反射薄厚仪

1．金属膜反射镜:A镀铝膜反射镜: 命名规则:OMAlxxx(直径)-xx(厚度)P(保护)E(增强)UVE(紫外增强型)铝膜的特性铝膜的特性: ◆反射特性曲线平坦,波长范围较宽,反射率高,价格便宜  ◆反射率受波长及入射角变化的影响小  ◆膜表面的机械硬度都不高,保护铝膜(Al+MgF2)可用含有有机溶剂的棉棒清洁，但纯铝膜(普通铝膜)，比较软,不可擦拭,需要定期更换 ◆不适用于强激光 铝膜的反射率指标（供参考）种类200 ～ 400nm400 ～ 700nm700 ～ 1000nm1 ～ 10&mu mAl&ge 85% (平均值)&ge 90% (平均值)&ge 90% (平均值)&ge 95% (平均值)Al+MgF2(保护铝) &ge 85% (平均值)&ge 80% (平均值)&ge 95% (平均值) 1)铝膜及保护铝膜反射镜选型表OMAL系列镀铝膜反射镜型号名称面精度直径厚度OMAL20-4镀铝膜反射镜&lambda /4&phi =20mmT=4OMAL25-4镀铝膜反射镜&lambda /4&phi =25mmT=4OMAL25.4-4镀铝膜反射镜&lambda /4&phi =25.4mmT=4OMAL30-4镀铝膜反射镜&lambda /4&phi =30mmT=4OMAL50-6镀铝膜反射镜&lambda /4&phi =50mmT=6OMAL20-4P保护铝膜反射镜&lambda /4&phi =20mmT=4OMAL25-4P保护铝膜反射镜&lambda /4&phi =25mmT=4OMAL25.4-4P保护铝膜反射镜&lambda /4&phi =25.4mmT=4OMAL30-4P保护铝膜反射镜&lambda /4&phi =30mmT=4OMAL50-4P保护铝膜反射镜&lambda /4&phi =50mmT=6注:增强铝膜反射镜和紫外增强铝膜反射镜可批量定制或选择我公司代理的进口产品.2)增强铝膜及紫外增强铝膜反射镜（进口）选型表：EAV-PM系列增强铝膜反射镜（CVI Melles Griot）型号名称面精度直径（mm）厚度（mm）EAV-PM-0537-C增强铝膜反射镜&lambda /1012.79.5EAV-PM-1037-C增强铝膜反射镜&lambda /1025.49.5EAV-PM-2037-C增强铝膜反射镜&lambda /1050.89.5PAUV-PM系列紫外增强铝膜反射镜（CVI Melles Griot）型号名称面精度直径（mm）厚度（mm）PAUV-PM-0537-C紫外增强铝膜反射镜&lambda /1012.79.5PAUV-PM-1037-C紫外增强铝膜反射镜&lambda /1025.49.5PAUV-PM-2037-C紫外增强铝膜反射镜&lambda /1050.89.5B.镀银膜反射镜:1)OMAg系列保护银膜反射镜: 命名规则: OMAgxxx(直径)-xx(厚度)P(保护) 保护银膜反射率参考曲线OMAg系列镀银膜反射镜型号名称面精度直径厚度OMAg20-4P保护银膜反射镜&lambda /4&phi =20mmT=4OMAg25-4P保护银膜反射镜&lambda /4&phi =25mmT=4OMAg25.4-4P保护银膜反射镜&lambda /4&phi =25.4mmT=4OMAg30-4P保护银膜反射镜&lambda /4&phi =30mmT=4OMAg50-6P保护银膜反射镜&lambda /4&phi =50mmT=62)保护银膜反射镜（进口）反射曲线： PS-PM系列保护银膜反射镜（CVI Melles Griot）选型表：型号名称面精度直径（mm）厚度（mm）PS-PM-0537-C保护银膜反射镜&lambda /1012.79.5PS-PM-1037-C保护银膜反射镜&lambda /1025.49.5PS-PM-2037-C保护银膜反射镜&lambda /1050.09.5PS-PM-4050-C保护银膜反射镜&lambda /10101.612.7 C.镀金膜反射镜: 命名规则:OMAuxxx(直径)-xx(厚度)P(保护)镀金膜反射镜反射率参考曲线: 镀金膜的反射特性(供参考):带域可见光可见光可见光可见光可见光可见光红外红外红外红外波长 (nm)450500550600650700750800850900Au膜反射率(%)32456880868992949596带域红外红外红外红外红外红外红外红外红外红外波长 (nm)9501000150020002500300040005000550010000Au膜反射率(%)97989898989898989898OMAu系列镀金膜反射镜选型表：OMAu20-4镀金膜反射镜&lambda /4&phi =20mmT=4OMAu25-4镀金膜反射镜&lambda /4&phi =25mmT=4OMAu25.4-4镀金膜反射镜&lambda /4&phi =25.4mmT=4OMAu30-4镀金膜反射镜&lambda /4&phi =30mmT=4OMAu50-6镀金膜反射镜&lambda /4&phi =50mmT=6　　　　　OMAu20-4P保护金膜反射镜&lambda /4&phi =20mmT=4OMAu25-4P保护金膜反射镜&lambda /4&phi =25mmT=4OMAu25.4-4P保护金膜反射镜&lambda /4&phi =25.4mmT=4OMAu30-4P保护金膜反射镜&lambda /4&phi =30mmT=4OMAu50-6P保护金膜反射镜&lambda /4&phi =50mmT=6D.其他金属膜反射镜离轴抛物面反射镜（镀铑膜） 尺寸对照表及选型表(CVI)：

2.介质膜反射镜A.介质膜激光反射镜：1)OML系列介质膜激光反射镜 命名规则:OML直径-波长-厚度OML系列激光反射镜选型表：型号名称面精度直径（mm)厚度(mm)入射角( ° )OML25.4-355-6.35355nm反射镜&lambda /10&phi =25.4T=6.3545OML20-441-4441nm反射镜&lambda /4&phi =20T=445OML25-441-4441nm反射镜&lambda /4&phi =25T=445OML25.4-441-4441nm反射镜&lambda /4&phi =25.4T=445OML30-441-5441nm反射镜&lambda /4&phi =30T=545OML50-441-5441nm反射镜&lambda /4&phi =50T=545OML20-488-4488nm反射镜&lambda /4&phi =20T=445OML25-488-4488nm反射镜&lambda /4&phi =25T=445OML25.4-488-4488nm反射镜&lambda /4&phi =25.4T=445OML30-488-5488nm反射镜&lambda /4&phi =30T=545OML50-488-5488nm反射镜&lambda /4&phi =50T=545OML20-532-4532nm反射镜&lambda /4&phi =20T=445OML25-532-4532nm反射镜&lambda /4&phi =25T=445OML25.4-532-4532nm反射镜&lambda /4&phi =25.4T=445OML30-532-5532nm反射镜&lambda /4&phi =30T=545OML50-532-5532nm反射镜&lambda /4&phi =50T=545OML20-633-4632.8nm反射镜&lambda /4&phi =20T=4452)紫外（深紫外）介质膜激光反射镜（进口）说明： 1.激光介质膜反射镜是一种在面精度为&lambda /10 的BK7 基板上，顺序镀上不同折射率的多层电介质膜的全反射镜。 2.此种膜层比Al+ 氟化镁(MgF2)膜更耐强激光，面精度是镀膜前的反射面的面精度。 3.入射角度为45° ± 3° ，平行度&le 3&prime 。 曲线图：TFM系列紫外（含深紫外）激光波长介质膜反射镜（SIGMA）选型表：

B.宽带介质膜反射镜(Optical Mirror: Broadband) 1)OMB系列宽带介质膜反射镜 命名规则:OMB直径-波长1波长2(取微米数)-厚 度 曲线图： OMB系列宽带介质膜激光反射镜(波长范围400~700nm)选型表：型号名称面精度直径（mm）厚度（mm）OMB20-0407-4400~700nm宽带反射镜&lambda /8&phi =20T=4OMB25-0407-4400~700nm宽带反射镜&lambda /8&phi =25T=4OMB25.4-0407-4400~700nm宽带反射镜&lambda /8&phi =25.4T=4OMB30-0407-4400~700nm宽带反射镜&lambda /8&phi =30T=4OMB50-0407-4400~700nm宽带反射镜&lambda /8&phi =50T=42)紫外宽带介质膜反射镜（进口） 曲线图： MPQ-245-390系列紫外宽带介质膜反射镜（CVI Melles Griot）选型表：型号名称面精度直径（mm）厚度（mm）MPQ-245-390-1206M紫外宽带介质膜反射镜&lambda /412.56MPQ-245-390-2506M紫外宽带介质膜反射镜&lambda /425.06MPQ-245-390-5010M紫外宽带介质膜反射镜&lambda /450.0103)红外宽带介质膜反射镜(进口) 1480～1550nm产品反射曲线图(0～45° )： BLD-PM系列红外宽带介质膜反射镜（CVI Melles Griot）选型表： 型号名称波长范围（nm）面精度直径（mm）厚度（mm）BLD1-PM-1037-C红外宽带介质膜反射镜670~905&lambda /1025.49.5BLD2-PM-1037-C红外宽带介质膜反射镜1200~1310&lambda /1025.49.5BLD3-PM-1037-C红外宽带介质膜反射镜1408~1550&lambda /1025.49.5C. 超宽带介质膜反射镜（进口）曲线图：相关参数： 材料：BK7 面精度：&lambda /10 平行度：&le 3&prime 反面状态：光面 入射角：45± 3° TFMS系列超宽带介质膜反射镜（SIGMA）选型表：型号名称波长范围（mm）反射率（％）直径（mm）厚度（mm）TFMS-25.4C05-2-4超宽带介质膜反射镜245～400平均值&ge 9725.45TFMS-30C05-2-4超宽带介质膜反射镜245～400平均值&ge 97305TFMS-25.4C05-2-7超宽带介质膜反射镜245～700平均值&ge 9725.45TFMS-30C05-2-7超宽带介质膜反射镜245～700平均值&ge 97305TFMS-25.4C05-4-11超宽带介质膜反射镜400～1100平均值&ge 9825.45TFMS-30C05-4-11超宽带介质膜反射镜400～1100平均值&ge 98305TFMS-50C08-4-11超宽带介质膜反射镜400～1100平均值&ge 98508TFMS-25.4C05-4-20超宽带介质膜反射镜400～2000平均值&ge 9825.45TFMS-30C05-4-20超宽带介质膜反射镜400～2000平均值&ge 98305TFMS-50C08-4-20超宽带介质膜反射镜400～2000平均值&ge 98508TFMS-25.4C05-3-20超宽带介质膜反射镜300～2000平均值&ge 9725.45TFMS-30C05-3-20超宽带介质膜反射镜300～2000平均值&ge 97305TFMS-50C08-3-20超宽带介质膜反射镜300～2000平均值&ge 97508

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

QUASAR-R100 是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器，操作简单，极易上手，应用广泛，快速准确的提供各种薄膜厚度的测量，如氧化物、氮化物、多晶硅、非晶硅、聚酰亚胺、透明导电层、光刻胶等介质薄膜、半导体薄膜以及各种涂层。产品特点 多参数测量可测量材料厚度、折射率（Refractive Index）、 消光系数（Extinction Coefficient）和反射率。 各种形状样品测量可测量例如4~8英寸的晶圆、方形样品或其他各种不规则形状样品。 软件功能丰富友善的用户界面以及灵活丰富的软件功能，各种丰富的数据分析及查看功能。 简单、易用测量流程简单，用户极易上手建立测量程式。 产品参数 ★Si基底上对厚度约500nm的SiO2薄膜样品连续测量30次数据的标准偏差 定制功能可根据客户需求搭配自动运动平台可根据客户需求配置小光斑

一、概述 SR-C 紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 是膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 配置灵活、支持定制化二、产品特点■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖深紫外到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

反射光谱膜厚仪SD-SR-100是一款专为薄膜厚度测量而设计的先进仪器。以下是对该产品的详细介绍：1. 测量范围与精度： - 该仪器能够测量从2纳米到3000微米的薄膜厚度，具有高达0.1纳米的测量精度。2. 测量功能： - 在折射率未知的情况下，SD-SR-100不仅可以测量薄膜的厚度，还能同时测量其折射率。 - 可用于测量半导体镀膜、手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚、LED镀膜厚度、建筑玻璃镀膜厚度等多种应用场景。3. 测试原理： - 利用薄膜干涉光学原理进行厚度测量及分析。通过从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线，并根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。4.软件支持： - 配备易于安装和操作的基于视窗结构的软件，界面友好，操作简便。 - 软件功能强大，支持多层膜厚的测试，并可对多层膜厚参数进行测量。 - 提供大量的光学常数数据及数据库，支持多种折射率模型，如Cauchy, Cauchy-Urbach, Sellmeier等。5. 特点与优势： - 先进的光学设计和探测器系统，确保系统性能优越和快速测量。 - 光源设计独特，具有较好的光源强度稳定性。 - 提供多种方法来调整光的强度，以满足不同测量需求。 - 配备微电脑控制系统，大液晶显示和PLC操作面板，便于用户进行试验操作和数据查看。 - 支持自动和手动两种测量模式，以及实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据。6. 应用领域： - 广泛应用于医疗卫生、生物产业、农业、印刷包装、纺织皮革等多个行业，特别是在薄膜分析领域表现出色。综上所述，反射光谱膜厚仪SD-SR-100凭借其高精度、多功能和广泛的应用领域，成为薄膜厚度测量领域的理想选择。

产品特点： ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格： 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch（电子制冷）CCD 512ch（电子制冷）PDA 512ch（电子制冷）光源规格D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）12（可见光）电源规格AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）重量约96kg（自动样品台规格之主体部分） 应用范围： FPD -LCD、TFT、OLED（有机EL）半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围： 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

产品特点： ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格： 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch（电子制冷）CCD 512ch（电子制冷）PDA 512ch（电子制冷）光源规格D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）12（可见光）电源规格AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）重量约96kg（自动样品台规格之主体部分） 应用范围： FPD -LCD、TFT、OLED（有机EL）半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围： 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

反射膜厚仪RM 1000和RM 2000反射膜厚仪RM 1000/2000具有200nm-930nm的紫外-近红外光谱范围。光学布局为光吞吐量优化，以便即使在粗糙或曲面上也能可靠地测量n和k。精确的高度和倾斜特别适用于精确的单光束反射率测量，且测量非常稳定。 扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量，光学布局的高光导允许对n和k进行重复测量，对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。 紫外-近红外光谱范围RM 1000 430?nm?–?930?nmRM 2000 200?nm?–?930?nm 高分辨率自动扫描反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。 反射膜厚仪RM 1000和RM 2000测量具有光滑或粗糙表面的平坦或弯曲样品的反射率。利用SENTECH FTPadv Expert软件计算单层或层叠膜的厚度、消光系数和折射率指数。在紫外-可见光- 近红外光谱范围内，可以分析5nm～50μm厚度的单层膜、层叠膜和基片。 RM 1000和RM 2000代表高端SENTECH反射仪。台式装置包括高度稳定的光源、具有自动准直透镜和显微镜的反射光学部件、高度和倾斜可调的样品台、光谱光度计和电源。它可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。 除了膜厚和光学常数之外，我们的反射仪还可以测量薄膜(例如，AlGaN on GaN，SiGe on Si)、防反射涂层(例如，纹理硅太阳能电池上的防反射涂层、紫外敏感GaN器件上的防反射涂层)，以及小型医用支架上的防反射涂层。该反射仪支持在微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等领域的应用。

产品简介：SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。 产品型号SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪主要特点1、光学薄膜测量解决方案2、非接触、非破坏测量3、覆盖单层到多层薄膜4、核心算法覆盖薄膜到厚膜5、配置灵活、支持定制化6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便8、基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层9、配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息技术参数型号SR-CVSR-CN基本功能获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱光谱波长范围380-800nm650-1100nm测量厚度范围50nm-20um100nm-200um测量时间1s光斑尺寸0.5-3mm重复精度0.1nm（100nmSiO2/Si）绝对精度±1nm or 0.5%入射角方式垂直入射可选配件1温控台2Mapping扩展模块3真空泵

一、概述 SR-Mapping 系列利用反射干涉的原理进行无损测量，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，同时搭配R-Theta位移台，兼容6到12寸样品，可以对整个样品进行快速扫描，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息，并对于膜厚均匀性做出评价。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 全自动测量，测量点数跟位置在Recipe中可根据需要编辑 ■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖紫外可见光到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

仪器介绍 Delta薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。Delta根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。产品特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用案例应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等）技术参数型号Delta-VISDelta-DUVDelta-NIR波长范围380-1050nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um1nm-30um10um-3mm准确度12nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸22mm2mm2mm是否能在线是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选注：1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。 2.可选微光斑附件。

1. 产品概述RM 1000 和 RM 2000 光谱反射仪可测量表面光滑或粗糙的平面或弯曲样品的反射率。使用SENTECH FTPadv Expert软件计算单膜或层叠的厚度、消光系数和折射率。厚度分别为 2 nm 和 50 μm （RM 2000） 或 100 μm （RM 1000） 的单片、层叠和基板可以在 UV-VIS-NIR 光谱范围内进行分析。2. 主要功能与优势突破折光率测量的限SENTECH反射仪通过样品的高度和倾斜调整以及光学布局的高光导率，具有精密的单光束反射率测量功能，允许对n和k进行可重复的测量，在粗糙表面上进行测量，以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。紫外到近红外光谱范围RM1000 410 纳米 – 1000 纳米RM2000 200 纳米 – 1000 纳米高分辨率映射RM 1000 和 RM 2000 反射仪可选配 x-y 成像台和成像软件以及用于小光斑尺寸的物镜。3. 灵活性和模块化SENTECH RM 1000 和 RM 2000 代表我们的反射仪。桌面设备包括高度稳定的光源、带有自动准直望远镜和显微镜的反射光学器件、摄像机、高度和倾斜度可调的样品平台、光谱光度计和电源。它可以选配 x-y 成像台和成像软件，以及用于第二种光斑尺寸的物镜。除了薄膜厚度和光学常数外，薄膜的组成（例如氮化镓上的AlGaN，硅上的SiGe），增透膜（例如在纹理硅太阳能电池上，紫外线敏感的GaN器件）以及小型医疗支架上的涂层都可以通过我们的反射仪进行测量。这些反射仪支持微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等域的应用。用于我们的反射仪 RM 1000 / 2000 的综合性、以配方为导向的 SENTECH FTPadv EXPERT 软件包括测量设置、数据采集、建模、拟合和报告。已经内置了一个包含预定义、客户验证和即用型应用程序的广泛数据库。“自动建模”选项允许从光谱库中自动选择样本模型。基于SENTECH在椭圆偏振光谱方面的业知识，庞大的材料库和各种色散模型使我们的光谱反射仪能够分析几乎所有的材料和薄膜。操作员可以很容易地使用新的光学数据更新数据库。SENTECH通过椭圆偏振光谱法测量具有未知光学特性的新材料，为客户提供支持。

1. 产品概述FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。2. 主要功能与优势n、k 和厚度的测量该软件包设计用于 R（λ） 和 T（λ） 测量的高分析。多层分析可以测量单层薄膜和层叠的每一层的薄膜厚度和折射率。大量的色散模型集成色散模型用于描述所有常见材料的光学特性。通过使用快速拟合算法改变模型参数，将计算出的光谱调整为测量的光谱。3. 灵活性和模块化 SENTECH FTPadv Expert 软件包用于光谱数据的高分析，根据反射和透射测量结果确定薄膜厚度、折射率和消光系数。它扩展了SENTECH FTPadv薄膜厚度探头的标准软件包，适用于更复杂的应用，包括光学特性未知或不稳定的材料。可以在光滑或粗糙、透明或吸收性基材上测量单个透明或半透明薄膜的薄膜厚度、折射率和消光系数。该软件允许分析复杂的层堆栈，并且可以确定堆栈的每一层的参数。我们的FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。该软件包包括一个大型且可扩展的材料库，该库基于表格材料文件以及参数化色散模型。FTPadv Expert 软件可选用于膜厚探头 FTPadv，以及反射仪 RM 1000 和 RM 2000 软件包的一部分。

台式薄膜探针反射仪 FTPadvFTPadv是一种具有成本效益的台式反射膜厚仪解决方案，它具有非常快速的厚度测量。在100毫秒以内进行测量，其精度低于0.3nm，膜厚范围在50 nm -25 μm。为了便于分光反射测量操作，该仪器包括了范围广泛的预定配方。 简易的膜厚测量通过选择合适的配方，FTPadv反射仪以小于100ms的测量速度、精度小于0.3nm、厚度范围为50nm-25μm的精度进行厚度测量。 独特的自动建模通过测量反射光谱和光谱数据库的比较，将测量误差减到很小。 光谱椭偏SE为基础的材料数据库基于SENTECH精确的椭偏光谱测量的大型材料库为测量新材料的光学常数提供了配方。 应用二十年来，SENTECH已经成功地销售了用于各种应用的薄膜厚度探针FTPadv。这种台式反射仪的特点是不管在低温或高温下，在工业或研发环境中，都能通过远程或直接控制，对小样品或大样品进行实时或在线厚度测量。 台式反射仪FTPadv精确、可重复地测量反射和透明衬底上透明和弱吸收膜的厚度和折射率。FTPadv可以结合在显微镜上，或者配备有稳定的光源，用于测量厚度达到25 μm (根据要求可更厚)的膜层。更具备了从SENTECH光谱椭偏仪经验中受益的预定义的、经由客户验证的、以及随时可以使用的应用程序的广泛数据库。 FTPadv的特征在于对来自叠层样品的任何膜层的厚度进行测量，使得FTPadv成为膜厚测量的理想成本效益的解决方案。用于工艺控制的FTPadv包括具有采样器的光纤束、具有卤素灯的稳定光源以及FTP光学控制站。局域网连接到PC允许了远程控制的FTPadv在工业应用，如恶劣环境，特殊保护空间或大型机械。 反射仪FTPadv带有大量预定义的配方，例如半导体上的介质膜、半导体膜、硅上的聚合物、透明衬底上的膜、金属衬底上的膜等等。独特的自动建模,这特性允许通过与光谱库的快速比较来检测样本类型。该反射仪将操作误差减到很小。用光学反射法测量膜厚从未如此容易。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量，具有极好的操作指导。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT，即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此，单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量，具有极好的操作指导。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT，即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此，单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。

Lumina AT1薄膜缺陷检测仪产品特点：实现亚纳米薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像。实用于透明、硅、化合物半导体和金属基底。在3分钟内扫描并显示150毫米晶圆。可以标刻出缺陷的位置，以便进一步分析。可容纳高达300 x 300 mm的非圆形和易碎基板。能够通过一次扫描分离透明基板上的顶部/底部特征。系统优势的四个检测通道：偏光（污渍、薄膜不均匀性） 坡度（划痕、表面形貌）反射率（内应力、条纹）暗场（颗粒、夹杂物）AT1应用：1.透明基底上的缺陷2.单层污渍或薄膜不均匀性3.化合物半导体的晶体缺陷在化合物半导体基底和外延生长层上检测和分类多种类型的晶体缺陷AT1的多用途：所有缺陷类型薄厚基板透明和不透明基板电介质涂层金属涂层键合硅片开发和在线生产AT1规格参数：AT1 软件使用来自多个探测器任意组合的数据生成缺陷图和报告：地图和位置缺陷数量彩色编码缺陷缺陷尺寸

Lumina AT2薄膜缺陷检测仪产品特点：实现亚纳米薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像。实用于透明、硅、化合物半导体和金属基底。在2分钟内扫描并显示300毫米晶圆。动态补偿表面翘曲。可以标刻出缺陷的位置，以便进一步分析。可容纳高达450 x 450 mm的非圆形和易碎基板。能够通过一次扫描分离透明基板上的顶部/底部特征。系统优势的四个检测通道：偏光（污渍、薄膜不均匀性）坡度（划痕、表面形貌）反射率（内应力、条纹）暗场（颗粒、夹杂物）AT2应用：1.透明基底上的缺陷2.单层污渍或薄膜不均匀性3.化合物半导体的晶体缺陷在化合物半导体基底和外延生长层上检测和分类多种类型的晶体缺陷AT2的多用途：所有缺陷类型薄厚基板透明和不透明基板电介质涂层金属涂层键合硅片开发和在线生产AT2规格参数：AT2 软件使用来自多个探测器任意组合的数据生成缺陷图和报告：地图和位置缺陷数量彩色编码缺陷缺陷尺寸

薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µ m的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。产品特点 1、可分析单层或多层薄膜2、分辨率达0.1nm3、适合于在线监测操作理论最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和透射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。查找n和k值可以进行多达三层的薄膜测量，薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库，用户也可以自己添加和编辑。应用NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量，包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。

反射高能电子衍射仪（ReflectionHigh-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。用于有机薄膜晶体结构检测。世界首创！欢迎来电询问详细技术资料！

耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的微米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Nano TR遵循国际校准标准 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Nano TR温度范围RT，RT … 300°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度30nm … 20μm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns光束直径 100μm激光功率 100mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

Nd:YAG激光后反射镜激光后反射镜镀有介质膜，广泛用于脉冲或高功率连续Nd:YAG激光器基频应用中。反射镜上的高反射率能达到R99.8%，同时采用UVFS基片，典型尺寸为? 25.4x6mm

来自英国OPUS INSTRUMENT公司的Apollo(阿波罗）Apollo(阿波罗）是世界上新一代采用红外短波反射扫描成像技术的专业分析仪器，被广泛用于各种材料的鉴定和分析。www.ast-bj.com我们的用户：英国国家美术馆，荷兰国立博物馆，美国大都会博物馆，古根海姆博物馆, 俄罗斯赫米蒂奇博物馆洛杉矶盖蒂博物馆，日耳曼国家博物馆，美国印第安纳波利斯艺术博物馆Infrared Reflectography红外反射成像技术：“一种非破坏性的无损检测技术，它利用红外线穿透研究对象表层（颜料或漆层），对表层下面的详细纹理细节进行成像，从而获得有关这些研究对象的原始信息。用红外反射扫描成像进行检测，通常会发现研究对象一些在损坏、填充和修饰的细节变化，是一种广泛应用的红外成像技术。Apollo(阿波罗)是红外反射成像的新标准。 在世界闻名的Osiris扫描系统的基础上，Apollo（阿波罗）使用先进的内部扫描机构和红外面阵列传感器生成高质量，高对比度，分辨率达到5100×5100的红外反射图像，其图像清晰度和细节展现无与伦比。拍摄大画幅壁画和油画，唐卡作品，图像不需要后期繁琐软件处理。 Apollo红外反射成像扫描系统可以用于研究绘画作品的各个方面。不仅可以研究绘画作品的底稿，素描草图和笔迹变化（经过修改或颜料遮盖的原来笔画再现），识别后期修复及补色的微观变化，并且当使用我们提供的滤光片套装时，可以在不同红外波段对底色和颜料进行透射分析。如果您想采集到用于艺术品保护和修复等应用高对比度和高分辨率的红外图像，Apollo（阿波罗）是非常适合您的红外反射成像系统。Apollo无以伦比的优势在于：1. 可以拍摄高达26 Megapixel的图像图片，分辨率5100×5100，传感器像素间距20um微米2. 新款软件控制系统，提供柱状图分析，可以捕捉更多光线暗处的细节。3. 采用卓越的红外面阵列成像传感器，可进行大画幅作品的扫描，提供成像预览，节省您的分析时间。4. 快速捕捉画面，拍摄整幅画作需要5-15分钟5. 先进的冷却系统，减少了成像噪音，提供更高质量的画面。6. 16位图像输出格式可选TIFF和 PNG格式，方便在任何终端设备上进行对比分析。7. 拍摄图像自动拼接功能，解决研究人员后期图像处理的困扰，非常实用。8. 体积紧凑，方便携带，可装入航空旅行箱。

光谱反射仪（SR）系列是一款相对较低成本和操作简单的工具。SR 系列特征：简单易操作 最佳系统性能基于先进的光学设计 基于阵列的探测器系统保证快速测量 测量薄膜厚度和折射率可达5层 允许在毫秒内获得反射、透射和吸收光谱 可用于实时或在线厚度，折射率的监测 系统具有全面的光学常数数据库 先进的TFprobe软件允许用户使用NK表、分散或有效介质近似（EMA）每个单独的膜。 可升级到MSP（显微分光光度计）系统，SRM映射系统，多通道系统，大点的直接测量图案或功能结构 适用于多种不同厚度的基材 各种附件可用于特殊配置，如运行曲线测量曲面 2D和3D输出图形和用户友好的数据管理接口光谱反射仪型号：SR100SR300SR500

热反射（Thermo-Reflectance）方法基于超高速激光闪射系统，可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如：热扩 散系数、导热系数、吸热系数（Thermal Effusivity）和界面热阻。由于激光闪射时间仅为纳秒（ns）量级，甚至可达到皮秒（ps） 量级，此系统可测量厚度低至 10nm 的薄膜。同时，系统提供不同的测量模式，以适应不同的基片情况（透明 / 不透明）。 NETZSCH TR 特性：• 该方法符合日本国家标准：• JIS R 1689：通过脉冲激光热反射方法测量精细陶瓷薄膜的热扩散系数；• JIS R 1690：陶瓷薄膜和金属薄膜界面热阻的测量方法 。发展简史1990 年，日本产业技术综合研究所/日本国家计量院（AIST/NMIJ）发明热反射法，测量薄膜导热性能。2008 年，AIST 设立 PicoTherm 公司。2010 年，PicoTherm 公司推出纳秒级热反射系统 NanoTR。2012 年，PicoTherm 公司推出皮秒级热反射系统 PicoTR。2014 年，PicoTherm 公司和 NETZSCH 公司建立战略合作。由 NETZSCH 负责 PicoTherm 产品在全球的销售和服务。技术背景激光闪射法 -最主流的材料热扩散系数测试方法在现代工业中，关于材料的热性能、特别是热物理性能的相关知识变得日益重要。在这里我们可以举出一些典型领域，例如应用于高性能缩微电子器件的散热材料，作为持续能源的热电材料，节能领域的绝热材料，涡轮叶片中所使用的热障涂层（TBC），以及核工厂的安全操作，等等。在各种热物性参数之中，导热系数显得尤其重要。可以使用激光闪射法（LFA）对材料的热扩散系数/导热系数进行测定。这一方法经过许多年的发展已广为人知，可以提供可靠而精确的数据结果。样品的典型厚度在 50um 至 10mm 之间。NETZSCH 是一家世界领先的仪器制造厂商，提供一系列的热物性测试仪器，特别是激光闪射法导热仪。这些 LFA 系统在陶瓷，金属，聚合物，核研究等领域得到了广泛应用。热反射法 -测试厚度为纳米级的薄膜材料的热扩散系数随着电子设备设计的显著进步，以及随之而来的对有效的热管理的需求，在纳米级厚度范围内进行精确的热扩散系数/导热系数测量已经变得越来越重要。日本国家先进工业科学与技术研究所（AIST），在上世纪 90 年代初即已响应工业需求，开始研发“脉冲光加热热反射法”。于 2008 年成立了 PicoTherm 公司，同时推出了纳秒级的热反射仪器“NanoTR”与皮秒级的热反射仪器“PicoTR”，这两款仪器可对薄膜的热扩散系数进行绝对法的测量，薄膜厚度从数十微米低至纳米级范围。2014 年，NETZSCH 日本分公司成为了 PicoTherm 公司的独家代理。与我们现有的 LFA 仪器相结合，NETZSCH 现在可以提供从纳米级薄膜、到毫米级块体材料的全套的测试方案。为什么需要测试薄膜？薄膜的热性能与块体材料的热性能不同纳米级薄膜的厚度通常小于同类块体材料典型的晶粒粒径。由此，其热物理性能与块体材料将有着显著的不同。测量模式超快速激光闪射法 -RF 模式：后部（Rear）加热 / 前部（Front）探测可测试热扩散系数与界面热阻纳米级薄层与薄膜的热透过时间极短，传统的激光闪射法（LFA）使用红外测温，采样频率相对较低，已不足以有效地捕捉纳米级薄膜的传热过程。因此需要一种新的更快速的检测方式，可以克服经典的激光闪射法的技术局限。这一被称为超快速激光闪射法的技术，其典型模式为后部加热/前部探测方法。这一方式的测量结构与传统的 LFA 方法相同：样品制备于透明基体之上，测量方向为穿过样品厚度、与样品表面垂直。由加热激光照射样品的下表面，由探测激光检测样品上表面的传热温升过程。随着样品检测面的温度逐渐上升，其表面热反射率会相应发生变化。使用探测激光按一定采样频率对检测面进行照射，利用反射率的变化可获取检测面的温度上升曲线。基于该曲线进行拟合计算，可得到热扩散系数（如下图所示）。这里，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 15.9 mm2/s。时间域热反射法 -前部加热 / 前部探测（FF）测定热扩散系数与吸热系数除了 RF 方法之外，测量也可以使用前部加热/前部探测（FF）的结构进行。“Front”一词这里指的是沉积于基体上的薄膜的外表面，而“Rear”一词指的是薄膜与基体接触的一面。在 FF 测量配置中（如下图所示），加热激光与探测激光处于样品的同一面。加热激光加热的是薄膜的前表面的一个直径为几十微米的区域，探测激光则指向同一位置，观察在照射之后表面温度的变化。这一方法可以应用于非透明基体上的薄层材料，即 RF 方法不适合的场合。在下图的示例中，使用 FF 模式，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 16.1 mm2/s。结果证明了 RF 与 FF 模式之间结果高度的一致性（偏差2%）。NanoTR 原理NanoTR 具有先进的信号处理技术，可以进行高速的测量。测试过程中，一束脉冲宽度 1ns 的激光脉冲被周期性（间隔20us）地照射到样品的加热面上。使用探测激光记录检测面相应的温度响应。通过在极短时间内进行大量的重复测试，对重复信号进行累加，可以获得优异的信噪比。通过软件，仪器可以方便地在 RF 与 FF 两种测试方式之间进行切换，由此适合于各种类别的样品。NanoTR 遵从 JIS R 1689，JIS R 1690 标准，提供具有热扩散时间标准值的薄膜标样（RM1301-a），使结果具有 SI 可回溯性。该标样由 AIST 提供。PicoTR 原理对于皮秒级热反射分析仪 PicoTR，照射到样品的加热面上的是脉冲宽度仅为 0.5ps 的激光脉冲，重复周期为 50ns。使用探测激光，记录检测面相应的温度响应。PicoTR 允许用户在 RF 与 FF 两种模式之间进行自由切换。PicoTR 符合 JIS R 1689，JIS R 1690 标准。技术参数仪器型号NanoTRPicoTR温度范围RT，RT … 300°C（选配）RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FFRF/FF样品尺寸10 × 10mm … 20 × 20mm10 × 10mm … 20 × 20mm薄膜厚度30nm … 20μm （取决于样品种类和测量模式）10nm … 900nm （取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns 光束直径 100μm 激光功率 100mW脉冲宽度 0.5ps 光束直径 45μm 激光功率 20mW

SSR-ER太阳光谱反射率仪提供准确的材料漫反射和镜面反射测量，材料样品最小厚度可至6.4mm，太阳反射比和吸收比精确到0.001，重复性达到0.003。采用钨丝提供漫反射光源，测量4个滤光探测器、20度近法线入射角的样品辐射反射。探测器主要覆盖紫外、蓝光、红光和IR光谱范围。2个额外的探测器用来重采样低色温情况下红光和IR光源。SSR 漫反射和镜面反射标准体随机提供，标准体通过美国National Bureau of Standards Materials 标定，仪器经过标准体定标后即可开始测量。默认操作模式下，仪器每完成一个测量循环的时间为8秒钟，钨灯亮6秒的同时并记录检测器偏移值，灯亮两秒钟后6个探测器进行反射率测量并存储，计算太阳反射比并显示在LCD上，然后关闭光源。通过键盘可切换6个探测器的反射比或吸收比显示。

台式四轴测角仪系统进行测试標誌板和高能见度的服装。检验QA测试工具，在多个测量几何佈局快速测试。933后向反射工作站措施回射（RA）和材料的回射顏色。933包含3轴机动测角器，具有连续可调β1（-60°到60°），β2（-60°到60°），和ε（-180°到180°）的角度，以及机动连续可调α（0.2°至2°）角机构。顏色检测器上的观察角度被固定在0.33°。初级光传感器会见与CIE光源“A”灯一起使用时的CIE標准的人眼响应ASTM E1709要求。测光滤波器准確地测量不同的顏色，而不需要计算校正因子。顏色检测器设有用于产生CIE1931顏色坐標中的3通道RGB传感器。用户界面配有高分辨率彩色触摸屏。一个单独的图形协处理器提供快速的，直观的响应以及清楚地描绘的文本和图像，便于查看相关的数据。该单元可以作为一个独立的单元，在这种情况下，內部存储器具有存储读数和伴隨数据在非易失性快闪存储器超过30000测量的能力进行操作。另外，该933可以通过USB经由简单的ASCII命令控制自动化多测量的情况。適用于Windows，Mac和Linux USB驱动程序可用，以及利用Excel中演示了宏观调控样品的Windows软件。记录的数据与每个测量RA 值β1, β2, ε, α 角CIE1931 x 和 y 坐標当前日期和时间温度和湿度最多18个字符的用户输入的评论技术参数Primary Observation Angle αAutomated, variable from 0.2° to 2.0°Color Observation Angle0.33°β1 AngleContinuously variable from -60° to 60°β2 AngleContinuously variable from -60° to 60°ε AngleContinuously variable from -180° to 180°Light Source Angular Sub-tense0.1°Primary Receptor Angular Sub-tense0.1°Color Receptor Angular Sub-tense0.4°Measurement AreaApproximately 1 inch (2.6cm) in diameterMeasurement Range, Primary Sensor0.1 to 10000 cd/m2/lux in 4 electrical auto-gained rangesMeasurement Range, Color Sensor10 to 2000 cd/lux/m2Data Storage30,000 measurements via on-board flash memoryComputer InterfaceUSBMain DetectorSilicon photodiode with photopic filter combined with light source at CIE Illuminant “A” (2856°K)Color DetectorRGB detector with photopic filter, calibrated to CIE1931 standardDisplay InterfaceHigh Resolution Color TouchscreenComment Field18-character per measurementEmergency Stop ButtonStops the goniometer instantlyDoor Safety SwitchPrevents Goniometer operation unless door is closedPowerUniversal Input, 120-240VOperating Temperature15oC to 30oC (50oF to 104oF)Operating Humidity0 to 95% non-condensingSensorsTemperature, HumidityDimensions22 in. (56 cm) wide 32.5 in. (83 cm) high 26 in. (66 cm) deep

1. 产品概要SENTECH RM 1000 QC反射仪设计用于快速简单地测量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度，用于工业生产过程中的质量控制。该工具涵盖 20 nm 至 50 μm 的膜厚范围，可用于 100 μm 的测试图案。2. 主要功能与优势半自动桌面质量控制SENTECH RM 1000 QC是一款光学反射仪，用于对图案化基板上的薄膜和散装材料进行质量控制。它是小规模和大规模生产中随机抽样、工具鉴定和统计过程控制 （SPC） 的理想选择。通过手动晶圆处理对图案化晶圆进行质量控制SENTECH RM 1000 QC 易于手动装载。然后，对于图案化的 200 mm 晶圆，模式识别、映射测量、分析以及报告结果和统计信息都自动化。集成到实验室和晶圆厂环境中SENTECH RM 1000 QC 可选择通过 SECS/GEM 集成到制造执行系统中。3. 灵活性和模块化SENTECH RM 1000 QC 光谱反射仪提供法向入射的反射率光谱，SENTECH SpectraRay/4 软件分析的参数包括薄膜厚度、吸收、成分、能隙、颜色和光谱带宽。模式识别用于测量结构化样本。该工具的操作流程其简单，只需放置晶圆，启动自动化过程，工具就会返回准确的模式识别、测量和映射，以及精确、可重复的统计结果。SpectraRay/4 是用于 SENTECH RM 1000 QC 的综合光谱椭偏仪软件。它包括两种操作模式：配方模式和交互模式。配方模式允许轻松执行常规应用程序。交互模式通过交互式图形用户界面引导椭圆测量。

一、概述 RT-V 系列反射透射测量仪，采用进口氘卤二合一光源，结合高性能分光光谱仪，可测量获得紫外到近红外光谱范围内薄膜的反射率和透射率光谱，并进一步计算获得样品色坐标，以及薄膜厚度、光学常数等信息。 ■ 高性价比穿透率、反射率测量解决方案 ■ 色坐标计算和薄膜特征解析 ■ 模块化定制，支持在线集成应用二、产品特点■ 采用高性能进口氘卤二合一光源，光谱范围覆盖可见光到近红外范围；■ 支持全光谱范围反射率高精度量测，基于薄膜层上下界面反射光干涉原理，轻松解析单层至多层薄膜特征；三、产品应用 RT系列反射透射测量仪，可实现各种透明、低对比度、高反射率样品反射率和穿透率光谱快速精准测量，并进一步计算获得样品色坐标、薄膜样品厚度及光学常数。广泛应用于各种滤光片、滤镜、镜头、玻璃、染色液、薄膜的测量。技术参数

耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Pico TR温度范围RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。