真空设备

云必真空设备原位进样系统MUST IN2 功能保证敏感样品在不接触空气和湿气的情况下，从手套箱传输到真空设备，以避免氧气、水分或灰尘等对样品造成污染。 操作流程第一步：放样品在手套箱内制备好样品，将样品装入带有惰性气体保护的原位进样系统；第二步：运样品系统气密性好，可远距离移动；第三步：装样品系统像一个大样品一样安装在真空设备样品座上，整个系统将与载物台一起在样品室中移动；第四步：进样品仪器抽真空的过程中，系统在不使用电驱动的方式打开，最大程度减少系统对仪器的电磁干扰；第五步：分析样品系统打开以后，分析仪器就可以对样品开展分析工作。 原位分析附件1、高温附件(室温至+100℃，特殊温度可定制)直接内置于原位进样系统里，无需外接其他附件。系统内允许温度快速变化，并使用作为该组件一部分的控制器在±1℃内进行精确控制。2、充放电附件可保证固态电池、动力电池、锂离子电池等样品在原位进样情况下,还能开展充放电测试。利用充放电附件可观察其在充放电过程中，成分、形貌、结构等性能持续的发生变化，得到丰富的原位测试数据。3、力曲线附件主要是在高低温附件、充放电附件基础上增加了力曲线功能。样品在高低温、充放电状态下内部会膨胀或发生形变，就会产生力，结合温度、充放电的变化，就能得到完整的不同工况下的样品力曲线图形。 原位互联原位进样系统可以保证同一个样品，在各种设备之间原位转移、原位分析，以低成本达到原位互联的效果。在使用原位进样系统的基础上，真空设备分析完样品，可以使用惰性气体破坏真空，原位进样系统自动关闭舱门，达到密闭效果，从而可以转移到其他真空设备上开展其他分析工作。 性能优势1、无磁性所有部件均为非磁性材料，不影响真空设备观测准确性。2、体积小巧高度仅20mm，长度不超过50mm。3、高度匹配定制化安装底座，可在真空设备底座上稳定锁定。4、自动开启原位进样主盒放入真空设备腔内，真空开启后，观测舱自动打开。5、功能全面可同时实现对样品的充放电、加压、制冷、加热及环境参数测量等功能。 性能参数 样品进入方式：原位进样系统装配于真空设备样品座上进入 系统打开方式：气动方式打开，避免电磁干扰 样品放置方式：竖直放置，可选水平放置 外壳材质：铜材质，表面特殊处理，内部表面抛光 外壳尺寸：L50xW50xH20mm(可定制) 腔内尺寸：L20×W30×H15mm(可定制) 样品尺寸：L10×W10×H5mm(可定制) 可选附件1、高温附件 温度范围：室温至+100℃，特殊温度可定制 温度精度：±1℃ 显示分辨率：1℃ 温度稳定性：1℃ 加热/冷却速率：每分钟30℃2、充放电附件功能视外接充放电设备而定3、力曲线附件 加压范围：0-250N 外部控制箱 适用仪器本系统适用于真空设备， 如扫描电子显微镜、电子探针显微镜、Ｘ射线光电子能谱仪、离子研磨仪等仪器。

1、激光溅射沉积（PLD）l脉冲激光沉积是一非平衡物理过程，其方法新颖，工艺简单，制备薄膜组分偏析少、纯度高，薄膜与衬底结合力强，薄膜生长速度快，是一种先进的薄膜制备方法。l脉冲激光沉积装置主要包括两大部分：激光系统和工作系统。经常采用的激光器有准分子(Excimer)激光器、脉冲 YAG 激光器、脉冲二氧化碳激光器等。PLD工作系统，主要包括真空室、靶材衬底放置系统、抽真空系统、供气系统、控制系统等组件，并用红外测温仪对衬底温度进行实时监控。工作系统的几个主要部分：l 真空室及抽真空系统 ：真空反应室由一级抽真空的机械泵（低真空的抽取）和二级抽真空分子泵（高真空的抽取）连接，本底极限真空可达到 6.6×10-5Pa。l靶材衬底放置系统 ：该系统有四个靶托，可以同时放置 4 块靶材，靶材在自转和公转电机的带动下能同时进行自转和公转。自转是为了使激光束更均匀的溅射到靶材表面，公转的目的是为了更换不同的靶材，避免靶材之间的交叉污染。可以对衬底进行旋转并通过加热装置给衬底加热，在对衬底进行加热时最高温度可以达到 800℃（加热时尽量使加热温度变化在 100℃左右）。靶材与基片之间的距离可以在 3～10cm范围内进行调节。 l冷却循环系统 ：该系统用于分子泵的水循环冷却。 l供气系统 ：该系统既可以提供环境保护气体，使样品和真空室避免受到空气污染；还可以提供制备薄膜需要的反应气体。 l控制系统 ：控制系统主要有真空度、衬底加热温度、分子泵机械泵总电源几个控制面板。控制系统主要用来设置沉积室的背景气压、工作压强、靶材与衬底的转动速率、衬底的加热温度、反射镜的转动速率等。比 较 常 用 的 薄 膜 材 料 制 备 技 术 主 要 有 物 理 气 相 沉 积 (Physical vapor Deposition，PVD)、化学气相沉积(Chemical vapor Deposition， CVD)和溶胶—凝胶法等，而真空蒸发、离子镀和溅射镀膜都属于物理气相沉积，PLD 技术也是一种 PVD 技术，但是 PLD 技术相对简单并且有很多优点：(1) 可沉积制备与靶材一致的多组分复合物薄膜材料，可以保证镀膜前后材料化学计量比的稳定。 (2) 沉积速率高，薄膜生长快，可在一小时生长 1μm 左右的薄膜。(3) 薄膜生长方向性强，能实现定向区域沉积。 (4)溅射沉积过程中可以引入多种气体以改善薄膜质量。(5)可以同时安装多个靶制备多层膜或多元化合物异质结。(6) 靶材容易制备，等离子能量高可降低薄膜生长需要的衬底温度。由于聚焦激光的超高温度因此几乎可以产生任何高熔点材料的薄膜，同时较低温度下生长结晶取向一致的薄膜材料。(7) 高真空环境可制成高纯薄膜；等离子体输运和蒸发空间较小，不会对真空室造成很大的污染。(8) PLD 几乎可以制备所有材料，对激光光源透明的材料除外。 2、真空转移腔体 l真空度10-9mbar3、快速升温降温系统l升温：一分钟内室温升到800℃ l降温：室温降到77k（或10k，定制）

●CMC型全自动真空储存柜适用于食品、水产品、化工原料、贵重金属、金属粉末等固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高级金属制品、厌氧产品、易氧化产品等）的真空存贮，以防潮、防氧化变色。存贮产品可防止氧化、变色、褐变、霉变、虫蛀、受潮、可保质、保鲜延长产品储存期限。●全自动低温烘烤除气真空储存柜真空系统可选配干泵和油封泵，其特点：干泵可获得洁净真空，不会对真空储存室带来污染，但价格较昂贵。油封泵具有成本低廉的优势，但任何安全设计均难以避免油封泵中的油分子进入真空储存室污染环境，给产品带来影响。工作真空度可在西门子触摸屏上任意设定，设定值不得低于设备的极限真空。●本公司设备人机界面、PLC及PLC扩展模块均采用德国西门子工业级产品，同时变频器采用ABB，所有高低压电器原器件均采用知名品牌（优选法国施耐德，若出现产品缺货则使用ABB或国际国内一流品牌，我公司不再另行通知客户），确保设备的电气系统高稳定。●针对不同功能，系统界面共设“一键启动界面”、“软手动界面”、“软件版本界面”、“参数设置界面”等，可通过点击界面切换进入另一操作界面。●“一键启动界面”为默认进入的主界面，可实现“排气”、“放气”、“照明”，以及界面切换等功能。 ●软手动界面：可在手动模式下，单独控制真空获得系统和每个真空室的环境指标，方便设备日常维护和保养。●软件版本界面：反映软件版本和公司售前、售中和售后服务信息。 ●参数设置界面：此界面主要设置真空度参数、温度参数、湿度参数，每个独立的存储室均可单独设置，单独控制。●储存空间和分层方式根据客户需求定制，可按客户预算采用半自动方式对储存柜进行控制，大幅度降低客户投入成本。

1. 用途：本设备用于电子器件在真空中钎焊、退火、回火、除气工艺。2. 主要技术资料：2.1 工作温度：600-1400℃（工作温度）2.2 温度均匀性：±5℃ (600℃保温半小时测试) 2.3 有效工作区尺寸：定制2.4 满载重量：定制2.5 工作真空度：8×10-5Pa3. 结构说明及工作原理：本设备由炉体、水冷系统、真空系统和电气控制系统组成。3.1 炉体：炉体由加热炉、炉门和后封头组成。炉体安装在底架上。3.1.1 加热炉从内到外由加热器、隔热屏、炉壳构成。3.1.2 炉门是个夹层的椭圆封头，夹层内通水冷却，水路接法为下部进水上部出水。炉门正中设有视镜，用来观察炉内工件加热情况。视镜内设有活动挡板，只有观察炉内时才打开挡板。3.1.3 炉体后封头是夹层椭圆封头，封头正中有充气口炉内需要降温时，开启充气电磁阀，氮气通过管道从端面隔热屏上的六个喷嘴进入炉内，而从炉膛的另一端排出。3.2 水冷系统对炉壳、炉门、后封头和电极分别通水冷却。3.3 真空系统3.3.1 真空系统由泵、阀、管道和真空规管等组成。3.3.2 主要配置:分子泵：国产货进口（可选配扩散泵）+干泵：国产货进口（可选配油封泵）3.4 电气控制部分3.4.1 结构控电柜采用大板式结构，控电柜门板上装有触摸屏、紧停按钮和三只温度控制仪等。电器板安装有空开、交流接触器、中间继电器、24伏直流电源、三套控制信号转换系统、阻容保护器等。3.4.2 温度调节控制原理设有三套加热控制系统，分别控制加热器1、加热器2和加热器3。加热器与变压器连接用铜排。3.4.3 触摸屏的使用：触摸屏用于显示当前设备的加热电流、电压及设备工作状态并可通过触摸屏的画面切换完成对设备的操作及温度曲线的显示、报警提示报警历史记录等功能。触摸屏分为设备运行、设备检修、温度曲线、报警日志、关于我们六幅操作界面，功能如下：设备运行 —— 设备正常运行时的启动界面。设备检修 —— 用于设备调试运行、手动操作时及设备检修时界面。

●Research系列高真空中频感应炉，主要用于在高温、高真空环境或低压气氛保护下，对功能材料进行蒸发提纯、热处理、烧结、熔炼、生长等工艺制程，该设备采用公司专有高真空系统，能防止高温工艺制程对非金属功能材料表面的影响和侵蚀，采用中频感应电源加热匹配感应线圈，对石墨、铱金、钼、钨等难熔坩埚进行加热，具有效率高、稳定可靠的特点。主要技术参数：1. 加热方式：中频感应加热；2. 工作温度：2500℃长期运行；3. 仪表控温精度：0.3级；4. 坩埚尺寸：定制；5. 具有升温速率调节功能；6. 极限真空度：优于8×10-4Pa（冷态、空载）； 7. 真空排气机组采用水冷匹配自然泄水方式；8. 设备的漏率：低于6.0×10-6Pam3/s；9. 设备总功率：约50-120KW。

●Research系列真空热处理炉满足客户特定需求，用于功能材料钎焊、膜层制备、真空退火、真空回火、真空热处理、晶界扩散、其他有机材料热处理制程，设备采用红外辐射加热，良好的人机界面和无油分子泵组，提供稳定、高效和优良耐久性能的低成本钎焊设备，广泛运用于新材料研发和中小批量钎焊工艺制程。

●该设备为公司根据客户工艺需求定制，与中国科学院某研究所国家重点实验室联合研制，先后获得奖励3项，联合申报国家专利2项，用于固体润滑、防腐和超硬表面改性等领域，服务于科研和国家重大项目需求，具有多功能、高稳定和国内首创的特点，欢迎各位联合研制。●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成，同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统，可根据客户使用需求定制。●真空腔体：φ900X1050，双层水冷；（可根据实际需求定制）●真空系统：分子泵+低温泵+罗茨泵+机械泵复合真空系统；●真空抽速：4000-7000L/S，进口全量程复合真空计，全金属防爆真空规；●极限真空：6.7X10-5Pa；（根据客户选择主泵确定）；●磁控靶组件：4个矩形靶，4个圆柱靶，根据客户实际需要匹配中频、射频、脉冲直流溅射电源；●离子源：2套线性离子源，匹配专用电源；●气路：4路反应气体，进口质量流量计，1路毛细保护气路；●烘烤温度：400℃，不锈钢铠装加热器，可拆卸快装结构；●工件盘：导轨多工位行星工件盘2套（标准配置为12工位和24工位，可扩展数百件工件共同沉积），工件盘装夹移动小车一辆；●控制系统：西门子PLC+西门子人机界面+工业控制计算机。●特别说明：该设备为公司与中科院某所合作研制，获得国家科技进步、国家科技发明奖、机械工业科技进步一等奖和中科院重大设备专项等奖励，公司提供一揽子技术解决方案，同时与合作伙伴共享知识产权。

●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜，能够根据客户需求定制。●形式：φ650-3500mm，箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，一体机系统。●真空系统：极限真空8X10-5Pa，主泵为复合分子泵低温泵扩散泵可选。●真空测量：配三路数字复合真空计，均采用安全防爆金属测量规。●工件架系统：客户需求定制，转速3～30rpm变频可调，工件盘为球形和行星工件盘可选。●烘烤系统：不锈钢铠装加热器匹配数字功率控制器和PID控制模块，烘烤温度300℃，温控精度1℃，过冲不超过2℃。●电子束蒸发源：E型电子束蒸发源系统（E型）1-2套，主体有屏蔽罩，配置独立高压控制柜。●旋转蒸发源：电动转位和点动转位，配置无氧铜坩埚和石墨坩埚各一套。●电阻蒸发源：2套电阻蒸发源。（选配）●膜厚测试系统：配瑞士inficon石英膜厚在线测量系统， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探头。●离子源辅助沉积系统：一套（选配离子源或高压离子轰击系统）。●控制系统：成熟可靠的真空镀膜控制系统，工业级10英寸触摸屏（工控机）和西门子PLC，能够实现抽真空、工转烘烤、自动充气、自动镀膜、自动冷却放气等镀膜生产流程；支持半自动和手动等镀膜操作方式。水、电、气路有故障自动报警和保护系统，采用声光报警。●说明：根据用户要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备完美匹配。

●本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜， 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜和截止膜等各种膜系镀膜。为满足广大用户的不同需求，我公司可接受多种形式的真空镀膜机的定制要求，包括对真空室体尺寸、真空系统配置、工件夹具系统、工件烘烤系统、膜厚监控系统、蒸发源系统、充气系统、离子源系统以及电气控制系统的特殊定制。1.采用箱式结构，腔体尺寸可以定制，直径350-2600mm，真空系统后置，便于操作和维修；特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。2.设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点，可以选配大型扩散泵系统、分子泵系统、低温泵系统。3.采用不锈钢铠装加热器上烘烤，也可选配红外辐射加热器，烘烤温度均匀，寿命长，可达到烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。4.电阻蒸发、电子束蒸发、有机蒸发、旋转组蒸任意选择，有效匹配，满足不同需求的镀膜工艺。5.工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳可选配行星工件盘或球形工件盘。6.采用瑞士进口石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。7.采用西门子的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。8.具有国内大口径精密光学镀膜机和刻蚀机的核心专利。多年来我公司先后开发了350、450、500、550、630、700、800、900、1100、1250、1300、1500、1800、2200、2500尺寸系列的箱式真空镀膜机。

●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、过渡仓、磁力机械手、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成，同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统，可根据客户使用需求定制。●真空腔体：φ650X700双层水冷；（可根据实际需求定制）●真空系统：分子泵+低温泵+罗茨泵+机械泵复合真空系统；●真空抽速：1600L/S，进口全量程复合真空计，全金属防爆真空规；●极限真空：6.7X10-5Pa；（根据客户选择主泵确定）●磁控靶组件：4个矩形靶，3个圆形靶，根据客户实际需要匹配中频、射频、脉冲直流溅射电源；●离子源：1套线性离子源，匹配专用电源；●气路：4路反应气体，进口质量流量计，1路毛细保护气路；●烘烤温度：300℃，不锈钢铠装加热器，可拆卸快装结构；●工件盘：导轨多工位行星工件盘2套，工件盘装夹移动小车一辆；●控制系统：西门子PLC+西门子人机界面+工业控制计算机。

1. 主体：全封闭框架结构，真空室为前开门方式，机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（SUS304），箱体尺寸为不小于φ350X400mm。设置DN100观察窗口，位于真空腔体门正前方，骨架默认白色（或铝合金本色），门板为白色，四只脚轮，可固定，可移动。室体、真空机组、磁控靶等有断水报警锁定安全装置，能够防止停水后出现安全隐患。2. 真空系统：2.1极限真空度：≤6.63×10－4Pa（空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气）。2.2真空配置：高速直联旋片泵一台，抽速大于6L/S，超高分子泵一台，抽速600L/s。2.3真空测量：两路电阻规，一路电离规；对真空室和真空管道分别精确监控，带数据通讯。3. 工件架系统：单工位4英寸工件盘，工件盘可加热至500摄氏度，工件架真空室底部安装，便于更换基片，转速3～30rpm。4. 照明装置：照明装置1套。5. 磁控溅射系统：配置2-3个Φ50mm磁控靶，安装于真空室顶部，向下溅射成膜。6.充气系统：二路分别配置质量流量控制器，分别为0-100SCCM 1只，0-200SCCM1只，准确度±1% F.S，线性±0.5 % F.S，重复精度±0.2% F.S。7.循环冷却水路：配置冷水机组与空压机。8.电气控制系统：采用功能化模块设计方式，匹配西门子控制单元和MCGS人机界面，实现真空系统的自动控制，基本工作单元的控制，安全报警及故障信息显示，并通过文字方式提示，软件的功能和模块可以根据实际需求进行单列或合并，但不得减少功能。

WELCH VACUUM PUMPWELCH真空泵Welch隔膜真空泵特点：l与气体接触的部位均进行PTFE特氟龙处理，并用碳纤维加固，具有完全的抗化学腐蚀能力l隔膜采用三明治结构，韧性和强度高l带有气压载阀，可随时进行隔膜清洁l不消耗水资源，无需润滑油l体积小，重量轻l使用方便，干净l噪音小，小于44dB(A)l可长时间不间断稳定运行l保养简单，维修方便描述公司介绍Gardner Denver 旗下的威伊真空设备（上海）有限公司（原名：伊尔姆真空设备贸易（上海）有限公司），拥有美国WELCH和德国ILMVAC两个国际高端品牌，他们各有100多年和70多年生产真空设备的历史，因业务发展需要，现已经全部整合为Welch品牌。本公司的主要产品为实验室和工业用真空泵，包括真空活塞泵、真空隔膜泵、真空旋片泵、螺旋泵、涡轮分子泵、液体输送泵等，还有各种真空测量仪、真空控制器、真空蒸馏装置、真空浓缩设备、真空抽吸设备等。本公司产品广泛应用于化学、生物、制药、环保等领域的研发和生产。

湖北锐诚真空科技有限公司从事真空箱式氦检漏，氦检设备，氦检漏设备，氦质谱检漏仪生产、销售，产品销往北京、上海、深圳、西安、成都、天津、河南、江苏等地区。湖北锐诚真空技术有限公司是一家从事真空领域的高新技术企业，公司始终坚持以人为本、追求卓越的理念，造就了团结、合作、创新的学习型团队，构建了高起点，高标准的技术平台，成为集真空设备研发、生产、销售、服务为一体化的现代化科技型企业。主要产品有：真空箱式氦检漏设备，氦质谱检漏仪，sf6气体分析微水仪，sf6简易抽空充气设备，sf6检漏仪，LNG抽真空设备，非标真空设备。公司在浙江，北京，设有售后办事处，解决客户售后的后顾之忧。

●2300℃高真空高温炉，可定制2800℃高温炉，主要用于结构陶瓷、复合材料、碳化钨等材料真空高温烧结、退火、回火工艺，也可通入保护气氛进行烧结，可用于科学实验和中小批量生产。●本设备可选用石墨加热器、钨钼加热器，底部烧结，顶部出料；●采用上提拉机构，并安装有自锁装置，确保操作安全方便可靠；●选用洁净高真空分子泵系统，能确保油分子不对材料制备和处理产生不良影响；●炉壳为双层水冷，选用SUS304优质不锈钢焊接成型，并机械抛光后辅助电解抛光；●先进的温场和控制工艺，升温速度快，受热均匀，温控精度±1℃，过冲不超过2℃；●控制系统为触摸屏+西门子PLC控制单元，具有工艺配方管理系统；●可选用质量流量计控制烧结气氛，同时通入热传导气体一定程度上控制降温速率；●一体化的设计能够占用较小面积达到较好实验条件。

COMECTA真空泵VACUM-10 PaCOMECTA真空泵VACUM-10 Pa真空设备配件,用于VACIOTEM-T和VACIOTEM-TV带止回阀的旋转静脉泵可防止油回流,适用于一般实验室应用.具有电机过热保护切断 功能和主开关.推荐用于“VACIOTEM T 和TV” 和干燥器“VACUO-TEMP”产品特点耐热纹理和内部接头吸入口法兰:直径16 mm 高油量和外力润滑排气过滤器和镇流器减震器已安装没有振动低噪声水平(62db)Z高工作温度 40 °C. 便携式,有提手COMECTA真空泵VACUM-10 Pa真空设备配件,用于VACIOTEM-T和VACIOTEM-TV带止回阀的旋转静脉泵可防止油回流,适用于一般实验室应用.具有电机过热保护切断 功能和主开关.推荐用于“VACIOTEM T 和TV” 和干燥器“VACUO-TEMP”图片和文字信息来源：武汉提沃克科技有限公司

SELECTA Vacuo-Temp真空加热台，有称作真空干燥器，其Z高加热温度为170℃；如图有玻璃钟罩，利用硅胶密封圈密封，真空度可以达到10的负二次方mm Hg。如图四，加热台后方有气阀，可以关闭和开启来控制真空泵。真空泵采用旋片式真空泵，为选配部件，静音效果显著。另外真空泵和加热台之间还有VACIOTEM-TV 真空设备配件；该配件有防止油体回流功能..... SELECTA Vacuo-Temp真空加热台产品介绍：SELECTA Vacuo-Temp真空加热台，有称作真空干燥器，其zui高加热温度为170℃；如图有玻璃钟罩，利用硅胶密封圈密封，真空度可以达到10的负二次方mm Hg。如图四，加热台后方有气阀，可以关闭和开启来控制真空泵。真空泵采用旋片式真空泵，为选配部件，静音效果显著。另外真空泵和加热台之间还有VACIOTEM-TV 真空设备配件；该配件有防止油体回流功能.

●形式：箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，沉积腔采用SUS304真空氩弧焊成型不，一体机系统，可连接单排双工位手套箱，中间用DN150超高真空插板阀隔断。●真空系统：极限真空5X10-4Pa，主泵为复合分子泵，抽速600L/S,前级泵配置直联泵，主阀匹配。●真空测量：配数字复合真空计，均采用防爆金属测量规。●工件架系统：客户需求定制，可放入4英寸掩模版，转速3～30rpm变频可调。●烘烤系统：匹配数字功率控制器和PID控制模块，*高烘烤温度300℃。●电阻蒸发源：水冷电极引入，2套电阻蒸发源，蒸发功率5KW，配置8KWE型电子枪1套，膜厚测试系统。匹配石英膜厚仪，可与挡板联动。●控制系统：成熟可靠的真空镀膜控制系统，工业级10英寸触摸屏和西门子PLC，能够实现抽真空、工转烘烤、自动冷却放气等镀膜生产流程；支持半自动和手动等镀膜操作方式。水、电、气路有故障自动报警和保护系统，采用声光报警。●辅助系统：配置冷水机1台，空压机1台。●说明：本系统含单排双工位手套箱1台，单边4个手套，有效长度1.8米。

手持测量仪和压力表——TPG 201/202直接连接工艺腔体显示真空度电池供电的手持测量仪 TPG 201 和 202 可便于真空度的显示和存储。TPG 201 根据热传导原理（皮拉尼）进行工作。此外，TPG 202 具有不受气体种类影响的用于高压力范围的压阻压力传感器。根据不同的设备，手持测量仪覆盖 1,200 hPa 至 5 10-4 hPa 之间的压力范围。手持测量仪配有显示屏，使压力可以在仪器上直接读出。可以使用软件“DokuStar”通过 USB 接口读取测量值。提供便携箱作为可选配件。这些机械式压力表对于真空室通风特别有帮助。它们显示相对于环境压力的压力，标度为从 -1 至 0.6 bar，并且无需供电。使客户受益的手持测量仪的优点用于初真空和中真空测量的紧凑式手持测量仪数据记录功能通过 USB 接口将数据传输到个人电脑通过电池或稳压电源供电配件便携箱不受气体种类影响的超过 10 hPa 的压力测量（仅 TPG 202）精确的大气压力显示（仅 TPG 202）使客户受益的压力表的优点稳固的低真空显示可加热且超高真空适用耐腐蚀即使在停电时也可显示压力典型应用真空泵和真空设备的维护和维修分析仪器和实验室仪器的检查机械压力表的更换用于研究和开发

●该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供全手动操作控制系统。

一、产品概述真空油，又称分子泵油。一种专门为真空设备上的真空泵而研制的润滑油，分矿物油和合成油两种。通常用于分子泵或者真空泵上，真空油和一般机油有很大的差别。要根据设备制造商用油规定，选用适当使用性能和粘度等级的真空油。二、产品特点 1、抗乳化性能好，能迅速将油液中夹带的水分分离出来，达到所需的真空度。2、高闪点，使真空泵中不携带轻质组分。3、抗腐蚀性能好，真空泵不易与油发生反应产生腐蚀气体。4、耐温，油不容易挥发，从而保持良好真空度。5、具备优异的密封效果，有效防止气体泄漏，确保真空泵在高压差下也能稳定运行。6、润滑性强，确保泵内部件运转顺畅，减少磨损，有效延长真空泵的使用寿。7、真空泵油具有很好的氧化稳定性，真空泵油能减少有害漆膜和油垢形成，提供较长换油周期。三、产品参数产品型号真空泵油68# 1L（常规）真空泵油68# 1L（高端）真空泵油68# 4L（常规）真空泵油68# 4L（高端）产品容量（L)1L1L4L4L 比重0.850.850.850.85粘度系数68686868闪点（℃)开口255265255265倾点（℃）＜-15＜-18＜-15＜-18保质期五年五年五年五年储存条件干燥阴凉通风干燥阴凉通风干燥阴凉通风干燥阴凉通风产品尺寸（L×W×H）125×66×19088×88×226168×105×261168×105×261重量（kg）0.90.93.43.4

仪器简介：真空泵是提高过滤效率、加强脱气效果的重要过滤配套设备。为保障过滤介质不被污染，一般均使用无油隔膜式真空泵。此类泵型的真空压力一般在0.08 Mpa左右（单级）。提高过滤速度关键是单位时间内的排气量，即真空泵的流量指标，在过滤量大、介质粘度高时颗粒堵塞滤膜情况下尤显突出。 真空泵的使用寿命，除取决于正确的使用方法外（如减少人为的连续开机，防止溶剂抽入泵体等），主要还在于电机功率合理和真空膜的设计形式及抗疲劳性。技术参数： HPD系列 型号　流量L/min　压力Map　功率W　外形尺寸mm　应用范围 HPD-25　　25　　-0.08　　　50　245×135×245　过滤、固相萃取等 HPD-25D25可调　-0.08　　　50　245×135×245　过滤、固相萃取等(25D为流量可调) HPD-50　　50　　-0.08　　　60　280×140×220　过滤、真空干燥、浓缩正压过滤 HPD-25A　25　　-0.1　　　　60　280×140×220　过滤、真空干燥、浓缩正压过滤主要特点： HPD系列无油真空泵专为实验室各种需要真空设备配套设计。可用于真空浓缩、真空过滤、真空干燥等场合。具有如下特点： 1.提供充足的电机动力，减少电机发热。 2.真空膜采用耐油性、抗疲劳性良好的优质橡胶，并附有加强纺织骨架夹层，厚度为3mm，使用寿命大大提高。 3.双级泵头压力可接近0.1Mpa，也可使用大流量结构方式。 4.效率高、噪音小，可选配调压形式和排气阀配置。

应用领域● 实验室的日常高纯原料的真空密封● 工厂批量进行试管的密封● 石英玻璃试管真空密封● 硼酸盐玻璃真空密封产品特点及优势●拥有石英管真空设备及相关设备1项发明*利，3种实用新型*利，3种外观*利●设备有单工位，双工位，三工位封口机可供选择●采用半自动化封装流程，操作更方便，效率更高，实验更安全●采用自主设计的磁流体旋转密封技术，旋转的同时能保持高真空度。其密封性高，泄漏率低，工作寿命长●采用新型的电解水制气，即产即用，燃烧之后无污染，安全环保，成本比*炔瓶降低一半●可选配自主设计的地面式分子泵组或桌面式分子泵组，整体真空系统可实现≦5x10-5Pa真空度●采用自主设计的氢氧机，产气速率达到600L/H，火焰温度高达2800℃，烧结效率更高

仪器简介：HP系列无油真空泵隔膜真空泵简介： 真空泵是提高过滤效率，加强脱气效果的重要过滤配套设备。为保障过滤介质不被污染，一般均使用无油隔（膜式）真空泵。此类泵型的真空压力一般在0.08Mpa左右（单级），而提高过滤速度关键是单位时间内排气量，即真空泵的流量指标。在过滤量大，介质粘度高，颗粒堵塞滤膜场合尤显突出。 真空泵的使用寿命，除取决于正确的使用方法外（如减少无为的连续开机防止溶剂抽入泵体等）主要还在于电机功率合理和真空膜的设计形式及抗疲劳性。 HPD系列无油真空泵：专为试验室各种需要真空设备配套设计。可用于真空浓缩、真空过滤、真空干燥等场合。 真空泵系列： DP-01 无油真空泵 DL-01真空过滤器（流动相过滤装置 带泵） HP-01无油真空泵 HP-01D 无油真空泵 HPD-25无油真空泵 HPD-25D无油真空泵 HPD-50无油真空泵技术参数：HP-01无油真空泵/隔膜真空泵技术参数：型号 流量（L/min） 压力（Map） 功率(W) 应用范围 HP-01 10 0.085 20 流动相过滤 HP-01D 10 0.085 20 流动相过滤主要特点：HP-01无油真空泵隔膜真空泵主要特点： 1. 小巧实用、操作简便、效率高、噪音低2.真空膜采用耐油性、抗疲劳性良好的优质橡胶，并附有加强纺织骨架夹层，厚度为3mm，使用寿命大大提高。 3. 提供足够的电机动力，减少电机发热。4.可选配调压形式和排气阀配置。HP-01无油真空泵：主要为溶剂过滤器而配套设计。该泵小巧实用、操作简便、效率高、噪音低。

ZKB-1A手提无油活塞真空泵 一、概述手提式无油活塞真空泵是一种品质优秀、性能卓越、可靠性高且价格合理的便携式真空设备，主要应用于医疗医药产品分析、精细化工、生化制药、食品检验、公安刑侦分析等领域，尤其适用于滤膜法微生物测定，是实验室必备装备之一。二．工作原理：（1）该设备不适合在易燃、易爆气体的场合使用。（2)工作制为间歇加载的连续运行，最长连续工作时间为30分钟，持续率50％。（3）采用单向型无油活塞泵作负压源，无油雾污染；（4）设备运行中压力系统内不会产生正压；（5）负压凋节，系统可根据被抽液体的粘稠度作无级调压；（6）塑料外壳，贮液瓶采用透明硬质PC塑料。三、性能参数性能参数手提式无油活塞真空泵外形尺寸(mm)450× 200× 320极限负压值(MPa)&ge 0.08 (高负压)抽气速率(L／min)&ge 22噪声(dB)&le 60贮液瓶容量(m1)1000，（ 另有2000、3000、4000供选择）重量(Kg)4.5熔丝管RF1 &phi 5× 20mm/0.5A电源～220v± 10％， 50Hz

循环水多用真空泵SHD-B95是在SHB-B95型泵的基础上改进而成的大抽气量泵,设有新型的分水器,具有多头喷射, 曾大抽气量是实验室的理想抽真空设备,主机采用不锈钢件,即耐腐蚀不生锈,延长使用寿命,不污染水源等作用。主要特点: 1.一机单表多管作业,设有五个抽头,可单独或并联使用。2.耐腐蚀、无污染、运转稳定，噪音低、寿命长。 3.主机泵体,叶轮分水器,为不锈钢材质。 4.B95型循环水式多用真空泵。外壳采用不锈钢材质，防止了外壳使用长久考漆脱落、 生锈、腐蚀的弊端，延长了本机的使用寿命。

产品描述： ZK-26真空泵是提高过滤效率、加强脱气效果的重要过滤配套设备。为保障过滤介质不被污染，一般均使用无油隔膜式真空泵，此类泵型是通过橡胶膜片的往返运动形成真空，其真空压力一般为0.08 Mpa左右（单级）。ZK-26无油真空泵：专为试验室各种需要真空设备配套设计。可用于真空浓缩、真空过滤、真空干燥等场合。产品特点：1.提供足够的电机动力，减少电机发热。2.真空膜采用耐油性、抗疲劳性良好的优质橡胶，并附有加强纺织骨架夹层，厚度为3mm，使用寿命大大提高。3.小巧实用、操作简便、效率高、噪音低。4.可选配调压形式和排气阀配置。 产品技术参数： 型号ZK-26/25ZK-26/100流量26L/min,真空度0.08MPA负压调节范围0-0.08MPA过滤瓶容量250ml1000ml电压AC 220V/110V 50HZ/60HZ功率60W 注意事项：提高过滤速度关键是单位时间内的排气量，即真空泵的流量指标，在过滤量大、介质黏度高时颗粒堵塞滤膜情况下尤显突出。真空泵的使用寿命，除取决于正确的使用方法外（如减少无为的连续开机；防止溶液抽入泵体等），主要还在于电机功率合理和真空膜的设计形式及抗疲劳性。

仪器简介：真空泵是提高过滤效率、加强脱气效果的重要过滤配套设备。为保障过滤介质不被污染，一般均使用无油隔膜式真空泵。此类泵型的真空压力一般在0.08 Mpa左右（单级）。提高过滤速度关键是单位时间内的排气量，即真空泵的流量指标，在过滤量大、介质粘度高时颗粒堵塞滤膜情况下尤显突出。 真空泵的使用寿命，除取决于正确的使用方法外（如减少人为的连续开机，防止溶剂抽入泵体等），主要还在于电机功率合理和真空膜的设计形式及抗疲劳性。技术参数： HPD系列 型号　流量L/min　压力Map　功率W　外形尺寸mm　应用范围 HPD-25　　25　　-0.08　　　50　245×135×245　过滤、固相萃取等 HPD-25D25可调　-0.08　　　50　245×135×245　过滤、固相萃取等(25D为流量可调) HPD-50　　50　　-0.08　　　60　280×140×220　过滤、真空干燥、浓缩正压过滤 HPD-25A　25　　-0.1　　　　60　280×140×220　过滤、真空干燥、浓缩正压过滤主要特点： HPD系列无油真空泵专为实验室各种需要真空设备配套设计。可用于真空浓缩、真空过滤、真空干燥等场合。具有如下特点： 1.提供充足的电机动力，减少电机发热。 2.真空膜采用耐油性、抗疲劳性良好的优质橡胶，并附有加强纺织骨架夹层，厚度为3mm，使用寿命大大提高。 3.双级泵头压力可接近0.1Mpa，也可使用大流量结构方式。 4.效率高、噪音小，可选配调压形式和排气阀配置。

仪器简介：HPD系列无油真空泵简介： 真空泵是提高过滤效率，加强脱气效果的重要过滤配套设备。为保障过滤介质不被污染，一般均使用无油隔（膜式）真空泵。此类泵型的真空压力一般在0.08Mpa左右（单级），而提高过滤速度关键是单位时间内排气量，即真空泵的流量指标。在过滤量大，介质粘度高，颗粒堵塞滤膜场合尤显突出。 真空泵的使用寿命，除取决于正确的使用方法外（如减少无为的连续开机防止溶剂抽入泵体等）主要还在于电机功率合理和真空膜的设计形式及抗疲劳性。 HPD系列无油真空泵：专为试验室各种需要真空设备配套设计。可用于真空浓缩、真空过滤、真空干燥等场合。 真空泵系列： DP-01 无油真空泵 DL-01真空过滤器（流动相过滤装置 带泵） HP-01无油真空泵 HP-01D 无油真空泵 HPD-25无油真空泵 HPD-25D无油真空泵 HPD-50无油真空泵技术参数：HPD-25D无油真空泵（可调）技术参数： 型号 流量（L/min） 压力（Map） 功率(W) 应用范围 HPD-25无油真空泵 25 0.08 50 过滤、固相萃取等 HPD-25D无油真空泵 25 0.08 过滤、固相萃取等 HPD-25A无油真空泵 25 0.1 60 过滤、真空干燥、浓缩正压过滤 HPD-50无油真空泵50 0.08 60 过滤、真空干燥、浓缩正压过滤主要特点：HPD系列无油真空泵（可调）的主要特点： 1.提供足够的电机动力，减少电机发热2.真空膜采用耐油性、抗疲劳性良好的优质橡胶，并附有加强纺织骨架夹层，厚度为3mm，使用寿命大大提高3.小巧实用、操作简便、效率高、噪音低4.可选配调压形式和排气阀配置。

立式循环水真空泵【所属分类】循环水真空泵【产品属性】真空泵,立式,循环水【使用场景】实验室、制药公司、学校【适用物料】用于蒸发、蒸馏、分离化学品【产品简介】SHZ立式循环水真空泵是以循环水为工作流体，采用射流技术产生负压而设计的一种新型真空抽气泵，它不仅是一种真空抽气装置，同时还能向反应装置中提供循环冷却水，该泵具有不用油、无污染耐腐蚀、噪音低、方便灵活等特点。材料采用防腐机芯和不锈钢机芯两种型号，立式电机，泵体直接潜入水下，不需加引水，一机多用。广泛应用于蒸发、蒸馏、结晶、过滤、脱气等工况领域。功能及特点• 内外循环水系统，尽可能多的节约水资源。• 配套消音装置，减少气液摩擦造成的水内气泡，真空更高更稳定，降低噪音。• 本机采用单表多抽头，可单独或并联使用，并联可满足大容量真空设备需求。• 泵头采用PP或不锈钢材质，适用于不同工作环境。• 可用于抽取腐蚀性气体，外循环阀可实现便捷快速的切换循环水已保证有效真空度。• 耐腐蚀、无污染、噪音低、移动方便，还可以根据用户需要加装真空调节阀。产品详情

●该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供全手动操作控制系统。形式：箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，一体机系统。●真空系统：极限真空5X10-4Pa，主泵为复合分子泵。●真空测量：配三路数字复合真空计，均采用安全防爆金属测量规。●工件架系统：客户需求定制，配置可扩展4英寸、3英寸、2英寸基片的专用互换工装，转速3～30rpm变频可调，工件盘为球形和行星工件盘可选，行星工件盘成本较高。●烘烤系统：不锈钢铠装加热器匹配数字功率控制器和PID控制模块，烘烤温度300℃，温控精度1℃，过冲不超过2℃。●电子束蒸发源：E型电子束蒸发源系统(E型)1套，主体有屏蔽罩，单枪、单电源、单扫描，配置独立高压控制柜。●坩埚：坩埚1套，电动转位和点动转位，配置无氧铜坩埚和石墨坩埚各一套。●电阻蒸发源：2套电阻蒸发源。（选配）●膜厚测试系统：配瑞士inficon石英膜厚在线测量系统， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探头。●离子源辅助沉积系统：一套（选配离子源或高压离子轰击系统）●控制系统：成熟可靠的真空镀膜控制系统，工业级10英寸触摸屏和西门子PLC，能够实现抽真空、工转烘烤、自动充气、自动镀膜、自动冷却放气等镀膜生产流程；支持半自动和手动等镀膜操作方式。水、电、气路有故障自动报警和保护系统，采用声光报警。●说明：根据用户要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备完美匹配。