脉冲收尘器

碎石场脉冲布袋除尘设备，是北京华康对碎石场的粉尘收尘一种除尘设备，碎石场除尘器具有处理风量大，清灰好，布局简单可靠，可以不停机更换布袋，一般1-2年更换一次布袋，除尘效率能够高。出口的粉尘溶度等于或低于30mg/m3n。碎石场脉冲布袋除尘设备结构：上箱体、下箱体、喷吹系统、卸灰系统、爬梯护栏等组成，其中上箱体包含检修门，并且在每个室都设有一个提升阀，用来切断过滤的粉尘，达到分室离线清灰，袋室内含有布袋、骨架。喷吹系统包含脉冲阀、气缸、气包、电磁阀等，排灰系统包含灰斗、卸灰阀等。碎石场脉冲布袋除尘设备工作原理：含有碎石粉尘的气体有进气口进入除尘设备，先经过斜板转向灰斗，这时气流的速度减慢，比较粗的碎石粉尘因为惯性和自然沉降的原因会落入灰斗内，较细的粉尘会随着气流而进入过滤室进行过滤净化后的气体有风机排出。除尘设备在工作一点时间后，清灰控制器会自动发出清灰信号，清灰时一个箱室的提升阀关闭以切断气源过滤气流，接着该室的脉冲阀开启，以高压的压缩空气喷吹净化室，脉冲阀开启3-5秒钟后提升阀重新打开，这时该室进入正常的工作状态中，这一室的清灰结束。间隔数秒后二箱室开始清灰，脉冲阀又重新一室的清灰动作。清灰工作时分室进行的，全部的过程都是由预先预定的程序控制的，清灰的时间是可以调控的。碎石场脉冲布袋除尘设备借鉴了各类除尘器的优点，并结合生产工艺的特点，技术人员开发研制的一种新型除尘设备。它克服了分室反吹动能不强的缺点，采用高压脉冲喷吹的清灰方式，具有清灰能力大速度快周期短的特点，因而提高了这种除尘器的收尘效率，增加了布袋的使用寿命，它不仅可以处理一般的含尘浓度的粉尘，还可以处理较高浓度的粉尘，收尘效率高。碎石场脉冲布袋除尘设备不仅应用在碎石场，还被普遍的应用到冶金、化工、粮食、建材等各行业中。了解更多碎石场脉冲布袋除尘设备详情浏览更多布袋除尘设备内容尽在

低压长袋脉冲除尘器的工作原理：主要由上箱体、中箱体、灰斗、进风均流管、支架、滤袋及喷吹装置、卸灰装置等组成，含尘空气从除尘器的进风均流管进入各分室灰斗，并在灰斗导流装置的导流下，大颗粒尘被分离，直接落入灰斗，而较细粉尘均匀地进入中部箱体被吸附在滤袋表面，干净空气通过进入上箱体，并经各离线阀和排风管排入大气。随着过滤工况的进行，滤袋上的粉尘越积越多，当设备阻力达到限定阻力值(一般设定为1500Pa)时，由清灰装置按差压设定值自动关闭一室离线阀后，按设定程序打开电磁脉冲阀，进行停风喷吹，利用压缩空气瞬间喷吹滤袋内压力剧增，将滤袋上的粉尘进行抖落至灰斗中，由排灰阀排出。 低压长袋脉冲除尘器具有处理风量大、清灰效果好、除尘、运行、维护方便、占地面积小的大型除尘设备。长袋离线脉冲除尘器广泛应用于冶金行业炼钢高炉、原料喷煤制备等工厂、建材行业、电力、化工行业、碳黑、沥青混凝土搅拌、锅炉、烟气除尘等行业的粉尘治理和物料回收。 　　　　低压长袋脉冲除尘器过滤工况： 含尘气体由中间进风道经分配进入各过滤单元的灰斗，粗尘粒在惯性和重力的作用下直接落入灰斗，细尘粒随气流转折向上进入过滤室，在滤袋表面尘饼的过滤作用下，粉尘积附在滤袋外表面，过滤后的气体由滤袋内侧进入上箱体，并汇聚到净气集合管—排风道，经系统风机排放到大气。低压长袋脉冲除尘器具有处理风量大、清灰效果好、除尘、运行、维护方便、占地面积小的大型除尘设备。广泛应用于冶金行业炼钢高炉、原料喷煤制备等工厂、建材行业、电力、化工行业、碳黑、沥青混凝土搅拌、锅炉、烟气除尘等行业的粉尘治理和物料回收。低压长袋脉冲除尘器主要结构特点：一、的进风均流管和灰斗导流技术，低压长袋脉冲除尘器解决了一般布袋除尘器常产生的各分室气流不均习的现象。二、设计了大储量的脉冲阀贮气包既可满足用户提供的高压（G型）气源时使用亦可满足低压（D型）气源时使用。三、低压长袋脉冲除尘器在袋笼的结构设计上可按不同工况有多种结构型式（八角型、圆型等的选择）对袋笼的制造有严格的要求，本公司的袋笼是在引进 技术合作生产的自动化生产线上加工，其各项指标较行业标准提高50%左右。四、低压长袋脉冲除尘器具有 的簿板型提升阀，离线三状态清灰机构，技术 、工作，清灰 。五、袋笼标准长度为3M，如用户场地有限，长袋离线脉冲除尘器还可根据需要增长1-2M，从而在处理相同风量时该设备较其它反吹风除尘器和常规脉冲除尘器占地面积小。可节省30—50%，设备重量亦能减少40%左右。六、滤袋上端采用弹簧涨圈型式，不但密封性能好，而且在维修布袋时简单，长袋离线脉冲除尘器实现了机外换袋。七、电磁脉冲阀采用 件，其易损件膜片的使用寿命大于l00万次。八、低压长袋脉冲除尘器控制采用 的程控器，具有差压、定时、手动三种控制方式，对除尘器离线阀，脉冲阀卸灰阀等实现 系统控制，如有要求并可对本体上的传感元器件如温度、料位等进行辅助报警控制。

脉冲单机布袋除尘器采用脉冲喷吹的清灰方式。具有清灰效果好、净化、处理风量大、滤袋寿命长、维修工作量小、运行等的优点。广泛用于冶金、建材、机械、化工、矿山等各种工矿企业非纤维性粉尘和工业粉尘的除尘净化与物料回收。HMC型单机脉冲除尘器采用（0.5-0.7MPa）大流量脉冲阀逐条滤袋喷吹清灰的技术，与国内其它单机相比，具有清灰动能大，清灰的特点。并且体积小，重量轻结构简单紧凑、安装容易、维护方便。脉冲单机布袋除尘器主要由过滤室、滤袋、净气室、灰斗、卸灰阀、脉冲喷吹清灰装置、电控箱组成，箱体全部采用焊接结构。检修门用泡沫胶条密封，除尘器严密不漏风。脉冲单机布袋除尘器属于机械抖动型除尘器，可以将气流中的粉尘以及颗粒进行收集和分离，主要采用机械振打方式进行清灰，该脉喷单机除尘器除尘器可配抛丸机，及砂机、粉碎机、筛砂机、混砂机等粉尘浓度较高的设备除尘，实践证明运行稳定，噪音小，除尘，操作维修方便。脉喷单机除尘器主要由外壳体、高压风机、过滤布袋、集尘抽屉、腹腔室、进风管、风道、电路装置等组成。HMC型单机脉冲除尘器基本结构由风机、过滤器和集尘器三个部分组成，各部件都安装在一个立式框架内，钢板壳体，烘漆防锈，运行，使用方便。脉喷单机除尘器风机采用离心风机，风量大，风压高，并采用消声措施，噪音小。过滤器采用扁布袋组，每个布袋内装有弹簧钢丝网，过滤效果好。清灰机构采用电动机带动偏心轮、连杆使布袋抖动而沾在滤袋表面的粉尘。脉冲单机布袋除尘器的结构特点：一、本体由壳体、滤袋总成、喷吹清灰装置、排灰装置四个部分组成。二、壳体部分由上箱体、中箱体、灰斗、进出风口组成。三、滤袋总成由滤袋、滤袋框架等组成。四、喷吹清灰装置由气包、喷吹管、脉冲阀、电磁控制阀、电控仪等组成。五、排灰装置由电机、减速器、螺旋输送机、星形卸料阀组成。六、脉冲阀I型采用直角脉冲阀，Ⅱ型采用直冲阀，减少了脉冲阀自身的阻力，是一种较为理想的脉冲喷吹方式。

脉冲布袋除尘器属于布袋除尘器的一种.布袋除尘器是一种高效的干式除尘设备，其除尘效果远远高于旋风除尘器和水膜除尘器，与静电除尘器相比也高出不少，是目前技术成熟使用方便应用广泛的新型除尘设施。布袋除尘器常用类型一般为脉冲布袋除尘器；气箱除尘器；圆形ZC反吹风扁布袋除尘器；长袋低压脉冲离线式清灰除尘器等。下面宁杰公司为大家详细介绍这几种除尘器的型号结构特点及清晰大图。详细说明产品名称：DMC型单机脉冲袋式除尘器详细介绍： 一、产品简介DMC型单机脉冲式除尘器是小型布袋除尘器。该除尘器采用高压(0.5～0.7MPa)大流量电磁脉冲阀逐条过滤布袋喷吹清灰的技术，与其它单机除尘器相比，具有清灰动能大，清灰效率高的特点。并且体积小，重量轻结构简单紧凑、安装容易，维护方便（外滤式），广泛用于建材、冶金、矿山、化工、非金属矿超细粉加工等行业含尘气体净化处理系统，是环保除尘的理想设备。二、工作原理含尘气体由进气口进入灰斗、式通过敞开法兰口进入滤袋室，含尘气体透过滤袋过滤为净气进入净气室，再经净气室排气口，由风机排走。粉尘积附在滤袋的外表面，且不断增加，使袋除尘器的阻力不断上升，为使设备阻力不超过1200Pa，袋除尘吕能断续工作，需定期清除滤袋上粉尘。 清灰是由程序控制器定时顺序起动脉冲阀，使包内压缩空气（0.5~0.7MPa)由喷吹管孔眼喷出(称一次风)通过文氏管诱导数倍于一次风的周围空气 (称二次风)，进入滤袋使滤袋在瞬间急剧膨胀，并伴随着气流的反方向作用抖落粉尘，附于袋表的粉尘迅速脱离过滤布袋落入灰斗（或灰仓），粉尘由卸灰阀排出，达到清灰的目的。三、主要技术参数除尘器性能、型号DMC-32DMC-48DMC-64DMC-80DMC-96DMC-112总过滤面积（平方米）243648607284过滤风速（m/min)1.04～1.671.15～1.621.21～1.741.25～1.671.27～1.621.28～1.68处理风量（立方米／h)1500～24002500～35003500～50004500～60005500～70006500～8500滤袋数量（条）3248648096112耗气量（立方米／min)0.0320.0480.0640.080.0960.11入口浓度（g/立方米n)200出口浓度（mg/立方米n)50喷吹压力（MPa)0.5～0.7承受负压（Pa)5000设备阻力（Pa)≤1200脉冲阀规格1"数量（个）468101214电机型号功率Y90S-2Y90L-2Y100L-2Y132S1-2Y132S1-2Y132S2-2（KW)1.52.23.05.55.57.5设备重量DMC(A)135016201850236028003200DMC(B)122014701670215025402880 咨询宁杰公司

清好duclean品牌单机除尘器AP系列，是一款智能型滤筒除尘器。采用了有别于传统脉冲除尘器的智能控制管理系统，可以实时检测自身运行状态，一旦出现异常状况会及时报警并根据情况自动停机。 清好duclean品牌滤筒除尘器脉冲除尘器AP产品特点1、多样的过滤器采用成型过滤筒，增加过滤面积的同时节省除尘器的空间；过滤器采用板式安装固定在卡板上，拆卸更换过滤器方便灵活。我们提供多种过滤材质的过滤器，可以应对多种工况下的不同类型粉尘。a) 标准过滤器，采用标准过滤材料，可以对应一般性干式粉尘；b) 阻燃过滤器，采用耐高温难燃过滤材料，过滤器在一定高温以及火花的情况下不容易燃烧。c) 防水过滤器，采用特殊的拒水性过滤材料，可以有效过滤含有水分的粉尘；d) 防静电过滤器，采用导电过滤材料，可以有效将粉尘携带的静电及时导走，防止静电累积引爆粉尘；e) 超细覆膜过滤器，也称PTFE热覆膜过滤材料，能够过滤0.3微米颗粒的粉尘，大大提升过滤精度；f) 防静电覆膜过滤器，采用导电涂层+PTFE热覆膜双重性能的过滤材料，能够同时除静电及高精度过滤，适用于碳粉等特殊粉尘。 2、智能型清灰我们采用了有别于传统模式的清灰方式，既能更有效地及时清灰，还能大幅节省压缩空气使用量，两者具体区别如下：清灰方式传统脉冲清灰清好智能清灰工作原理除尘器一旦启动，就按照脉冲设置时间定时抖尘。除尘器启动后，智能检测过滤器压差数据，达到设置压差值时才会开始抖尘。用户还可以通过控制面板手动临时清灰，方便灵活。节能效果不管是否需要抖尘，脉冲抖尘一直循环运作，浪费压缩空气。智能检测压差数据，按需启动抖尘功能，节约压缩空气用量，更节能。过滤器寿命脉冲抖尘持续循环动作，对过滤器材料冲击的次数更频繁，过滤器寿命相对于智能型抖尘缩短约三分之一。智能检测按需抖尘，同样的开机时间内，抖尘次数减少，过滤器的使用寿命相对于传统脉冲除尘增加约三分之一。 3、涡轮风机采用自主设计并开模生产的涡轮式风机，具有大风量、高静压、低噪音的特点，使除尘器性能更优越。 4、智能控制系统除尘器配备的智能控制系统同样为自主开发设计，具有智能化程度高、实现功能多、集成体积小的特点。a) 控制系统通过监测运转电流、压差等数据实时监控除尘器的运行状态，一旦出现诸如启动电流异常、运行压差异常等情况及时报警甚至停机。b) 控制面板采用液晶屏显示与软触摸按钮，实时显示除尘器的电流、压差、运行时间、控制模式等信息，一目了然；操作者也可以通过软触摸按钮了解更多信息以及更改设置参数等（除尘器在出厂时已经默认设置好参数，客户除非需要实现某些特殊功能，否则建议不要更改默认设置参数）。c) 控制模式多样，除尘器提供面板控制、远程控制以及联动控制三种常用模式，方便客户根据使用需求灵活控制。d) 异常报警及数据记录，除尘器发生异常情况，显示屏会及时报警，并且一旦触发停机设置便会自动停机，控制系统会记录下相应异常信息，操作者可以通过控制面板查阅异常记录排出异常情况。 应用领域搅拌工艺、粉末投入工艺、电路板加工、装袋作业、金属加工、打磨抛光加工、切削加工、粉碎加工、雕刻加工等

仪器简介：Neocera公司的使命是为研究新型先进薄膜材料和器件的科学家和工程师提供服务。我们通过以下手段来实现此目标： l 发展在材料科学和器件工程方面的基础竞争力 l 在薄膜制造方面，提供最先进的脉冲电子束镀膜（PED）和脉冲激光镀膜（PLD）设备 l 提供卓越的技术支持 l 参与共同的研究与开发 Neocera公司是一家PED 和PLD设备的增值供应商。在PED 和PLD科学和技术的前沿方面，我们提供最先进的解决方案；我们的设备和实际经验将帮助解决你们的问题。 另外，Neocera公司参与政府部门和工业客户的前沿的研究与开发；作为材料科学家，我们了解你们的需要。技术参数：一、 PED-120系统的技术指标 l PEBS-20脉冲电子源和电源 l 真空腔：直径12" Ø 额定基压：1x10-6 Torr l 基片加热器，直径2"，带控温器 Ø 氧气可达大气压力 Ø 最高温度：950 ° C Ø 温度均匀性：± 5 ° C Ø 温度稳定性：± 1 ° C Ø 基片加热器档板 l 靶盒，手动控制 Ø 可放置6个1"的靶或3个2"的靶 Ø 靶与法兰的距离：4" l 气路 Ø 质量流量计控制进入真空腔的流量，量程100sccm Ø 控制采用单通道设置/数值显示 l 真空泵系统 Ø 260 l/s 带冷阱的涡轮分子泵，高真空泵 Ø 4 m3/hr无油机械泵 Ø 8"闸板阀，手动控制 Ø 排气/出气阀，用于氧气的安全操作 l 真空计，显示读数 Ø 冷阴极型 Ø 对流型 l 系统框架 Ø 占地面积：22&rdquo W x 34&rdquo D Ø 空间： 30&rdquo W x 34&rdquo D Ø 总高度： 54"-58" Ø 标准19"电子元件安装架 Ø 脚轮和水平调节器 l 电源 Ø 110-240 VAC/50 Hz, 20 A，单相 二、PEBS-20脉冲电子源系统的技术指标 组成： l PEBS-20脉冲电子源 l 电源 l 电子控制系统 l 预装软件的控制计算机 技术指标： 电压：115-230 VAC, 50/60 Hz, 单相 氧气压力：5-20 mTorr 电子能量：8-20 kV 单次脉冲能量：0.1 &ndash 0.8 J 脉冲能量偏差（Max）：± 10% 能量转换效率：25-30% 脉冲持续时间：~100 ns 脉冲重复速率（Max）：15 Hz 电子束斑面积（Min）：6 x 10-2 cm2 电子束斑面积偏差（Max）：± 20% 脉冲能量密度（Max）：1.3 x 108 W/ cm2 Z轴移动距离：50 mm XY轴移动距离：± 20 mm 工作寿命：107 次脉冲 PEBS源的工作温度（Max）：85 ° C主要特点：脉冲电子束沉积（PED）的特点 与CW技术相比，例如传统的电子束蒸发，脉冲系统的主要特点是可以在靶材表面上 产生最高达108W/cm2的高能量密度。因此，靶材的热动力学特性比如熔点和比热等 在蒸发过程中就变得不重要了。这一点对复杂的、多组分材料特别具有优势。与脉 冲激光沉积（PLD）相比，脉冲电子束沉积（PED）技术提供了独一无二的平台，在 一系列具有重要技术价值的基片上沉积复杂材料的薄膜，其独特的优点在于扩展了 材料的范围和应用。这种方法在大批量生产中可以大规模应用且成本低廉。

无焰泄爆装置主要用于室内粉尘暴炸的防护，无其它运行，安装简便，无需安装泄压导管。无焰泄放装置由两部分组成，防爆板和灭火模块。防爆板对压力快速升高作出反应，立即打开以泄放压力。当膨胀的火球通过打开的防爆板时，被灭火模块拦截。有框架支撑的不锈钢网丝发挥三维火焰捕捉作用，扑灭火焰。灭火模块消除爆燃的火焰、降低热气体温度，以及捕捉通过开启的防爆板的燃烧和未燃烧的粉尘。脉冲除尘器泄爆装置 粉尘防爆泄爆阀 世纪行更多安装和技术咨询：世纪行 【甘工】除尘器泄爆装置 防爆泄压安全阀参数：静开启压力：0.01MPa。材质：碳钢/304不锈钢。无需特殊维护。可提供在线维修结构，无需拆卸接口即可完成泄暴片更换和阻火元件的清洗。法兰接口可定制。可选信号输出装置，实时监控产品的工作状态。符合EN16009标准，通过标准测试。提供多种形式的无焰泄放结构，满足不同工况需求。除尘器泄爆装置 防爆泄压安全阀特点：1.有效阻止火焰和热量，为设备、建筑物和流动人员提供安 全的场所；2.有效收集粉尘-对环境没有污染；3.不锈钢材质设计，适用于食品和医药行业；4.高 效的和可 靠的系 统设计；5.安装简单、免维护操作；6.免除高的建筑物改造；7.经济有利的解决方案；8.符合EN16009标 准(Flameless explosion venting devices)除尘器泄爆装置 防爆泄压安全阀功能：1.火焰捕捉 – 任 何火焰都不能逃脱，提供安 全的操作环境。2.消 除外部二次点火及其可能引起的连续暴炸对设备的危害性。3.粉尘滞留 – 捕捉加工物质，消 除潜在的有害物质进入环境中。4.消 除高压- 缓冲暴炸压力峰值，保护人员和周围环境，包括建筑物，不受暴炸压力的威胁。5.温度控制 – 吸收火球，但周围环境温度几乎不升高。除尘器泄爆装置 防爆泄压安全阀工作原理：火焰在通过网状阻火元件时，阻火元件与火焰进行热交换，迅速将高温火焰冷却，泄放压力和烟气，保-证火焰不被传播，进而造成二次暴炸或多次暴炸，同时，生产设备产生的压力波或噪音也会降低程度。工业生产中，无焰泄暴装置与隔爆阀的组合使用不但有效防止压力波和火焰传播到上游车间的生产场地，而且遏制了二次暴炸事故的发生，降低了财产损失和保护了人员安全。除尘器泄爆装置 防爆泄压安全阀适用范围：应用在粮食、冶金、化工、电力、轻工、制药、烟草、机械加工、固体废弃物处理等行业。应用的设备有旋风分离器、布袋除尘器、粉尘收集器、滤筒过滤器、气力输送、棒式或球磨机、斗式提升机、干燥和烘箱、辊轧研磨、建筑物等。用于阻止爆炸火焰和压力在工艺设备管道间传播的机械式设备我司主营：无焰泄爆装置、隔爆阀、管道火花探测器、进、出口压差，粉尘浓度，布袋除尘检漏仪，粉体流量计等安防产品，可提供安装和技术咨询

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

产品简介脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。在靶材上的非平衡提取（烧灼）能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。产品特点* 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED* 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格* 氧化物薄膜沉积时氧气兼容* 升级选项：离子辅助PED, 连续组份沉积PED, 进样系统load-lock* 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/ 直流溅射* 集成XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统脉冲电子束沉积系统PED沉积的代表性材料示例* 高温超导(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜* 顺电(Ba-SrTiO3) 薄膜* 金属氧化物(SrRuO3) 薄膜* 隔热/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3 膜* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜技术指标真空腔18" 直径的球形腔体8"CF 窗口6.75"CF PED 源窗口3 个6"CF 窗额外的2.75" 与1.33"CF 窗口PED源电子枪能量：8-20 keV脉冲能量：最大能量800 mJ最小能量100 mJ工艺气体压强: 3-20 mTorr工艺气体: 氧气，氮气，氩气脉冲能量变化: ±10%脉冲宽度: 100 ns最大重复率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV最小束截面: 8 x10-2 cm2最大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2Z 向对准范围: 50 mmXY 向对准范伟: +/- 20 mm火花塞寿命 ~3x107 脉冲基片加热器最大直径2"，最小10x10mm2最高温度：850 ℃基片旋转：1-30 RPM（360° 旋转）基片加热器：兼容1 个大气压的氧压加热器温度通过可编程的PID 控制多靶材旋转台6 个1" 的靶材或3 个2" 的靶材靶材旋转：360° 连续旋转(1-20 RPM)靶材栅格式扫描独特的靶材栅格化烧蚀方案靶材索引，镀多层薄膜靶材高度可调靶材挡板避免靶材间的交叉污染提供连续组成扩展/ 组合PED 的能力PED系统软件Windows 7, LabVIEW 2013控制基片加热台控制靶材公转台控制真空泵控制质量流量计?外部的PED 源触发器可选的工艺自动化选项真空泵干泵，涡轮分子泵本底真空压强：标准配置8 x 10-8 Torr涡轮分子泵转速由软件控制

脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。在靶材上的非平衡提取（烧灼）能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。产品特点* 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED* 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格* 氧化物薄膜沉积时氧气兼容* 升级选项：离子辅助PED, 连续组份沉积PED, 进样系统load-lock* 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/ 直流溅射* 集成XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统脉冲电子束沉积系统PED沉积的代表性材料示例* 高温超导(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜* 顺电(Ba-SrTiO3) 薄膜* 金属氧化物(SrRuO3) 薄膜* 隔热/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3 膜* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜技术指标真空腔18" 直径的球形腔体8"CF 窗口6.75"CF PED 源窗口3 个6"CF 窗额外的2.75" 与1.33"CF 窗口PED源电子枪能量：8-20 keV脉冲能量：最大能量800 mJ最小能量100 mJ工艺气体压强: 3-20 mTorr工艺气体: 氧气，氮气，氩气脉冲能量变化: ±10%脉冲宽度: 100 ns最大重复率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV最小束截面: 8 x10-2 cm2最大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2Z 向对准范围: 50 mmXY 向对准范伟: +/- 20 mm火花塞寿命 ~3x107 脉冲基片加热器最大直径2"，最小10x10mm2最高温度：850 ℃基片旋转：1-30 RPM（360° 旋转）基片加热器：兼容1 个大气压的氧压加热器温度通过可编程的PID 控制多靶材旋转台6 个1" 的靶材或3 个2" 的靶材靶材旋转：360° 连续旋转(1-20 RPM)靶材栅格式扫描独特的靶材栅格化烧蚀方案靶材索引，镀多层薄膜靶材高度可调靶材挡板避免靶材间的交叉污染提供连续组成扩展/ 组合PED 的能力PED系统软件Windows 7, LabVIEW 2013控制基片加热台控制靶材公转台控制真空泵控制质量流量计?外部的PED 源触发器可选的工艺自动化选项真空泵干泵，涡轮分子泵本底真空压强：标准配置8 x 10-8 Torr涡轮分子泵转速由软件控制

美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-180 Neocera P180 脉冲激光沉积系统 • Neocera 在 PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验• Pioneer 系列 PLD 系统是全球研发领域广泛使用的商业化系统• Neocera 不仅为客户提供基本的 PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案 PLD 实验室交钥匙方案 脉冲激光沉积系统（PLD）一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法 PLD 是一种复杂材料沉积的有效方法脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到 10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种 “ 数字 ” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（?/pulse）。 Neocera Pioneer 系列 PLD 系统 — 基于优秀经验的创新设计 Neocera 利用 PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得 优秀 薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于 Pioneer 系统的设计之中。 • 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（100 Torr）下冷却可获得好的质量。所有 Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为 45°，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有 Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得优秀薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行控制。 技术参数： 。作为完整 PLD 实验室解决方案供应商，我们还可提供：248nm 激光器（准分子、固体等），气体柜，激光。器和光学器件桌，以及光学器件等。• 带 * 的项目均可客户化。• 上述技术指标如有变更，恕不另行通知，详情见具体报价描述或者咨询销售工程师。 离子辅助沉积 ( IBAD )高性能的离子辅助沉积系统离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。 无定形和多晶衬底上单个类单晶薄膜的沉积 离子辅助PLD沉积原理示意图 结果和最佳理论值吻合 连续组成扩展 ( CCS )连续组成扩展功能（CCS）可在单次沉积中沉积很多不同组分的材料，大大缩短了沉积不同组分材料合成新材料的时间，实现合成材料组分的优化。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料，没有必要使用掩模。可以在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是类似于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是非常有帮助的。Neocera 公司PLD 系统可在同一个系统上实现带有连续组成扩展功能（CCS-PLD）和标准型 PLD 功能。 PLD-CCS 三元连续组分扩散 PLD 原理示意图 三元模拟相图 In-Sn-Zn 氧化物相图解 激光分子束外延 ( Laser MBE )激光 MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数RHEED 通常在高真空（10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要的，维持 RHEED 电子枪的工作压力，同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统，比如超高真空激光衬底加热器，用于集成原位分析系统（XPS/ARPERS 等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。 激光 MEB 原理示意图 激光 MBE 计算机上的 RHEED 图案 RHEED 强度震荡曲线 脉冲电子束沉积系统（PED）：PED-180 脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近 1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取（烧灼）使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在优秀条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用 PED 技术沉积各自的薄膜。 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统 PED• 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格• 氧化物薄膜沉积时氧气兼容• 升级选项：离子辅助 PED, 连续组份沉积 PED, 进样系统 load-lock• 可附加的沉积源：脉冲激光与射频 / 直流溅射• 集成 XPS/ARPES UHV 集群系统，原位高真空基片传送系统 PED 沉积的代表性材料示例• 高温超导 (HTS) YBCO( 和 GdBCO) 薄膜• 顺电 (Ba-SrTiO3) 薄膜• 金属氧化物 (SrRuO3) 薄膜• 隔热 / 音玻璃 (SiO2) 膜和 Al2O3 膜• 聚四氟乙烯 (PTFE) 薄膜 PED-180 系统的技术指标

脉冲选择器/脉冲选择系统/脉冲拾取器所属类别： ? 调制器 ? 电光调制器/电光Q开关 所属品牌：美国ConOptics公司 脉冲选择器产品简介应用最广的飞秒脉冲选择系统(激光降频装置) 关键字：脉冲选择器,脉冲选择系统,脉冲拾取器,激光降频器,激光降频装置,Pulse selection,pulse picker Conoptics公 司生产的脉冲选择器，在其成熟的光电调制器产品系统上，添加了信号同步系统，此款脉冲选择器更加适合在钛宝石飞秒激光器脉冲选择中使用，也使得作为光脉冲 选择系统更加便捷——只需在相应刻度盘上选择就可达到相应脉冲选择需求，此款脉冲选择器系统就可自动快捷实现脉冲选择。此款脉冲选择器系统最可实现0-80Mhz重频可调。（此款脉冲选择器系统最高可实现0-100Mhz重频可调） 脉冲选择器重点参数： 脉冲选择器效果示意图： 分享到 : 人人网 腾讯微博 新浪微博 搜狐微博 网易微博 脉冲选择器相关产品 ConOptics低压电光调制器 激光脉冲选择器（控制电路） 用于双光子显微镜的电光调制器系统 铌酸锂(LiNbO3)电光强度调制器 铌酸锂(LiNbO3)偏振开关/偏振切换器

该系统为球形脉冲激光沉积系统（PLD）工艺研发设备。脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition, PLD），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。1、环境温度：10℃～35℃2、相对湿度：不大于75%3、供水：水压0.2MPa～0.4MPa,水温15℃～25℃4、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。产品名称球形脉冲激光沉积系统（PLD）安装条件1、环境温度：10℃～35℃2、相对湿度：不大于75%3、供电电源：220V、单相、50±0.5 Hz4、设备功率：小于4KW 5、供水：水压0.2MPa～0.4MPa,水温15℃～25℃，6、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。主要参数1、系统采用真空室为球形结构，手动前开门2、真空室组件及配备零部件全部采用优质不锈钢材料制造（304），氩弧焊接，表面采用喷玻璃丸+电化学抛光钝化处理3、真空腔室有效尺寸为Φ300mm,配有可视观察窗口4、极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后，采用600L/S分子泵抽气，前级采用8L/S)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气到8.0x10-4 Pa，40分钟可达到； 停泵关机12小时后真空度：≤20Pa5、样品台：样品尺寸φ40mm，转速1-20RPM，基片台与转靶距离40～90mm6、样品加热最高加热温度：800℃，温控精度：±1°C，采用控温表进行控温7、四工位转靶：每个靶位φ40mm,挡板只露出一个靶位，激光束要求打在最上面靶位，转靶具有公转、自转功能8、真空室内设置烘烤、照明、水压报警装置9、MFC一路质量流量计控制进气 ：0-100sccm

飞秒脉冲压缩器飞秒脉冲压缩器通过光谱展宽和时间压缩两步简单过程实现对激光脉宽的压缩，从而得到稳定性强的频谱。脉宽压缩器可缩短任何工业激光器的脉冲，与不同的工业激光系统兼容。 飞秒脉冲压缩器简介：单级多通光谱展宽和压缩单元与任何重复率和脉冲激光系统兼容，稳定的 24/7 运行，与现有激光系统的简单集成，无有源光学元件，没有机械运动部件，无需维护，可在恶劣的环境中运行（例如灰尘或振动）。 飞秒脉冲压缩器主要应用：超快泵浦探测光谱 高次谐波和 XUV 生成 阿秒脉冲产生电光采样 超宽带红外辐射产生 非线性显微镜三光子显微镜 汽车显微镜 双光子显微镜二次谐波产生 (SHG) 显微镜 表面微纳米结构激光光刻 玻璃加工 多光子聚合 飞秒脉冲压缩器型号分类：一、飞秒脉冲压缩器单级单元 MIKS1_S 飞秒脉冲压缩器单级单元 MIKS1_S特点：高达 10 倍的短脉冲 (45 fs)从 1 μJ 到 100 μJ 输入能量平均功率超过 100 W超过 90% 的传输占地面积小：36 x 22 cm2可调光束高度：90 mm二、飞秒脉冲压缩器单级单元MIKS1_M 飞秒脉冲压缩器单级单元MIKS1_M特点：高达 10 倍的短脉冲 (45 fs)从 100 μJ 到 300 μJ 输入能量平均功率超过 100 W超过 90% 的传输占地面积小：36 x 27 cm2可调光束高度：90 mm三、飞秒脉冲压缩器单级单元MIKS1_L 飞秒脉冲压缩器单级单元MIKS1_L特点：高达 10 倍的短脉冲 (45 fs)从 300 μJ 到 1 mJ 输入能量平均功率超过 100 W超过 90% 的传输占地面积小：90 x 20 cm2可调光束高度：115 mm四、飞秒脉冲压缩器双级单元 MIKS12 飞秒脉冲压缩器双级单元 MIKS12特点：高达 30 倍的短脉冲 (15 fs)从 50 到 300 μJ 输入能量平均功率超过 100 W超过 90% 的传输占地面积小：76 x 39 cm2可调光束高度：105 mm 关于昊量光电：昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延 超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

脉冲激光沉积系统-PLD型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源，最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等

仪器简介：Ion Beam Assisted Deposition (离子辅助沉积) 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术 高性能的IBAD(离子辅助沉积)系统 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera开发了离子辅助的PLD系统，该系统将PLD在沉积复杂材料方面的优势与IBAD能力结合在一起。得到无人伦比的技术专家知识的支持Neocera离子辅助的PLD系统会得到重要应用经验的支持。系统开发结合了Neocera的工程和工艺经验，保证了最大的用途和工艺性能。 利用离子辅助的PLD, Neocera在柔性多晶yttria稳定的YSZ基片上，开发了具有下列性能的双轴结构的YBCO薄膜： l X-ray F-scan full width at half maximum of ~7° l 转变温度Tc在88-89K，转变宽度DTc约为约为0.5 K l 77 K零场强时，临界电流密度Jc范围 1.5&mdash 2x106 A/cm2 l 77 K时，磁深入深度l: 284nm l 77 K，10G时，表面电阻Rs等于700mW Continuous Composition Spread (连续组成扩展) 一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS)方法。 经济的组合合成 组合合成是材料科学中最激动人心的最新进展。在一次镀膜实验中，生产多种不同材料组成的能力，大大的提高了获得具有期望材料性能的最佳组成的速度。然而，现有组合合成系统的高成本对绝大多数研究预算来说都是不切合实际的。 得到Neocera PLD经验的支持 Neoceora已经应用我们丰富的PLD和开发性能可靠的经济型设备的经验，发明了PLD-CCS(脉冲激光沉积-连续组成扩展)系统。PLD-CCS受益于多层薄膜沉积的方便性和PLD工艺能在基片上改变二元，假二元，或三元体系的组成这一固有特性。 常规沉积条件下的组合合成 PLD-CCS能以连续的方式，而不是间隔的方式改变材料，没有必要使用掩模。这就允许在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。事实上，该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。 Laser MBE (激光分子束外延) 一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，PLD和原位高压RHEED的结合， 为单分子水平上的薄膜生长提供了精确控制。 使用激光MBE是纳米技术研究的理想工具 激光MBE是普遍采用的术语，定义了高真空下的PLD与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用。该法为用户提供了类似于MBE的薄膜生长的单分子水平控制。随着更多的PLD研究受到纳米技术的驱动，激光MBE变得对用户更加有益。 正确的设计是成功使用RHEED和PLD的重要因数 RHEED通常在高真空（10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD采用较高的压力，差动抽气是必要的，维持RHEED枪的工作压力，同时保持500 mTorr的PLD工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。 Neocera的激光MBE系统为用户在压力达到500mTorr时所需的单分子层控制。技术参数：一种用途广泛的、用于薄膜沉积和合成纳米结构和纳米粒子的方法。 PLD是一种复杂材料沉积的创新方法 激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种&ldquo 数字&rdquo 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A° /pulse）。 Neocera Pioneer系列 PLD系统 &mdash 基于卓越经验的有效设计 Neocera利用PLD开展了深入广泛的研究，建立了获得最佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于Pioneer系统的设计之中。 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer系统设计的工作压力范围从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。 Pioneer PLD系统的激光束的入射角为45° ，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除担心油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer系统的标准配置都采用无油泵系统。 所有的系统都可以按完整PLD实验室的方式获得，包括248nm激光器，激光气体柜，激光和光学器件台，光学器件包。 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行最大的控制。主要特点： Pioneer240 Pioneer180 Pioneer120 Pioneer80 最大wafer直径 4&rdquo 2&rdquo 1&rdquo 0.5&rdquo 最大靶材数量 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个2&rdquo 4个1&rdquo 压力(Torr) 10-8 10-6 10-6 10-6 真空室直径 24&rdquo 18&rdquo 12&rdquo 8&rdquo 基片加热器 4&rdquo ，旋转 3&rdquo ，旋转 2&rdquo ， 平板 1&rdquo ，平板 最高样品温度 850 ° C 850 ° C 950 ° C 950 ° C Turbo泵抽速 （liters/sec） 800 260 260 70 计算机控制 包括 包括 包括 包括 基片旋转 包括 包括 - - 基片预真空室 包括 选件 选件 - 扫描激光束系统 包括 选件 - - 靶预真空室 包括 - - - IBAD离子束辅助沉积 选件 选件 选件 - CCS连续组成扩展 选件选件 - - 高压RHEED 选件 - - - 520 liters/sec 泵 a/n 选件 - -

商品名称：脉冲除尘二流体喷雾干燥机产品型号：YM-10LMC本站价格：428000 商品品牌：豫明品牌YM-10LMC型二流体喷雾干燥机一、工作原理空气通过过滤器和加热器，进入干燥室顶部的热风分配器，热空气呈螺旋状均匀地进入干燥室。料液经过过滤器，由泵送到在干燥室顶部的离心喷雾头，被喷成极小的雾状液滴，以极大的表面积与热空气接触，水份迅速蒸发，在极短的时间内干燥成颗粒制品，在塔底和旋风分离器中捕集湿废气由风机排至室外。二、特点及应用1、干燥速度快，料液经二流体喷雾，表面积大大增加，在高温气流中，瞬间就可蒸发95-98%水份，完成干燥时间仅需数秒钟。2、适用于热敏性物料。由于液滴与热风并流方向流动，虽然热风的温度较高，但物料在水份蒸发时不会过热。3、使用范围广。大批物性差异很大的物料都用此生产。如聚合物和树脂类；染料、颜料类；陶瓷、玻璃类；除锈剂、杀虫药类；碳水化合物类；乳制品类；血和鱼制品类；肥料类；有机、无机化合物类；等等。4、产品具有良好的分散性，流动性和溶解性。这是由于在瞬间完成干燥，产品能保持均匀的细小粒状。5、生产过程简化，操作控制方便。对于湿含量40-60%（特殊物料可达90%）的溶液能一次干燥成粉状产品，干燥后不需要再进行粉碎和筛选、减少了生产工序，提高了产品纯度。对于产品的粒径、松密度、水份，在一定范围内，可改变操作条件进行调整，控制、管理都很方便。三、主要技术参数◆彩色大触摸屏操作，全自动控制和手动控制相结合，中英文面板，参数液晶显示。◆实时调控PID恒温控制技术，控温准确，加热控温精度±1℃。◆喷雾、烘干及收集装置采用双镜面优质304不锈钢材质制造 ，喷雾干燥室设有观察口。◆离心喷雾的雾化结构，喷粉的颗径呈正态分布，流动性好。◆进料量可通过进料蠕动泵调节。◆特有保护功能，风机不启动，加热器不能启动。◆配备进风口过滤，以确保样品纯净。◆配备出风脉冲过滤器触摸屏可设置1-9999秒脉冲一次防止过滤器堵塞，提高样品收集率排放口空气纯净。◆干燥后的产品，颗粒度均匀，95%以上的干粉在同一颗粒度。1、入口温度≤30-300℃2、出口温度＜30～140℃3、水份蒸发量200-10L/h4、二流体喷头1.5mm5、热源：电6、电加热功率36kw，总功率：42kw7、外形尺寸长×宽×高（mm）：3000×1400×3500、干粉回收≥98%8、七寸触摸屏操作、操作便捷9、特有保护功能，风机不启动、加热不能启动、风机风量大小可调。四.配制说明序号名称规格材质数量1YM-10LMC喷雾干燥机3000×1400×3500不锈钢12塔体Φ1300×直筒1600不锈钢13二流体喷头雾化器Φ每小时10kg不锈钢14空压机/振动气锤配套不锈钢35旋风分离器Φ300不锈钢16蠕动泵0.2－12L/h-0.55kw不锈钢17引风机4kwQ235A钢18电加热器36kw不锈钢19空气过滤器配套不锈钢110电器控制箱PLC，10寸触摸屏不锈钢111进出风温度探测仪配套不锈钢212送风管道配套不锈钢1套13收料筒10L不锈钢1只14筒体保温层50mm保温棉15支架60*60mm不锈钢116脉冲除尘器 布袋/不锈钢龙骨不锈钢1套

1.产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它独特的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比，脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程，因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜，非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜，显示出了诱人的应用景。3.真空室结构:球形开门真空室尺寸:φ450mm限真空度:≤6.67E-6Pa沉积源:φ2英寸靶材，4个样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动

脉冲激光沉积系统PLD-400是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备,该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。脉冲激光沉积系统PLD-400标配6个1inch靶材,靶材可以原位更换,配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。晶圆尺寸：2 inch极限真空：5×10-9mbar温控：RT-1200°C靶台数量：6个1inch 靶材，公自转设计激光源：可选准分子激光器可选：低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等

1. 产品概述脉冲激光沉积镀膜机PLD 系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2. 设备用途脉冲激光沉积镀膜机PLD 是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质。3. 技术参数基片尺寸：8inch（可向下兼容）加热温度：1000℃ 加热方式：辐射加热靶材：3*4”真空度：5*10-7Pa气路系统：氧气、氮气、氩气模块：PLD+进样室激光窗口：配有闸板阀光路系统：激光扫描功能4. 企业简介深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

仪器简介：PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。我们PLD系统拥有最好的性能价比,具有以下优异的性能:主真空室腔体直径18英寸，本底真空可达高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵★基片加热温度最高可达1000℃。基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。 8个装1英寸靶的坩埚（或靶盘），各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.★ Dual Load Lock System, 两次装样-送样系统，高效保证传片精准设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。感谢上海交通大学 使用此研究级高性能的PLD系统（购买5套）， 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助！！具体配置:一， 超高真空腔体二， 分子泵三， 激光扫描系统四， 衬底加热铂金片，最高可达1200度五，基板加热构造设计六， 基板加热电源七， Rheed八， Rheed软件九， 多靶位 ，标准配置6个1英寸靶十，Load-Lock样品传输腔体技术参数：一， 靶。数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制。二， 基板。采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。三， 基板加热电源。四， 超高真空成膜室腔体。不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 pa。五， 样品传输室。不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa。六， 排气系统。分子泵和干式机械泵，进口知名品牌。七， 阀门。采用超高真空挡板阀。八， 真空检测。真空计采用进口产品九， 气路两套。采用气体流量计（MFC）。十， 薄膜成长监控系统。采用扫描型Rheed（可差分抽气）。十一， 监控软件系统。基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换。十二， 各种电流导入及测温端子。十三， 其它各种构造各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等。另外我公司注重发展和销售大面积的PLD 系统和电子束蒸发器和溅射沉积。目前，公司提供以下物理气相沉积系统和元件产品：? 大面积脉冲激光沉积系统? 脉冲激光沉积元件包括靶材操纵器和智能窗? 电子束蒸发系统? 磁控和/或离子束溅射系统? 组合沉积系统? 定制的基底加热器产品具有如下基本特点：1. 系统可根据客户的特殊要求设计，操作简单方便。可使用大尺寸靶材生长大面积薄膜，基底的尺寸直径可从50mm 到200mm2. 电抛光腔体，主腔呈方形，其前部是铰链门，方便更换基底和靶材3. 双轴磁性耦合旋转靶材操纵器，可手动或计算机控制选定靶材。磁力杆传送基底到基底旋转器上，可手动或电动降低旋转器，实现简单快速地更换4. 主腔室预留备用的腔口，如用于观察靶材和基底，安装原子吸收或发射光谱仪、原位椭偏仪、离子枪或磁控溅射源、残留气体分析器和离子探针或其他的元件等等5. 系统使用程序化的成像链(Optical Train) ，包括聚焦透镜、反射镜台、动力反射镜支撑架和智能视窗等，无需频繁地校准光学组件。在激光通过大直径靶材时可使其光栅扫描化（rastering），以获得均匀性的薄膜。智能视窗不仅可精确监视沉积过程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可长时间保持激光束光路的清洁6. 系统使用特有的黑体基底加热设计，高温下（950°C）可与银胶兼容使用 根据PLD 客户的不同需求，提供以下型号：1．NANO PLD2．PLD 30003．PLD 50004．PLD 80005．PLD T100其中NANO PLD 系统简单、紧凑，具有多种功能，非常适合小型的研发实验室，大面积 PLD 系统包括PLD 3000，PLD5000，PLD8000 非常适合于大的公共机构，政府实验室和国防机构的研发和试制生产。PLD T100 系统也就是高温超导带涂层系统非常适合于生产高温超导带和线缆，目前已有两套系统卖到日本知名的国际超导产业技术研究中心超导工学研究所（SRL-ISTEC），而且在高温超导线缆中获得了记录电流密度，创高温超导线材创新记录。 大面积PLD 的每个系统的具体一些参数如下：系统最大基底尺寸靶材数目靶材尺寸最大基底温度温度的均匀性靶材和基底之间的最大距离Nano-PLD2 inches (50 mm)32 inch (75mm)850°C/950°C±4°C100mmPLD30003 inches (75mm)34 inch (100 mm)850°C/950°C±3°C127mmPLD50005 inches(125mm)36 inch (150mm)850°C/950°C±4°C152mmPLD80008 inches(200mm)312 inch(300mm)750°C/800°C±7°C203mm这些型号的设备适用于以下的客户群：1) 高温超导研发-----合成新的高温超导材料或者微调高温超导材料2) 高温超导工业研发-----高温超导线缆和带沉积，移动通信的微波过滤器，电力分配网的错误电流限制器，超导磁能存储器(SMES)，超导量子干涉磁量仪元素制作，超导电子配件，磁共振成像应用，磁悬浮如火车3) 铁电材料和设备-----使用大面积的PLD 研发4) 电-光和光学材料-----电镀铬材料，电-光材料如PLZT, BST 等5) 电介材料---如AlN 薄膜6) 硬质薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜7) 透明导电氧化物 (TCO) 沉积8) 测辐射热敏元素生产商----用于热跟踪的热探测，热成像，热度量衡等9) 制备新材料特别是功能陶瓷10) 制备纳米粒子11) 基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)聚合物薄膜12) 制备用于MRAMs 和录音磁头上GMR 的铁磁材料等

PLD技术在薄膜制备方面的优势和特点:脉冲激光沉积技术是目前火热薄膜制备技术, 利用PLD技术制备薄膜具有很好的可控性和可设计性, 可通过控制材料成分、激光能量密度、气压、气体、基底材料、沉积角度等, 来实现薄膜的各种功能和结构. 另外, PLD 可以在室温下进行沉积 然而, 目前PLD还有一些技术和工程上的难题需要解决, 例如, PLD会出现相爆炸等效应, 引起大颗粒飞溅, 从而增大薄膜的表面粗糙度, 降低薄膜质量 另外, 大面积均匀沉积也是目前PLD实现大规模工业化生产的一大瓶颈 芬兰Pulsedeon的ColdAb技术基于皮秒, 飞秒短脉冲激光薄膜沉积技术, 可从源头遏制引起薄膜不均匀的微粒及飞溅效应, 且配合独特的设计和功能配置, 从而被证实在制备大面积高质量薄膜方面有优势, 且可实现全自动产业化.凭借这些技术特点, Pulsedeon受邀成为欧盟LISA锂硫电池, PulseLion全固态电池项目中PLD薄膜沉积工艺参与者.PLD制备高性能薄膜拥有很多的优势，总结如下:1）PLD制备的薄膜材料类型非常广泛。由于高能量密度的激光可以烧蚀大多数材料，包括难融材料和特殊材料，并且材料之间还可以组合成复合材料，这又提高了可制备材料体系的丰富度，因此脉冲激光制备的薄膜材料不受材料类型的限制，拥有庞大的材料体系。2）PLD制备的薄膜结构和形貌可控。PLD可以通过控制激光能量密度、背景气压、背景气体种类、基底材料种类、基底温度、沉积倾斜角度等参数实现对产物结构和形貌的控制，实现不同晶体结构、不同疏松度形貌、不同颗粒形状尺寸薄膜的制备，这使得薄膜性能具有很好的可调控性。3）利用PLD的保组分性能够很容易地实现薄膜成分控制，易获得期望化学计量比的多组分薄膜，有利于制备多元复杂化合物和合金薄膜。4）薄膜生长所需的基底温度相对较低，且与基底结合力强。由于高能量密度的脉冲激光轰击的原子(离子)具有很高的能量，不需要很高的基底温度就可以在基底表面自由迁移，因此与传统方法相比，PLD的薄膜生长温度更低，甚至可以在室温下沉积高质量的薄膜，在不耐高温的柔性基底上沉积薄膜以制备柔性器件。5）沉积效率高。文献中所报道的PLD沉积效率可达10 μm/min以上。欧盟PulseLion全固态锂电电池应用案例：PulseLion项目获得了欧盟地平线及欧盟研究与创新计划的资助, 并联合全欧固态电池行业中知名的15个研究单位及企业, 致力于解决行业技术瓶颈并将第四代全固态电池技术大规模制造产业化 该项目中PLD作为工艺关键一环, 其应用是薄锂金属阳极、高离子导电率固态电解质及隔膜层和缓冲膜等关键技术解决方案均由Pulsedeon公司供应. 除了PLD薄膜沉积工艺外, 其高品质靶材也由Pulsedeon制备供应.欧盟LISA锂硫电池应用案例：欧盟LISA新型固态锂硫电池项目, 致力于解决固态锂硫电池稳定产业化瓶颈, Pulsedeon作为薄膜沉积技术参与者, 提供了从实验级到产业级的PLD相关技术工艺和材料, 其中包括 “集流体及隔膜上多个工艺多层薄膜沉积” “金属锂阳极制备沉积” “陶瓷薄膜沉积层的制备” “固态电解质的制备及优化工艺” “用于R2R PLD中试涂层生产的SSE” “锂硫电池实验级到产业化大面积薄膜沉积制备工艺”等环节.

1.产品概述：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。3.产品优点：可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜，易于保证镀膜后化学计量比的稳定。反应迅速，生长快，通常一小时可获得一定厚度的薄膜。定向性强、薄膜分辨率高，能实现微区沉积。生长过程中可原位引入多种气体，对提高薄膜质量有重要意义。容易制备多层膜和异质膜，通过简单的换靶即可实现4.真空室结构:球形结构真空室尺寸:Ф300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:Φ30mm,每次可装4块靶材，可实现公转换靶位；每块靶材可自转，转速5～60转/分；样品尺寸，温度:1英寸，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

滤袋除尘器是采用高压（0.5~0.4MPa）大流量脉冲阀逐条滤袋喷吹清灰的技术，能够从大量 粉尘（颗粒£ 5μm，含尘量70%以上）的气体中，把 以上的粉尘收集下来。其在水泥行业对立窑、烘干机、熟料冷却机等的废气除尘中广泛使用，目前在新的环保条件下，广泛用于水泥厂、电力、化工、钢铁等行业。滤袋除尘器特点：1、采用布袋式过滤器2、脉冲反吹式清理方式3、经济适用，造价低滤袋除尘器构造（1）箱体：包括袋室、预收尘室、净气室、多孔板、滤袋、滤袋骨架。箱体设计耐压9000Pa。　　（2）喷吹系统：主气管、喷吹管、脉冲阀、控制仪。　　（3）灰斗及排灰部分有两种形式：一种为灰斗直接与卸灰阀连接，另一种为灰斗通过输送设备（如螺旋输送机）与卸灰阀连接。滤袋除尘器工作原理： 　　含尘气体进入除尘器已扩大的灰斗进行预收尘，通过导流板均布于各条滤袋之间，粉尘阻留于滤袋外表面，为使设备阻力不超过1200Pa，高压气体经电磁阀产生脉喷，使气包内压缩空气（0.5~0.7MPa)，由喷吹管孔眼喷出通过文氏管诱导数倍于一次风的周围空气进入滤袋在瞬间急剧膨胀，并伴随着气流的反方向作用抖落粉尘，达到清灰的目的。使用PLC自动控制装置，根据粉尘随意调整清灰周期和脉喷时间。滤袋除尘器选型原则：除尘器选型的主要技术参数为风量、气体温度、含尘浓度与湿度。根据工艺设计的风量、气体温度、含尘浓度的量大数值，按略小于技术性能表中的数值为原则，其相对应的除尘器型号，即为所需要的除尘器型号，采用的滤袋根据入口浓度、气体温度、湿度含量确定。

脉冲压缩器APC系列Avesta脉冲压缩机APC系列应用于控制Ti:S飞秒激光器辐射的色散量（其他波长的也可以提供，请来电咨询）。大范围地改变群速度色散（GVD）的功能可能存在其他光学元件带来的预压缩色散，比如显微镜的光学元件和直接在被辐射样品上获得最小脉宽。输入和输出光束在同样的高度上，大大简化了设备的校准难度。设备的设计方案支持定向光束传播绕过色散因素的可能。APC系列压缩机提供了两种变化为各种设备提供不同的色散范围。例如，一个800nm、100fs脉宽的变化限制的高斯光束通过显微镜光学元件会有8000fs2总正色散，对应的脉宽扩展到254ns。我们的设备在fs脉冲进入显微镜之前会加入一些负色散因子，这就确保您拥有100fs的变化限制的脉冲照射在研究样品上。我们的APC系列脉冲压缩器和AA-10DD系列扫描自相关仪能为您提供完美的脉冲控制方案。应用：各种光谱学领域特点：适用于多光子显微 调节操作方便 旁路功能系列APC波长范围700-900nm色散范围min-max(+7000) - (-7500)fs2(+1000) - (-13000)fs2内部附加光路2.3m 2.8m最大输入光直径4mm输入偏振性水平的（可选择偏振旋转器）传输效率90% @800 nm尺寸410x324x186mm备注其他波长及色散范围需求请联系我们了解详情 飞秒脉冲压缩机特点：能量效率达到50%压缩比可达10:1输入脉冲能量可达1mJ800nm和1058nm标准波长模式应用：超快放大系统输出脉冲压缩产品描述： 主要应用于对飞秒脉冲脉宽的压缩，他们是通过光栅和棱镜压缩机，利用加入具有脉冲压缩功能的惰性气体通过加宽光谱（啁揪）从而达到脉宽压缩功能。对50-300fs的脉冲压缩比达到5到10，对0.01-1mJ的脉冲能量转换效率为50%。压缩机尺寸为130x50x15 cm^3 (LxWxH). 我们的压缩机分为两个标准，Compulse-800 and Compulse-1050，分别为800nm和1058nm设计的，如有特殊要求，欢迎来电咨询！ 光谱和自相关描述：紫色谱线是掺镱激光器的290fs脉宽的输出脉冲；蓝色谱线是添加Xe增加谱宽从而是脉宽压缩到27fs。 脉冲选择器脉冲选择器由泡克尔盒，高电压驱动器，同步和延迟产生器组成。非常适用于从一系列飞秒和皮秒脉冲选择一个单脉冲。这个设备也可以用来作为脉冲限制从而提高对比度。USB连接LabView兼容驱动为器件提供了良好的操作性。OG8-2、OG12-2系列集成了一个泡克尔盒产生高电压脉冲。50kV高电压也可以定制。 特点：波长范围：250-2100nm可调幅度高达12KV高电压脉冲可调延迟高电压脉宽从3nm到1250nm高对比小于700ps的快速上升时间小于200ps的低抖动USB接头和Labview驱动应用：超快振荡器、放大器脉冲选择超快放大系统脉冲的进入和发出对比增加的脉冲限制调Q基本参数：型号OG波长250-2100nm输出电压高达12kV输出频率单脉冲到100kHz上升时间低至700ps门开放时间（高电压脉宽）高达1250ns抖动小于200ps输入同步信号光或者电信号输入光脉冲列重复频率高达150MHz可调延迟800μs

脉冲激光沉积系统-PLD型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源，最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等

EFT61004TA群脉冲发生器是针对电磁兼容-电快速瞬变脉冲群抗扰度试验的要求而专门设计的，用于评估电气和电子设备供电电源端口、信号、控制和接地端口在受到电快速瞬变（脉冲群）干扰时的性能提供一个评定依据。一、设备使用电源要求：1、输入电压：单项 AC220V±10%(,中国大陆)2、频率：50/60Hz3、相数：单项三线制（L-N-PE)4、电压分辨率：1V5、输出电压波形分辨率≤5%6、总功率：MAX250w二、产品特点：1、符合并超越EN/IEC61000-4-4 和 GB/T17626.4最新标准相关要求；2、7.0寸触摸屏、中英显示，操作方便；3、采用进口程控高压电源，性能稳定；4、内置智能切换单相三线耦合/去耦网络.5、内置国际标准模式和自定义模式，满足客户不同需求；6、可以升级成大电流EUT网络；7、脉冲注入相位角度异步或0-360°自由设定；8、高脉冲频率达到 1200kHz ；9、内置温湿度传感器。10、内置RJ45和RS232接口,方便产品升级,同时可选配测控软件实施远程控制。三、设备使用环境要求1、户内使用；2、海拔高度不超过1000米；3、环境温度为－10℃～＋40℃；4、相对湿度不大于85％；5、无导电尘埃、无火灾及爆炸危险、无腐蚀金属和绝缘的气体6、电源电压波形为正弦波,波形畸变率5%；7、接地电阻不大于0.5Ω；四、设备设计制造依照标准1、GB/T 17626.42、IEC/EN 61000-4-43、IEC/EN 60601-1-24、IEC/EN61000-6-15、IEC/EN61850-36、ANSI/IEEE C62.41五、技术参数：参数：EFT61004TA输出电压0.2 ～±4.8KV± 10%脉冲频率1kHz～1200kHz ± 10%, 连续可调脉冲极性正或负 ，正负交替内阻50 Ω± 20%脉冲前沿5ns ± 30%脉冲宽度(50Ω)50ns ± 30%(1kΩ)35 ns----150 ns相移与电源同步时为0-360°或异步脉冲串长度1—255 个可调脉冲串周期典型 300mS （ 0.15—9.99 S 可调，调节精度 0.01S ）试品耦合 / 去耦网络内置单相三线AC:Umax 260V Imax 16ADC:Umax 220V Imax 16A(可定制其他容量网络)仪器工作状态指示前面板LED指示、LCD显示仪器接地连接方式使用扁平接地线外部触发输入BNC 5V TTL上位机RS232、RJ45接口 可联机打印测试报告工作电源AC 220V ± 10% 50/60Hz保险丝3A最大功耗250W环境温度15 ℃ -35 ℃外形尺寸（D×W×H)mm450*430*175 mm重量10kg 六、脉冲群发生器系统构建原理图七、脉冲群标准波形图 八、脉冲群实测波形图 九、校准工具1、500M示波器2、1000Ω高压同轴衰减器 十、脉冲群发生器操作界面1、触摸屏操作界面 2、上位机软件操作界面（选配） 十一、产品图片 十二、实验配置：电容耦合夹EFT-CLAMP技术特点：1、完全符合EN/IEC61000-4-4和GB/T17626.4的标准性能要求；2、能与群脉冲发生器（EFT61004TA、EFT61004TB）配合使用；3、在设备的输入、输出、控制线、数据线上叠加干扰，进行系统抗干扰试验。耦合夹图片 技术参数：电容耦合夹型号EFT-CLAMP耦合电容100～1000pF绝缘能力＞5kV尺寸快速瞬变脉冲群抗扰度试验配置示意图： 供电电源端口试验示意图十三、安装调试1、设备安装调试期间至少有一人进行现场技术服务。2、负责现场服务人员管理，负责货物的开箱检验、设备质量问题的处理、调试，进行试运行能验收试验。3、调试前厂家培训课一节，现场调试时厂家将向客户讲解和示范有关调试方法及安全规范。4、需方应为现场服务人员的工作、生活、交通和通讯等问题提供必要帮助。5、提供的技术资料应完整，调试报告、验收报告由需方单位项目负责人签字才能生。

Nd:YAG脉冲纳秒激光器为整机原装进口激光器，近三十年的激光器生产经验，主要应用于瞬态吸收光谱TAS、瞬态显微Mapping扫描、瞬态表面光电压谱（TPV）、荧光光谱、拉曼光谱、拉曼、激光诱导荧光（LIF）、化学元素分析（LIBS）、粒子成像测速（PIV）、差分吸收（DIAL）、军用及民用雷达（LIDAR）等高端分析仪器及前沿科学研究等领域。灯泵浦Nd：YAG激光器是可调谐OPO激光器的理想泵浦源，实现光谱220nm-2200nm的连续可调。 激光器的特点：1）固态脉冲Nd:YAG激光器的激光体为全密封结构；2）光束路径全封闭结构，以保护光学元件免受灰尘和湿气的影响；3）激光器采用实心杆结构，确保了激光长期稳定的输出，以保证不受外力和环境影响；4）激光器中使用的所有非线性晶体都放置在恒温器中，以确保谐波的高转换效率以及各种频率下输出能量的高稳定性；5）所有晶体采用气密密封，实现热稳定。冷却系统单元特点1）内置加热器，预热时间短2）没有外部回路（水-空气热交换器）3）热交换效率高，最高可达1200 W.4）高精度温度冷却系统，温控稳定度到0.05℃ ，保证激光能量和光斑的高稳定输出5）内置去离子盒 电源单元特点1）单相220V供电2）功率自动校正3）附件扩展连接功能4）恒温器的持续供电 Nd:YAG脉冲纳秒激光器技术参数激光器纳秒Nd:YAG激光器单脉冲能量---1064nm320mJ532nm180mJ355nm60mJ266nm40mJJitter1.0ns脉冲宽度 (1064 nm)10 - 14 ns光斑直径6mm能量稳定性(1064 nm)2.5%重复频率1-10（20Hz）温控系统控温精度0.05℃；内部预热器，可快速预热。电源220V（110V），50-60Hz，1000W，435*485*245mm激光器外形720*136*156mm制冷单元435*485*285mm

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延 超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。