镀膜分析仪

卷对卷式LB膜分析仪 请通过我们的联系我们！卷对卷式LB膜分析仪仪器用于在较长的柔性基底（如保鲜膜式柔性带状基底）上连续沉积单分子薄膜，也可把大尺寸刚性衬底粘接在皮带上进行镀膜，可进行无限多次LB薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积X,Y,Z多种类型的LB薄膜结构。同时具备垂直镀膜与水平镀膜功能。衬底可以是卷式铝箔、卷式PET塑料薄膜等。设备包含镀膜槽，卷对卷样品传动装置，卷对卷转动滑障与水平移动滑障，表面压探头与镀膜头，自动进样装置：注射泵与蠕动泵，控制器，电脑。卷对卷式LB膜分析仪仪器是一种多功能的LB莫分析仪，具有柔性镀膜，刚性镀膜，垂直镀膜，水平镀膜功能。卷对卷式LB膜分析仪液体界面单分子薄膜镀膜仪器可进行无限多次薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积x、y、z型结构的薄膜。卷对卷式LB膜分析仪技术指标：柔性基底镀膜尺寸范围：长度可达3m，宽度可达16.5cm，柔性基底传送速度范围： 0.4625-117 mm/s，调整步阶0.007725 mm/s。镀膜井尺寸：200x180x200 mm (w-d-h)，侵入液体的zui大基片尺寸不小于170x170x170 mm (w-d-h)，兼容常规片状固体基片。表面压传感器：带2个表面压传感器，分别测量镀膜区域与补样区域的表面压值，表面压传感器灵敏度：0.01 mN/m，测量范围：0-80 mN/m。

恒奥德仪器加热型提拉镀膜机 恒温浸渍提拉涂膜机 H18059 主要参数 标温度范围 室温-200℃样行程 150mm提拉速度范围 1um/s-20000um/ss提拉分辨率 1um/s浸渍时间 0-9999S镀膜次数 1-9999次每次镀膜间隔时间 0-9999S额定线性推力 20N控制度 ≤0.5%本公司主营 不锈钢采水器，弯曲测量装置，鼓风干燥箱，色度计，化学试剂沸点测试仪，提取仪，线缆探测仪，溶解氧测定仪，活性炭测定仪，磁导率仪，比浊仪，暗适应仪，旋转仪，酸度计，硅酸根测定仪，过氧化值测定仪，腐蚀率仪，电阻率测定仪，耐压测定仪，污泥比组测试仪，粉体密度测试仪，机械杂质测定仪，运动粘度测试仪，过氧化值酸价测定仪，噪声源，土壤腐蚀率仪，直流电阻测试仪，厌氧消化装置，耐压测试仪，甲醛检测仪，硅酸根测试仪，PH酸度计，测振仪，消解仪，读数仪，空气微生物采样器，，双波长扫描仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，钢化玻璃表面平整度测试仪，腐蚀率仪，凝固点测试仪，水质检测仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，气体采样泵，自动结晶点测试仪，凝固点测试仪，干簧管测试仪，恒温水浴箱，汽油根转，气体采样泵，钢化玻璃测试仪，水质检测仪，PM2.5测试仪，牛奶体细胞检测仪，氦气浓度检测仪，土壤水分电导率测试仪，场强仪，采集箱，透色比测定仪，毛细吸水时间测定仪，氧化还原电位计 测振仪，二氧化碳检测仪，CO2分析仪，示波谱仪，黏泥含量测试仪，汽车启动电源，自动电位滴定仪，，干簧管测试仪，电导率仪，TOC水质分析仪，微电脑可塑性测定仪，风向站，自动点样仪，便携式总磷测试仪，腐蚀率仪，恒温水浴箱，余氯检测仪，自由膨胀率仪，离心杯，混凝土饱和蒸汽压装置，颗粒强度测试仪，斯计，自动涂膜机，，气象站，动觉方位仪，，气味采集器，雨量计，四合气体分析仪，乳化液浓度计，溶解氧仪，温度测量仪，薄层铺板器，温度记录仪，老化仪，噪音检测仪，恒温恒湿箱，分体电阻率测试仪，初粘性和持粘性测试仪，红外二氧化碳分析仪，氢灯，动觉方位仪，冷却风机，油脂酸价检测仪，粘数测定仪，菌落计数器，气象站，雨量计，凯氏定氮仪，荧光增白剂，啤酒泡沫检测仪，发气性测试仪，低频信号发生器，油液质量检测仪，计数器，漏电流测试仪，标准测力仪，毛细吸水时间测定仪，大气采样器，流速仪，继电器保护测试仪，体积电阻率测试仪，侧面光检测仪，照度计，体化蒸馏仪，涂布机，恒温加热器，老化仪，烟气分析仪 本产品价格仅为配件价格，由于检测参数不同对仪器的终要求也不同，所展示的价格并非产品终价格，如给您带来不便请谅解请您在购买前联系我们客服人员，我们会给你确认产品信息，术参数以及报价，我们会以优惠的价格，诚恳的态度为您服务，期待您的来电！ 以上参数资料与图片相对应

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

深圳电镀膜厚测试镀层厚度检测镀层分析安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

上海镀层厚度检测丨电镀膜厚测试丨镀层分析行业安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更全面、更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

iSpecHyper-Mini-Pro是莱森光学一款采用芯片镀膜渐变薄膜滤光片来实现分光的成像高光谱相机系统。是一款将不同波段的渐变薄膜镶镀在探测器上（CMOS/CCD/InGaAs面阵探测器等），通过对目标成像，可同时快速获取光谱和影像信息的无损检测分析仪器。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机可根据应用实现400-1000nm或900-1700nm范围内的高光谱成像。该系统结构包括：成像高光谱相机、驱动电源、运动控制模块、数据采集模块等。能够实现自动曝光、自动匹配扫描速度，通过携带的辅助摄像功能对监测范围进行确定等功能。在数据处理方面，实现数据的预处理、数据选择性的导出、不同数据和图像的校准。该系统广泛应用于需要物质分辨的各个领域，如农业、水质检测、材料检测、生物医学、食品加工、废物处理等。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机利用特殊的镀膜技术，无需分光光谱仪模块，使得在光谱覆盖范围内的数十或数百条光谱波段对目标物体连续成像，在获得物体空间特征成像的同时获得被测物体的光谱信息。其拥有的高速采集能力能够满足客户各种高光谱成像分析要求，同时，因其具有体积小、重量轻、鲁棒性好，以及1.8W低功耗的特性，是工业、无人机或手持设备等移动环境的最佳选择。线性渐变滤光片结构及分光示意图技术原理线性渐变滤光片采用连续镀膜的方式，基于多层楔形薄膜结构实现空间连续变化的滤光特性。可根据色散需求调节薄膜斜率从而获得目标线性变化率。线性渐变滤光片具备高级成度的分光能力，在光谱仪器的小型化、轻量化设中具备不可替代的优势。其广泛应用于轻量化高光谱成像光谱仪、便携式光谱仪、医用内窥镜。 基于线性渐变滤光片的镀膜式高光谱成像相机原理主要技术参数型号iSpecHyper-Mini-Pro光谱范围400-1000nm成像原理芯片渐变滤光片镀膜光谱分辨率1nm@600nm光谱通道数32成像镜头16mm/25mm/35mm探测器CMOS探测器像素尺寸5.5 × 5.5μm像元分辨率2048*2048曝光时间28us-1s数据格式8，10bit RAW数据接口USB 3.0功耗1.8W工作温度0°C ~ 50°C储存温度-20°C ~ 60°C相对湿度80% RH 非冷凝尺寸（mm）/重量（g）96.1mm × 43mm × 46.5mm/200giSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机尺寸三视图（单位：mm）应用案例&bull 监测农作物的长势，如农作物的氮含量、叶绿素、生物量等，也可用于监测农作物的病害及土壤肥力情况，从而为农业精细化管理作技术支撑。&bull 采集不同树种的叶片，通过光谱分析法和纹理分析法，对其高光谱影像数据进行分析，可区分不同树种的叶片和叶片的农学指标分布情况，为航拍区分不同树种作理论依据。 松材线虫病变色松树监测接种链格孢油菜叶的高光谱成像图与光谱曲线&bull 果蔬品质监测可对果蔬的质量进行评估并及时清除低品质的果蔬。果蔬的品质包括水分、糖分、维生素等物质的含量，品质缺陷包括果蔬采摘、运输过程造成的擦伤，害虫咬伤，冷藏过程造成的冻伤等。 不同浓度梯度的叶菜样品的农药荧光光谱曲线 无残留和不同种类农药残留菠菜叶片表面光谱曲线&bull 实时检测水质参数指标，如总磷、总氮、叶绿素a、悬浮物、PH值、化学需氧量、氨氮、溶解氧等10余种水质指标。水环境监测水质指标&bull 应用于烧伤皮肤检测，通过成像图分析不同位置的皮肤烧伤程度，能够有效地辅助医生判断患者病症。皮肤烧伤程度检测&bull 适用于烟草行业的烟丝种类、杂质判别。可用于烟丝生化成分的检测，通过分析高光谱图像中的光谱信息判别烟丝的种类、识别烟丝中的杂质等。检测烟丝生化成分、烟丝种类判别、杂质识别等&bull 将iSpecHyper-Mini系列高光谱成像系统搭载于配备有光源的暗箱系统，可用于不同工业塑料种类的分选，如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等用于工业塑料分选

KSV NIMA Langmuir-Blodgett膜分析仪KSV NIMA Langmuir及Langmuir-Blodgett膜分析仪（以下简称 KSV NIMA LB膜分析仪）是在Langmuir薄膜的制备、表征（包括显微镜）和Langmuir-Blodgett膜的沉积领域方面应用最广泛的一款全球领先仪器。KSV NIMA Langmuir 及Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于单分子层膜的制备及表征，并可精确控制分子的横向堆积密度。KSV NIMA LB膜分析仪可研究分子在单分子层时具有的独特性质，并可采用Langmuir-Blodgett或Langmuir-Schaefer沉积技术转移这些单分子层。通过精确控制厚度、分子取向及堆积密度可制备单层或多层分子膜。应用KSV NIMA LB膜分析仪可在气-液，液-液相界面上制备可控制堆积密度的不溶性单层膜（Langmuir膜），并将此有序功能性膜转移到固体表面（Langmuir-Blodgett 膜），这在纳米技术领域有广泛的应用价值:生物膜及生物分子间的相互作用细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）结构变化及反应药物传输及行为有机及无机涂料具有光学、电学及结构特性的功能性材料新型涂料如纳米管、纳米线、石墨烯等表面反应 聚合反应免疫反应、酶-底物反应生物传感器、表面固定催化剂表面吸附和脱附表面活性剂及胶体合成胶体稳定性乳化、分散、泡沫稳定性薄膜的流变性扩张流变界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）技术Langmuir-Blodgett膜分析仪Langmuir-Blodgett膜分析仪与Langmuir膜分析仪非常相似，它也可以进行膜的制备和研究。此外，LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头。在所需的堆积密度下（通常为固相），镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上。镀膜井可以在Langmuir膜下方为固体样品提供空间。 Langmuir-Blodgett (LB)沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出，而Langmuir-Schaefer (LS)沉积过程是将样品水平地置于界面上（不需要槽上带有镀膜井）。 通过反复沉积技术可制备一定厚度的纳米膜。当采用LB技术，亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。 将Langmuir膜转移到样品上，其密度，厚度及均一性等性质将会保留，从而实现了制备不同组分的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，Langmuir-Blodgett沉积方法受功能性分子的分子结构的限制影响很小。这意味着Langmuir-Blodgett技术是唯一能够进行自下向上的组装方法。在沉积表面上测试可以使用以下方法深入研究沉积表面：界面红外反射吸收光谱仪(KSV NIMA PM-IRRAS)石英晶体微天平(Q-SENSE QCM-D)表面等离子共振仪(SPR)电导率测量仪紫外可见吸收光谱仪原子力显微镜X射线反射器透射电子显微镜椭圆偏振仪X射线光电子能谱仪常规Langmuir-Blodgett系统常规KSV NIMA Langmuir-Blodgett沉积槽的尺寸有小型，中型和大型。小型、中型的LB沉积槽与超小型的Langmuir沉积槽具有相同的框体，但增加了一个镀膜头。不同尺寸和形状的槽体可以使用一个框架。 在基材上沉积的LB膜样品尺寸可从几个平方毫米到几十平方厘米。镀膜井的尺寸限制了基材的尺寸。LB镀膜头可装于LS沉积组件中，进行基材的单侧镀膜。 交替镀膜沉积槽交替镀膜沉积槽可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。基材可以按照您需要的顺序从任意两种单分子层或水间移动。该槽有两种尺寸，标准型和大型。KSV NIMA表征仪器界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带偏振模块的红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测，并可提供不同的分辨率和其他分析数据选项。表面电位测量仪（SPOT）使用振动盘技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供诸如堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水界面的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。KSV NIMA LB软件KSV NIMA LB软件非常直观，操作简单方便。它为客户提供了涵盖经典的Langmuir及Langmuir-Blodgett膜实验在内的各种预编程序。这些程序可根据用户的需求自行修改，可记录大量的数据及参数，并对相关数据进行作图分析。可记录的参数包括数据点的数目、时间、滑障位置、滑障速度、槽体面积、分子面积、浸渍位置、浸渍速度、层数、转移比、累计转移量、温度、pH值及表面电位等。 标准程序包括：压缩/松弛等温线：测量表面压与单位平均分子面积、剩余面积、时间或其他测量参数之间对应的函数关系。分析单分子层动力学（酶动力学、单分子层的水解、聚合或其他零级反应）。分析单分子层的渗透、溶解度、与生物分子（酶、蛋白质、多肽等）的结合。等体积线及等压线：表面压/温度的增大或减小、表面压/时间或表面压/任意需要测量的参数等，均可进行作图分析。剪切流变学：在一定表面压力下，通过振动滑障来检测粘弹性。浸渍：Langmuir-Blodgett及Langmuir-Schaefer模块可控制并监测表面压、浸渍速度、冲程长度、沉积过程、转移比。 当完成一个实验后，用户可在数据还原与分析界面进行进一步的数据分析。选中一个实验后，对应的实验数据也会显示。不同的实验数据可在同一图表中展示并进行比较。软件也可计算出其他相关数据并进行输出。比如有最新材料性质的信息，即可通过查看和编辑实验设置重新进行数据计算。测量实例图1：药物开发该图显示了在空气-缓冲剂溶液界面上，抗寄生虫药物的单分子层的表面压-面积（紫色）及表面电势-面积（浅蓝色）等温线。观察发现，在平均分子面积为140?2处有明显表面压-面积等温线转变，而在表面电势-面积等温线中并没有转变。这就表明此转变并非发生相变，而是该药物在这一平均分子面积时发生了聚合，二聚或构象转变。图2：高压缩单分子层膜该图显示通过传统的KSV NIMA Langmuir中型槽（浅蓝色）和KSV NIMA Langmuir锻带滑障槽（深蓝色）得到的DPPC单分子层的表面压-面积等温线。在两条曲线最大表面压处观测到差异表明KSV NIMA Langmuir锻带滑障槽可以在更高的堆积密度压缩（和保持）单分子膜。 图3：表面反应该图显示，在空气-缓冲液界面处，以壳聚糖溶液作为亚相，将β-乳球蛋白注射到DMPA（醋酸甲孕酮）单分子层后表面压力随时间的变化关系。β-乳球蛋白首先吸附在单分子层上（A部分），随后借助壳聚糖从单分子层移出（B部分）。PM-IRRAS的研究证实了壳聚糖-蛋白质复合物的形成及蛋白质从单分子层上的完全移除。产品优势最优的性能得益于独特的设计专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可作为探针，以满足不同的需求。开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸和放置都极其方便。Langmuir 及Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。坚固的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。 薄型框架设计能够实现与PM-IRRAS(红外光谱)，布鲁斯特角显微镜，荧光显微镜，X射线等光学表征技术的联用。对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，而任意仪器均可实现单一滑障压缩。居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。完全掌控您的实验强大且直观的软件可以满足初学者和经验丰富用户的需求。它是KSV NIMA L和LB的核心组件，该软件能够全程控制并实时显示：表面压力滑障位置滑障速度在沉积过程中（LB）基材位置浸渍速度（LB）温度pH（选件）表面电势（选件）界面单元上的操作按键以及数显功能可帮助用户不使用软件即可做好测量前的准备工作。综合操作手册对设置仪器及进行一些基础实验作了详细介绍。KSV NIMA 公司同样提供大量仪器信息及技术支持以帮助用户更充分的使用仪器。 您的终身合作伙伴独有的可替换性槽体、高度模块化设计，不需要购买新的框架，即可实现KSV NIMA Langmuir及Langmuir-Blodgett膜分析仪各型号之间的灵活切换。客户可根据实验体系的需要进行调整。例如，将Langmuir槽体更换成Langmuir-Blodgett槽体，或者选择不同尺寸的槽体等。 使用大型框架和中型Langmuir槽体搭建的KSV NIMA Langmuir膜分析仪。 除了交替镀膜槽体外，其他所有槽体（直接或使用新槽体升级）都可与KSV NIMA 表面电位传感器，布鲁斯特角显微镜（KSV NIMA BAM 和KSV NIMA MicroBAM）及PM-IRRAS等表征仪器联用。 仪器设计全部采用耐用性组件，在使用了20多年后，一些仪器性能依然良好。 可提供多种配件（如水平浸渍钳夹，表面电位仪，pH探针等）。 灵活性在KSV NIMA，我们理解这种分子尺度的实验，仪器要求会因研究方向而有差异，而我们所提供的标准产品可能不够完全满足您的实验要求。如有特殊实验需求，请与我们联系，以寻求合适的解决方案。

缎带型Langmuir/LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。缎带型Langmuir/LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备。与常规型的L/LB膜分析仪相比，KSV NIMA L/LB缎带型膜分析仪可以提供更高的表面压力。使用缎带取代滑障，可以制备更规整的单分子层膜，同时更高的堆积密度，可以提供许多新的应用前景。缎带型Langmuir/LB膜分析仪主要有两款：缎带型Langmuir膜分析仪和缎带型LB膜分析仪。通过简单的更换槽体，任何KSV NIMA Langmuir或LB膜分析仪均可更换为缎带型膜分析仪，同理也可将缎带型膜分析仪更换为常规型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响缎带型Langmuir/LB膜分析仪几乎与常规型的膜分析仪的工作原理一致，唯一的区别是缎带型Langmuir/LB膜分析仪的压缩机理为缎带，而常规型的为滑障。缎带插入亚相中，将单分子层封闭起来，提供完美的膜限制空间。KSV NIMA缎带型膜分析仪的机理如下：图2 缎带型Langmuir/LB膜分析仪工作原理：1. 压缩； 2. 扩张3. 技术参数3.1 缎带式LB膜分析仪（KN 2005）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 总槽体表面积： 322 cm2 5. 最大扩展槽体表面积： 148.4 cm2 6. 最小压缩槽体表面积： 40.5 cm2 7. 滑障速度: 0.1-270 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. 总亚相容积：387 ml15. 测试槽（过吊带中线）亚相容积：226 ml16. 镀膜井尺寸：20 x56 x 65 mm（长 x 宽 x高）17. 最大基材尺寸：3 x 52 x63 mm或2英寸 18. 最大镀膜冲程： 80 mm19. 镀膜速度：0.1 – 108 mm/min20. 电源： 100...240 VAC21. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett/Langmuir槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 对称缎带压缩为标准的均匀压缩方法。6. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。7. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。8. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

交替型LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜3. 技术参数3.1 大型交替LB膜分析仪（KN2004）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试4. 槽体表面积： 930 cm2 (*2)5. 槽体内部尺寸：775 x 120 x 10 mm（长 x 宽 x高, *2）6. 温度范围：-10 oC – 60oC7. 滑障速度: 0.1-200 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：6000 ml15. 镀膜井尺寸：半圆形,半径133mm, 深度128mm16. 最大基材尺寸：3 x 129 x114 mm或4英寸17. 镀膜速度：0.1 – 85 mm/min18. 电源： 100...240 VAC19. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

交替型LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜3. 技术参数3.1 常规交替型LB膜分析仪（KN2006）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 槽体表面积：587 cm2 (*2)5. 槽体内部尺寸：782 x 75 x 5 mm（长 x 宽 x高, *2）6. 滑障速度: 0.1-200 mm/min7. 滑障速度精度: 0.1 mm/min8. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）9. 天平最大负荷: 1 g10. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）11. 传感精度: 0.1μN/m12. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒13. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：1400 ml14. 镀膜井尺寸：半圆形,半径75 mm, 深度74 mm 15. 最大基材尺寸：3 x 30 x 50 mm 16. 镀膜速度：0.1 – 85 mm/min17. 电源： 100...240 VAC18. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

伯东公司授权代理德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机（高真空镀膜系统）经过大量实验和技术知识积累研发设计,通过ISO 9001认证, ISO 14001认证,低能耗主要应用领域: 半导体,光学,微电子学,显示屏,光电工程,表面处理等行业.Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(科研,小型研发)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(科研,小规模生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (批量生产)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (生产线大批量生产)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)伯东公司pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500,选用pfeiffer分子泵 Hipace 700,可定制,我司将竭诚为您服务pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500 技术参数:真空腔体容量150 l 内部尺寸500 mm高度575 mmDoor OpeningW x H 500 x 575 mm整机漏率1x10-5 mbar x l /s最终压力5x10-7 mbar高真空泵组(标准型)分子泵Hipace 700隔膜泵MD4旋片泵DUO 20真空测量全量程真空计电源电压3 x 400 V频率50/60 HZ水冷Chamber Usage approx (a)500 l/hPump Set Usage approx (a)15 l/h进气温度25 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/4"Hot WaterChamber Usage approx (a)500 l/h进气温度70 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/8"尺寸占地面积1.4 m2L x W x H1,4 x 1 x 1,9 m重量600 kg最大环境温度40 °C 伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部: 叶女士联系

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

KSV NIMA LB膜分析仪一、仪器简介：KSV NIMA LB膜分析系统是由计算机控制的高性能的LB镀膜系统，其应用广泛、操作灵活。系统结构模块化，可扩展升级的硬件和软件；整个系统框架型结构，允许添加其它附属装置，例如：可以与布鲁斯特角显微镜BAM联用；高质量的硬质熔结槽体；可进行膜的荧光和光谱分析，测量pH值和表面势能等。KSV NIMA LB膜分析系统全系列产品包括Extra small, Small, Media, Large, High compression, Alternate等多个型号的LB膜分析仪，模块化设计，满足您的不同应用与需求！二、技术参数：1、 表面面积(cm2): 98-8412、 滑栅速度(mm/min) 0.1...1503、 膜天平测量范围(mN/m) 0...1504、 膜天平最大称重(g)5、 膜天平分辨率(μN/m) 4三、主要特点：1、 可提供多槽室设计，可对基片镀同种/不同种膜2、 镀槽结构简单，操作方便；组合式设计，升级方便3、 反馈控制的对称膜压缩，确保膜均匀一致4、 系统可带有各种在线膜表征设备5、 计算机控制, 软件数据处理功能强大

KSV NIMA LB膜分析仪 一、仪器简介：KSV NIMA LB膜分析系统是由计算机控制的高性能的LB镀膜系统，其应用广泛、操作灵活。系统结构模块化，可扩展升级的硬件和软件；整个系统框架型结构，允许添加其它附属装置，例如：可以与布鲁斯特角显微镜BAM联用；高质量的硬质熔结槽体；可进行膜的荧光和光谱分析，测量pH值和表面势能等。KSV NIMA LB膜分析系统全系列产品包括Extra small, Small, Media, Large, High compression, Alternate等多个型号的LB膜分析仪，模块化设计，满足您的不同应用与需求！二、技术参数：1、 表面面积(cm2): 98-8412、 滑栅速度(mm/min) 0.1...1503、 膜天平测量范围(mN/m) 0...1504、 膜天平最大称重(g) 5、 膜天平分辨率(μN/m) 4三、主要特点：1、 可提供多槽室设计，可对基片镀同种/不同种膜2、 镀槽结构简单，操作方便；组合式设计，升级方便3、 反馈控制的对称膜压缩，确保膜均匀一致4、 系统可带有各种在线膜表征设备5、 计算机控制, 软件数据处理功能强大

芬兰Kibron公司是极具创新能力的高科技公司，专注的开发界面膜研究的相关设备。Kibron公司的创始人kinnunen教授发明了LB膜分析仪，完善了很多使用细节，采用Kibron公司的独家专利微探针技术，拉膜更流畅，信号无迟滞现象。Kibron公司最近新推出了一款MicroTrough G1系的膜分析仪，该型号的膜分析仪采用模块化的Langmuir-Blodgett槽，稳定的基础框架、模块化设计的提膜设备组件，Langmuir槽和Langmuir-Blodget的槽和压缩滑障是采用市场上最好的PTFE（特氟龙）制造的 水槽和浸渍井是由PTFE单一块加工而成的。该提膜组件可实现Langmuir-Blodgett技术法垂直提膜（将Langmuir膜垂直地转移到固体基材上），也可结合Langmuir- Schaefer技术法进行水平提膜（将Langmuir膜水平转移到固体基材上），实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。根据需要设置简单或复杂的配置文件后可以很容易地进行多层沉积，采用Langmuir Blodgett(LB)法膜沉积(垂直)或Kibron Langmuir(LS)法膜沉积(水平)。Langmuir-Blodgett槽的柔性附件扩大了进行各种实验可能性的范围；在不同的表面上进行薄膜(单层)沉积，表面电位计可用于表面电势的测定以及具有光学窗口的朗缪尔槽可以与显微镜连用进行同步的测量。FilmWare 4.0版本的软件控制单独使用LB膜分析仪的提膜设备组件，并且该提膜组件可以在Kibron 公司的各种类型的Langmuir槽中使用，同时还可以容纳大范围尺寸基板的基座。 Kibron公司的朗缪尔膜分析仪的产品附件介绍可提供选择的配件用于建立完整的朗缪尔-班布杰特（LB）实验1、微型点表面电势测量模块：一种即插即用的微型尺寸的插片附件，用于记录单分子层的表面电势。Kibron微型点的低噪音（＜1 mV）2、测量探针：抗化学腐蚀、具有良好的表面润湿性能、Du Noüy-Padday技术、能测微量样品3、温度控制器：通过需接循环水浴来控温4、聚丙烯的保护罩：可以保护朗缪尔槽并且可避免灰尘的进入5、Layer pro型浸渍提拉膜升降模块：LayerX Pro型浸渍提拉镀膜模块是一种独立的提膜镀膜设备，Layer pro型浸渍提拉膜升降模块可以固定在膜分析仪的基座上使用，也可以单独使用，通过采用Langmuir-Blodgett 法(垂直)或langmuir-schaefer(水平)法可以将单层膜(s)转移到固体的基板上6、主机控制器：可以与FilmwareX单层膜控制软件联用，可以控制朗缪尔膜分析仪（LB）提拉膜操作7、POM/特氟龙滑障：滑障采用POM（聚甲醛）材质或选用PTFE（特氟龙）材质的压缩滑障8、缎带槽：特殊的压缩机制设计用于测量极高的表面压力(70mN/m)。缎带槽的大小与微槽的基板大小是相吻合，一个特氟龙带作为一个滑障形成了一个封闭的矩形环路，。9、朗缪尔槽：可拆卸和可更换的Langmuir-Blodgett槽，无论是PTFE材质还是金属合金材质的，都可以让用户轻松地在实验之中清洗Langmuir-Blodgett槽。系统可以根据所研究的单层膜的参数进行简单的配置 物美价廉Langmuir Blodgett槽可以让不同的研究人员考虑选择。10、朗缪尔光学分析槽：具有光学窗口的朗缪尔光学分析槽可以与显微镜联用进行同步的测量。

缎带型Langmuir/LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。缎带型Langmuir/LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备。与常规型的L/LB膜分析仪相比，KSV NIMA L/LB缎带型膜分析仪可以提供更高的表面压力。使用缎带取代滑障，可以制备更规整的单分子层膜，同时更高的堆积密度，可以提供许多新的应用前景。缎带型Langmuir/LB膜分析仪主要有两款：缎带型Langmuir膜分析仪和缎带型LB膜分析仪。通过简单的更换槽体，任何KSV NIMA Langmuir或LB膜分析仪均可更换为缎带型膜分析仪，同理也可将缎带型膜分析仪更换为常规型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响缎带型Langmuir/LB膜分析仪几乎与常规型的膜分析仪的工作原理一致，唯一的区别是缎带型Langmuir/LB膜分析仪的压缩机理为缎带，而常规型的为滑障。缎带插入亚相中，将单分子层封闭起来，提供完美的膜限制空间。KSV NIMA缎带型膜分析仪的机理如下：图2 缎带型Langmuir/LB膜分析仪工作原理：1. 压缩； 2. 扩张3. 技术参数3.1 缎带式Langmuir膜分析仪（KN 1007）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试4. 槽体表面积（扩展）： 148.4 cm25. 槽体表面积（压缩）： 40.5 cm26. 槽体内部尺寸：358 x 90 x 10 mm（长 x 宽 x高）7. 滑障速度: 0.1-270 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. Langmuir测试槽亚相容积：322 ml15. 电源： 100...240 VAC16. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett/Langmuir槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 对称缎带压缩为标准的均匀压缩方法。6. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。7. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。8. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪，真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵，无油真空系统，真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下最流行的触摸屏控制，简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜，满足高分辨场发射扫描电镜（FESEM）需求。可选碳丝蒸发镀碳膜，用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜，获得极其细腻的金属膜与碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。主要技术参数： 可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度 2×10-6mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：200mm（宽）×150mm（深）×195mm（高） 样品台内置旋转，工作距离调节范围：30mm-100mm

产品详情法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3详细介绍超高真空多腔体电子束蒸镀系统磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering systemEvaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction品牌：PLASSYS 型号：MEB 550SL3 产地：欧洲 法国 应用：约瑟夫森结（Al, Nb, NbN, NbTiN） 超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。 推荐配置：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料，请咨询我们！ 预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；干泵+ 分子泵 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔：电子枪6-15KW； 样品台： 。可加载4英寸衬底； 。衬底可加热到800℃ 。衬底旋转、倾斜， 。倾斜精度和重复性优于0.1°（可升级） 真空泵系统： 。干泵 + 低温泵； 。真空度10-10T或10-11T 膜厚控制仪： 。频率分辨率10-4Hz或更高； 。速率分辨率10-3nm/s； 。厚度分辨率10-2nm 残余气体分析仪 反应蒸镀：氧气气路+MFC 氧化腔体： 。静态/动态氧化 。臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电； 。卤素灯加热至最高200℃ 。残余气体分析仪分子泵 + 干泵；真空度10-8 T 全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学

产品简介样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。技术参数 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 真空度-7×10-3mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高） 工作距离调节范围：30mm-100mm

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。主要技术参数： 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 真空度 7×10-3mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高） 工作距离调节范围：30mm-100mm

徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓： 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

KSV NIMA缎带滑障LB膜分析仪一、仪器简介：KSV NIMA 缎带滑障LB膜分析系统是由计算机控制的高性能的LB镀膜系统，其用于研究高表面压的单分子层体系（70mN/m），且应用广泛、操作灵活。系统结构模块化，可扩展升级的硬件和软件；整个系统框架型结构，允许添加其它附属装置，例如：可以与布鲁斯特角显微镜BAM联用；高质量的硬质熔结槽体；可进行膜的荧光和光谱分析，测量pH值和表面势能等。KSV NIMA 缎带滑障LB膜分析系统作为KSV NIMA LB膜分析仪的延伸，可应用于KSV NIMA旗下全系列产品Extra small, Small, Media, Large, High compression, Alternate等多个型号的LB膜分析仪，模块化设计，满足您的不同应用与需求！二、技术参数：缎带：表面面积(cm2): 40.5-148.4速度(mm/min) 0.01...270缎带材料：PTFE包覆的玻璃纤维提供数量：5Langmiur缎带滑槽：面下体积：（ml）161Langmiur-Blodgett缎带滑槽：面下体积：（ml）226浸渍井：（mm）L20 x W56 x H65最大样品体积：（mm）T3 x W52 x H63软件：KSV NIMA LB Software三、主要特点：1、可用于研究高表面压的单分子层体系（70mN/m），可用于研究高密度单分子层膜的形成与沉积可提供多槽室设计，可对基片镀同种/不同种膜2、镀槽结构简单，操作方便；组合式设计，升级方便3、反馈控制的对称膜压缩，确保膜均匀一致4、系统可带有各种在线膜表征设备5、计算机控制, 软件数据处理功能强大四、创新点：1、上市时间：2012年3月2、使用了缎带滑障后，可以大大提升仪器对于高表面压体系的表面张力测量的范围和准确程度。

GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)-配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。2、防污染挡板设计全自动防污染挡板，在磁控溅射模块工作时自动切换到镀碳组件，防止蒸发源收到污染，反之亦然。3、一键切换两种工作模式一键切换，每次开机自动进入上次关机的工作模式。4、全自动操作

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机技术参数：1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能3、方向型离子溅射模式，可提高平面样品镀膜效果，独特的脉冲式碳丝蒸发模式，实现对碳膜厚度的控制4、可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪，精度为0.1nm5、标配有镀膜金属挡板，可用于干预溅射，确保镀膜纯度6、专利设计方形样品室，尺寸：140mm宽x145mm深x150mm高，样品台直径80mm7、工作距离：30-100mm8、溅射电流：≤150mA9、极限真空度：≤7x10-3mbar10、一体化触摸控制界面，操作简单

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。

真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统 DCR DCT真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 DCTDCT涡轮泵送碳涂层系统 SEM/TEM制备碳涂层器，低真空和高真空系统台式紧凑型碳纤维镀膜系统，适用于扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）和X射线分析（EDX）中使用的样品制备。此设备有两种模式：DCR是一种旋转泵送碳涂层机，适用于SEM样品制备、EDS/WDS和薄膜应用。DCT是一种涡轮泵送碳涂层机，非常适合FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSD和薄膜应用。这种高真空镀膜机提供了具有精细晶粒尺寸的高质量均匀碳膜，适用于需要高分辨率和高质量表征的样品。 使用碳涂层制备样品是非导电和低导电样品或样品的公认方法。Vac-Techniche DCT系统是一种多功能碳蒸发器，用于制备电子显微镜或EDXA分析样品。它被设计成一种能够蒸发碳棒和碳纤维的大电流电源。换句话说，它可以将碳涂覆在不同类型的基材上进行X射线分析，并涂覆导电碳纤维和棒进行SEM分析。该系统的卓越设计使用户能够轻松装载和卸载样品，并快速更换碳纤维/棒。该系统配备了薄膜厚度监测器（FTM），该监测器以1nm的精度测量安装在真空室中的石英晶体上的涂层厚度。当达到所需的厚度或时间时，该系统可以自动终止涂层循环。。紧凑且易于使用的碳涂层机，可以选择使用现有的泵或随泵提供。对于外部泵送，车载计算机控制泵或泵送设备。我们增加的真空室DCR-L和DCT-L系统可以容纳更大的样本碳涂层由于其优异的透明度和良好的导电性，沉积的碳薄膜被广泛用于电子显微镜（EM）或X射线显微分析应用，例如：&bull 用于TEM（高真空（HV）蒸发）的支撑膜&bull 用于SEM/EDS样品的导电膜（低真空蒸发）&bull 非导电微探针样品的导电表面膜（高压蒸发）&bull 非导电EBSD样品的导电表面膜（高压蒸发）&bull 非导电FESEM样品的导电表面膜（高压蒸发）&bull 非导电FIB样品的导电表面膜（高压蒸发）我们的板机集成使台式溅射镀膜机成为扫描电子显微镜（SEM）和隧道电子显微镜分析（TEM）的理想实验室和研究工具。约5纳米（50&angst ）的薄膜用于粒子支撑和放射自显影中的隔离层。较厚的薄膜也用于扫描电镜和X射线显微分析。一般来说，沉积的薄膜应该是均匀的，具有精细的晶粒尺寸和可重复的膜厚度。碳棒和碳纤维是世界各地实验室中广泛使用的两种碳蒸发源。它们每个都有自己的功能，这使得它们对用户具有特定的兴趣。为了更好地理解，这些功能的进一步细节将在以下部分中介绍。碳棒与碳纤维蒸发蒸发碳线或预成型碳棒都是蒸发碳的常用方法。使用具有正确控制系统（脉冲、连续和自动）的预成型棒可以提供高质量的碳层，还可以很好地控制碳层的厚度。然而，一些用户更喜欢使用碳纤维，因为与碳棒相比，碳纤维的工艺更快、更简单。

徕卡真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE200 是一款高品质台式镀膜仪，用来制备电子显微镜所需的均匀的金属导电膜或碳膜。 这款自动化设备既可以配置成溅射镀膜仪又可以配置成碳丝蒸发镀膜仪。或者，根据需要，Leica EM ACE200 可以在一台设备上装配可调换镀膜源，实现两种镀膜方式。另外可选配功能有：★★★ 石英片膜厚监控--用于制备可重复性镀膜★★★ 行星旋转样品台--用于对裂纹型样品喷镀均匀镀膜★★★ 辉光放电功能--使TEM网格亲水化

LS膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LS（Langmuir-Schaefer）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LS膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LS膜分析仪基本组件与LB膜分析仪相同，但将原有垂直镀膜头更换为水平镀膜头组件，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜水平转移到固体基材上，Langmuir膜的密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。常规的LS膜分析仪包含三种型号的槽体：小型、中型、大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LS膜沉积过程是将样品从单分子层中水平拉出（图2），通过反复沉积技术可制备多层LS膜，亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 LS沉积过程示意图3. 技术参数3.1 小型LS膜分析仪（KN 2001）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 槽体表面积： 98 cm2 5. 槽体内部尺寸：195 x 50 x 4 mm（长 x 宽 x高）6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min7. 滑障速度精度: 0.1 mm/min8. 测量范围：0-150 mN/m9. 天平最大负荷: 1 g，可三维 10. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）11. 传感精度: 4 μN/m12. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒13. Langmuir测试槽亚相容积：39 ml14. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：57 ml15. 镀膜井尺寸：20 x30 x 30 mm（长 x 宽 x高）16. 最大基材尺寸：3 x 26 x26 mm或1英寸 17. 最大镀膜冲程： 80 mm18. 镀膜速度：0.1 – 108 mm/min19. 电源： 100...240 VAC20. 频率： 50...60 Hz3.2 中型LS膜分析仪（KN 2002）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 槽体表面积： 273 cm2 5. 槽体内部尺寸：364 x 75 x 4 mm（长 x 宽 x高）6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min7. 滑障速度精度: 0.1 mm/min8. 测量范围：0-150 mN/m9. 天平最大负荷: 1 g10. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）11. 传感精度: 4 μN/m12. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒13. Langmuir测试槽亚相容积：109 ml14. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：176 ml15. 镀膜井尺寸：20 x56 x 60 mm（长 x 宽 x高）16. 最大基材尺寸：3 x 52 x56 mm或2英寸 17. 最大镀膜冲程： 80 mm18. 镀膜速度：0.1 – 108 mm/min19. 电源： 100...240 VAC20. 频率： 50...60 Hz3.3 大型LS膜分析仪（KN 2003）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 槽体表面积： 841 cm2 5. 槽体内部尺寸：580 x 145 x 4 mm（长 x 宽 x高）6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min7. 滑障速度精度: 0.1 mm/min8. 测量范围：0-150 mN/m9. 天平最大负荷: 1 g10. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）11. 传感精度: 4 μN/m12. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒13. Langmuir测试槽亚相容积：336 ml14. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：578 ml15. 镀膜井尺寸：20 x110 x 110 mm（长 x 宽 x高）16. 最大基材尺寸：3 x 106 x106 mm或4英寸 17. 最大镀膜冲程： 80 mm18. 镀膜速度：0.1 – 108 mm/min19. 电源： 100...240 VAC20. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Schaefer槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LS沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）构象变化及反应 药物传输及行为l 有机及无机涂料具有光学、电学及结构特性的功能性材料新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应聚合反应免疫反应、酶-底物反应生物传感器、表面固定催化剂表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体配方科学胶体稳定性乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性扩张流变界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。