm直径基片（双靶），或150mm直径基片（三靶） 行星运动式样品台： 常规科研用，优化沉积均匀性，适合最大200mm直径基片（三靶） 认证标识：BT150和BT300具有CE标识 主要特点 简单的操作会全彩、 高分辨率、 触摸屏控制系统为可存储和编辑工艺配方多达30个会工艺数据可输出到大容量存储器或计算机会可选的集成式薄膜厚度监测仪为自动识别工艺附件 工功能的薄膜沉积技术会惰性金属溅射（SEM应用）为碳纤维及碳棒蒸发（TEM应用）会用于碳膜表面的亲水改性的辉光放电装置（TEM应用）会普通金属的溅射镀膜（常规科学研究应用， 需要配分子泵选项）会金属的热阻蒸发镀膜为自动快门挡板的选项 多种样晶台为水冷及偏压的SEM样品台女旋转的SEM样品台为行星式运动的SEM样品台会适合最大4” 或100mm直径基片的旋转样品台（BT150)为适合最大8” 或200mm直径基片的旋转／行星运动式样品台（BT300) 新型设计的HHV BT150和BT300是面向电镜工作者及科学研究者需求的经济型台式镀膜系统。BT150己具有电镜工作者所需的全面镀膜能力， 而BT300配置了更大的真空腔室， 可满足更广泛的其他常规科研镀膜应用。通常情况下， 这些系统采用金属溅射来制备SEM样品， 而采用碳纤维（或碳棒）蒸发来制备TEM样品。碳蒸发镀膜也可以用于×射线微区分析的样品。BT系列系统还可配置成适合于常规科学研究需求的金属溅射及金属蒸发能力。 具有自动样晶镀膜能力的触摸屏操控系统为了使用方便， 这两款BT设备都配置了彩色的、 高分辨率的触摸屏操控系统。控制系统可存储多达30个工艺配方程序， 可随时调用执行。控制系统能向外输出工艺数据 便于存储及分析。它还能自动识别所安装的工艺附件。 种类繁多的可选样晶台BT系列设备具有多种样品台可供选择。用于承载SEM样品座的静态样品台具有水冷功能， 可防止样品过热， 而且还含有溅射刻蚀及清洗的装置。使用刻蚀装置可以提高某些样品的图像对比度， 而不太脆弱的样品还能通过刻蚀来去除吸附的水汽， 从而改善薄膜附着力。 BT150可选择旋转甚至行星运动式设计的样品台， 最大基片尺寸可达4英寸或者100mm。而BT300也可选择类似的旋转样品台，其最大基片尺寸可达8英寸或者200mm， 满足更广泛的研究需要。 集成的薄膜厚度测量仪BT系列设备的选项中包括全集成式的薄膜厚度监测系统。该系统集成在触摸屏控制器内， 可提供溅射膜厚的控制。 简单的靶材更换BT150和BT300采用简单快速的靶材更换设计， 在必要时可对样品进行不同材料的镀膜。配置旋片泵的系统可以溅射惰性金属，如金、 金／tE、 铀和铜。增加可选的分子泵之后， 这两款系统还能溅射容易氧化的金属， 比如铝。 真空泵选项BT系列设备可以配置双级旋片真空泵， 用于碳蒸发及惰性金属溅射等普通应用。而可选的分子泵可以提供设备更优秀的性能：真正的高真空环境， 以及溅射非惰性金属（比如铝）的能力。 BT系列设备也可以配置干式真空泵， 满足无油真空的要求。 安全设计及认证BT150和BT300具有完善的安全使用及互锁设计， 确保操作人员安全。这些设备可以提供CE标识以及UL认证。

产品概述：石英光学镀膜滤光片全部采用优质石英硬质镀膜技术制成，全系列光学滤光片均采用高纯石英为基板，使用专门定制的日本Optorun的透射反射一体的光控真空镀膜设备，加以高能IAD辅助镀膜。产品具有波长准确、耐候性、稳定性和重复性高的特征。广泛应用于光催化，氙灯光源、汞灯光源、LED光源、光电电化学、光电IPCE等光学系统领域。常用规格为直径59mm基底圆片，采用M62螺纹固定，可以多层叠加。窄带滤光片: 波长定位准、峰值透过率高、截止深、截止宽。 宽带通和截止滤光片: 透过率高、截止范围宽、波长准确。带通滤光片，分为紫外带通、可见带通，半波带宽15nm，采用石英基低片高真空镀膜，规格为M62（滤光片直径59mm），背景波长均为200-1100nm，OD3。产品详情：常规滤光片： UVIRCut400（透过400-780nm），UVIRCut420（透过420-780nm），UVCut380（透过大于380nm）、UVCut400，UVCut420、UVCut450、UVCut500、UVCCut700、 VisCut800（透过800nm以上）、VisCut900，AM1.5G（模拟日光光谱，300-1100nm）， AREF（全光谱反射，200-2500nm），VisREF（标配可见反射片，300nm-780nm），UVREF（紫外反射片，200-400nm）；QD300-800（透过光谱为300-800nm，主要滤除红外），带通滤光片： QD254，QD275, QD295，QD313，QD325，QD334，QD350， QD365，QD380，QD390，QD400，QD405，QD420，QD435，QD450，QD475，QD500，QD520，QD550，QD578，QD600，QD610，QD630，QD650，QD670，QD700，QD730，QD765，QD800，QD850，QD900，QD915，QD940，QD980，QD1000，QD1060，QD1070光学玻璃滤光片，M62螺纹，钢化光学玻璃，耐高温；（1）带通滤光片：DBT395；DBT435；DBT470；DBT500；DBT530 （2）DBT700；313nm；334nm；365nm ；HB700；HWB950；HWB800（3）红外滤除滤光片：GRB3；GRB1（4）衰减片：AB25；AB50（5）偏振片光谱图：

窗口玻璃WKCK【简介】： 窗口玻璃WKCK的种类包括紫外光学窗口、可见光学窗口、红外光学窗口，其中红外光学窗口是非制冷红外焦平面探测器系统中必要的部件，主要应用于热成像领域，其要求是红外透过率的同时，滤掉某些杂散光，以达到成像效果清晰。 在某些应用领域对于红外成像的要求越来越高；并且因为大部分时间在野外工作，因此环境中的雨滴、砂粒等颗粒会对窗口表面膜层产生比较大的冲击，其表面需要镀制保护膜以提高其抗雨蚀、砂蚀的能力。红外光学窗口性能优异，真空封装后气密性好，可广泛应用于红外热像仪、测温仪、红外传感器等。窗口玻璃WKCK【技术指标】：序号名称参数1种类紫外光学窗口、可见光学窗口、红外光学窗口2材料光学玻璃 熔融石英 蓝宝石 航空有机玻璃3外 形4mm～1200mm+0.0/-0.1mm4厚度公差±0.1mm5平行度10arc sec～3arc min面 型：l/10-l/46光 洁 度10/5-80/507通光孔径90%8镀 膜光学真空镀膜9表面缺陷标准依据标准MIL-PRF-13830B用两组数字表示表面缺陷大小10划痕以标准《MIL-O-13830》的表面质量划痕样板作为各级数划痕的比对标准11麻点以标准《MIL-PRF-13830B》麻点的级数取允许缺陷的实际直径，规定以1/100mm作为计量单位。如果麻点形状不规则，则取最大长度和宽度的平均值作为直径。12加工主要设备有光学研磨抛光机、光学精雕机、磨边机、光学真空镀膜机等设备

美国omega光学公司自1969年成立至今，专业于光学滤光片的研发和生产，在该领域内已取得成就与声誉，Omega公司多年来的一直致力于对产品的丰富完善，可以满足客户对不同波长范围、不同带宽精度、不同规格尺寸、不同应用领域等等一系列的细节要求，成为许多高质量用户的主要选择。现推出超大尺寸镀膜！大尺寸镀膜难以做到镀膜的均衡，omega光学现推出大尺寸镀膜可满足您的定制需求