碳蒸镀仪

高真空热蒸发镀碳仪7英寸TFT触摸屏，全数字显示；全自动控制，一键式操作；4根碳绳交替工作，自动检测通断；连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式。产品优势：1、7英寸TFT触摸屏，全数字显示；2、全自动控制，一键式操作；3、4根碳绳交替工作，自动检测通断；4、连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式；5、旋转样品台，可手动/自动控制；6、软硬件互锁、安全可靠； 产品参数：外形尺寸420(L)×330(D)×335(H) mm操作界面7 英寸触摸屏、全数字显示蒸发源高纯碳纤维（φ0.8mm）蒸发源数量4 根蒸发模式连续蒸发、脉冲蒸发工作模式全自动、手动预热除气有除气挡板全自动真空泵旋片式真空泵真空泵抽速1.1L/s真空室高硅硼玻璃 ~φ170×130mm极限真空≤1Pa样品台≥φ90mm工作真空≤2Pa样品台旋转手动或自动样品台转速高速、低速两档可调供电AC220V/50Hz额定功率800W蒸发源状态系统上电后自动检测 4 根蒸发源通断情况，并在主界面显示保护功能真空保护、过流保护、过压保护等其它真空、电流、电压可实时曲线 显示选配分子泵（高真空模式）、膜厚监测、温度检测等

高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权，效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。适用于EDS样品制备；EBSD样品制备；MLA系统样品制备；其它需要制备碳膜的领域。全自主支持产权效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀应用领域：1、EDS样品制备2、EBSD样品制备3、MLA系统样品制备4、其它需要制备碳膜的领域技术参数：人机界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏蒸发源高纯碳纤维（选配碳棒）蒸发源数量1-4根（更多请咨询厂家）工作模式连续、脉冲操作方式全自动一键操作真空系统涡轮分子泵+旋片泵极限真空≤5E-3Pa工作真空＜0.1Pa抽气节拍＜3分钟真空室~φ170×130mm其它样品台旋转、样品温度检测、蒸发除气等

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

粉末坩埚蒸镀仪铬是受欢迎的金属之一。铬是一种银色，有光泽，坚硬，含杂质的铬硬而脆，具有很高的耐腐蚀性。它的熔点为1857℃，密度为7.2g / cm3，。它的名字来自希腊语“chroma”，意思是颜色，因为它的颜色非常丰富。它广泛用于汽车工业，形成轮子和保险杠上的闪亮涂层。熔点（°C）1857 密度（g / cm3）固态7.19 液体6.9 沸点： 2672.0 ℃ 热导率：90.7W/m.K (300K) 铬粉末 铬颗粒-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源、坩埚蒸发；-腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；-泵：前级干泵，分子泵；- Load Lock样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；-工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；-衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；以下为蒸发镀膜设备的示意图： 以下是不同真空度 不同镀膜时间碳纸镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色粉末坩埚蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最 大功率≤1200W最 大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台可旋转φ62 （最 大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

更多内容，请访问中国总代理商和服务商“覃思科技”官方网站电镜制样设备CCU-010 HV_CT高真空碳蒸镀仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理(可选项)。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能蒸发镀碳和可选等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了最高级的SEM，TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。CT-010碳蒸发模块电镜制样设备CCU-010 HV_CT高真空碳蒸镀仪采用紧凑的插入式碳蒸发模块，为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV镀膜主体后，即可立即使用，既适合EDS喷碳应用，更适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件（可选）使用基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件（可选）◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010系列喷金喷碳仪提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，采用TFT 触摸屏，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

瑞士Safematic CCU-010 LV_CT热蒸发镀碳镀膜机紧凑型、模块化和智能化CCU-010 LV_CT热蒸发镀碳镀膜机为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，可选通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010系列镀膜仪标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能热蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品巧妙的真空设计CCU-010 LV_CT-010精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM/EDS等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可在一次真空下进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄碳膜到在中厚碳膜层应用时的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的碳膜厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了CCU-010 LV热蒸发镀碳仪之外，还可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV系列镀膜仪均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，可防止系统被前级泵油污染。

紧凑型、模块化和智能化CCU-010 LV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，可选通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010系列镀膜仪标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能热蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品巧妙的真空设计CCU-010 LV_CT-010精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM/EDS等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳卷轴系统，可在一次真空下进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。一段碳绳蒸发后，新的一段会自动前进，用过的碳绳会掉落到方便的收集盘中。除了易于使用外，自动卷轴系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄碳膜到在中厚碳膜层应用时的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的碳膜厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了CCU-010 LV热蒸发镀碳仪之外，还可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV系列镀膜仪均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，可防止系统被前级泵油污染。

小型蒸镀仪一：产品参数1． 产品名称：小型蒸镀仪 2． 产品型号：KT-Z1650CVD3． 产品品牌：郑科探 Zhengketan4． 生产厂家：郑州科探仪器设备有限公司二：功能要求KT-Z1650CVD 是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽 小功能齐全。配备 7 寸触摸屏人工界面，具有电流时间工艺储存功 能。配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及自动电动 样品挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金 属（金，银，铜，铬，镍等）和有机物进行均匀蒸发沉积。真空腔 室为透明玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄 膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。三：主要技术要求1． 控制方式：7 寸人机界面 手动 自动模式切换控制2． 加热方式：数字式功率调整器3． 镀膜功能：0-999 秒 5 段可变换功率及挡板位和样品速度程 序4． 最大功率：≤1200W5． 最大输出电压电流：电压≤12V 电流≤120A6． 真空度：机械泵 ≤5Pa（5 分钟） 分子泵≤10^-3Pa7． 挡板类型：电控8． 真空腔室：玻璃罩+不锈钢腔体φ160mm x 160mm9． 样品台：可旋转φ62 （最大可安装φ50 基底）10． 样品台转速：8 转/分钟11． 样品蒸发源调节距离：70-140mm12． 蒸发温度调节：≤1800℃13． 支持蒸发坩埚类型： 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 陶瓷坩埚 石英石坩埚14． 预留真空接口：KF25 抽气口 KF16 真空计接口 KF16 放 气口 6mm 卡套进气口四：主要配置要求1．1 台 小型蒸镀仪 KT-Z1650CVD 主机2．1 个 真空挡板阀 KF25 接口3. 1 个 放气阀 KF16 接口4. 1 个 52T 真空计 KF16 5. 1 台 （选配）分子泵真空机组，机械泵

科研实验室小型高温样品镀膜设备，小型蒸镀仪 郑州科探KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。. 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色科研实验室小型高温样品镀膜设备KT-Z1650CVD控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最大功率≤1200W最大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室不锈钢腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （最大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

一、技术原理： （1）小型蒸镀仪KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 （2）通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下为蒸发镀膜设备的示意图。 二、真空度越高越不易氧化越接近金属本色： ★玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察； ★复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；★两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；★专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出； ★可定制一体化高精度刻蚀掩膜板； ★衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm； ★可调速旋转靶台使薄膜更均匀； ★可沉积金属（Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等）、非金属、化合物（MoO3,LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； ★7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果； ★具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果； ★配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果；三、技术支持&服务： 1.技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出*的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。2.安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。 3.产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外） 4.终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。 以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟四、小型蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料：控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最大功率≤1200W最大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （最大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

一、技术原理： （1）小型蒸镀仪KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 （2）通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下为蒸发镀膜设备的示意图。 二、真空度越高越不易氧化越接近金属本色： ★玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察； ★复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；★两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；★专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出； ★可定制一体化高精度刻蚀掩膜板； ★衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm； ★可调速旋转靶台使薄膜更均匀； ★可沉积金属（Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等）、非金属、化合物（MoO3,LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； ★7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果； ★具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果； ★配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果；三、技术支持&服务： 1.技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出*的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。2.安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。 3.产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外） 4.终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。 以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟四、小型蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料：控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最大功率≤1200W最大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （最大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

SD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，是针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 离子溅射部分是比较常用的镀膜方式，是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。 热蒸发部分是把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。热蒸发主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数：仪器尺寸 ：主机 300mm×360mm×380mm（W×D×H） 蒸镀 300mm×360mm×160mm（W×D×H）真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）溅射靶材：Au溅射靶材大小：φ50mm样品台：样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，样品台可调节高度。也可根据 自身要求定制样品台溅射工作电压：0-1600V (DC)可调溅射电流：0-50mA溅射定时：0-360S蒸碳电流 0-100A(AC)蒸发材料：碳纤维 蒸发工作电压：0-30V蒸发时间：0-1S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种 输入电压：220V(可做110V),50HZ真空泵： 2升机械旋转泵（国产VRD-8）特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。6、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构

ETD-2000C型离子溅射仪在ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户样品制备的需要。 离子溅射部分是比较常用的镀膜方式，是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。 具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。 热蒸发部分是把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。热蒸发主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数：仪器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）溅射靶材：Au（标配），也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。溅射靶材大小：φ50mm样品台：样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台溅射工作电压：0-1600V (DC)可调溅射电流：0-50mA溅射定时：0-360S蒸碳电流 0-100A(AC)蒸发材料：碳纤维 蒸发工作电压：0-30V蒸发时间：0-1S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种 输入电压：220V(可做110V),50HZ真空泵： 2升机械旋转泵（国产VRD-8）特点：1、简单、经济、可靠。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、真空保护可避免真空过低造成设备短路。4、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。5、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。6、数字计时器定时自由方便。7、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料

108C 镀碳仪 品牌： TED PELLA 108C是用于扫描电镜能谱分析的最先进的镀碳仪之一。 主要特性 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚大约 20nm 左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状。 108C 中使用的高纯碳棒可以在高倍条件下得到高质量的镀膜效果。该镀膜系统结构紧凑，容易操作，抽 真空周期短。选件 MTM-10 高分辨膜厚监控仪可以精确地得到所需的碳膜厚度。  使用新型的蒸发装置：电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制。该 蒸发装置使常规的碳棒具有优良的稳定性和重现性。功率消耗低，碳棒具有优异的重新蒸镀特性。蒸发源 可以通过脉冲或连续的方式操作。 可选择手动或自动方式操作。  自动模式下，蒸发源按程序设定的电压和时间进行喷镀。手动模式下，独特的设计允许以脉冲或连续的方 式操作，并通过旋钮控制输出电压。 可配备 MTM-10 高分辨膜厚监控仪（选件）。分辨率优于 0.1nm。在 15nm 至 25nm 的碳膜厚度范围 内，重现性可优于 5％。

原理：热蒸发功是能通过对碳纤维绳加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺。 特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、电流可调避免对样品造成不必要的损伤。3、真空保护可避免真空过低造成设备短路。4、触摸屏操作. 5、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。5、可进行 Flash 式或 Pulsed 式镀碳。6、Pulsed 脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显减少参数： 仪器尺寸 ：390mm×310mm×290mm（W×D×H） 真空样品室： 160mm×110mm（D×H），硼硅酸盐玻璃 极限真空度：5Pa 样品台：50mm (D) 蒸碳电流：50A-80A 可调 控制方式：触摸屏 蒸发材料：碳纤维 脉冲喷碳次数：0-9 次可调 电源：220V AC,50Hz 接地三脚插头 真空泵：2 升机械旋转泵（国产 VRD-8） 重量：~50kg 功率：1.6kw

高纯度金颗粒蒸镀仪采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度极高,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度 根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因 并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源、坩埚蒸发；-腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；-泵：前级干泵，分子泵；- Load Lock样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；-工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；-衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最 大功率≤1200W最 大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台可旋转φ62 （最 大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

货号：108auto供应商：广州科适特科学仪器有限公司现货状态：1个月保修期：1年数量：不限特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜，同时又用于扫描电镜能谱分析。主要特性l 通过1个真空泵相连，在既可以保证良好镀金镀碳效果的同时，又不会产生碳和金属的任何交叉污染。l 通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Pt， Au/Pd，Au，Pt/Pd（Pt靶为标配），靶材更换快速方便。l 通过使用MTM-20高分辨膜厚控制仪（选件）在达到设定膜厚时停止喷镀过程。l 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚20nm左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状。l 使用的高纯碳棒可以在高倍条件下得到高质量的镀膜效果。l 使用新型的蒸发装置：电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制。该蒸发装置使常规的碳棒具有优良的稳定性和重现性。功率消耗低，碳棒具有优异的重新蒸镀特性。蒸发源可以通过脉冲或连续的方式操作。l 自动模式下，蒸发源按程序设定的电压和时间进行喷镀。手动模式下，独特的设计允许以脉冲或连续的方式操作，并通过旋钮控制输出电压。 技术参数 镀金系统样品室大小直径120mm x 120mm 高靶材Au靶为标配， Au:Pd, Pt, Pt:Pd （选件） 大小：直径57mm x 0.1mm厚样品台可以装载12个SEM样品座，高度可调范围为60mm可选配旋转倾斜样品台，旋转速度：0~120rpm可调，倾斜角度：0~90°可调。旋转样品台具有单独腔体保护，可防污染。溅射控制微处理器控制，安全互锁，可调，最大电流40mA，程序化数字控制溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩模拟计量真空： Atm - 0.001mbar电流：0—50mA厚度监控 (选件)使用MTM-20高分辨厚度控制仪（选件）自动终止溅射过程，或使用MTM-10高分辨厚度监控仪（选件）手动终止溅射过程控制方法自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s），自动放气桌上系统真空泵可置于抗震台上，全金属集成耦合系统镀碳系统样品室大小直径120 x 120mm 高蒸发源Bradley型 (6.15mm rods, [1/4"]) 高强度不锈钢结构蒸发控制基于微处理器的反馈回路控制，能够进行远程电流/电压感应，基于真空水平变量的安全互锁功能，最大电流180A，提供过流保护样品台可装置12个样品座，高度在30mm范围内可调模拟计量真空: atmos - 0.001mb 电流: 0-200A控制方法自动蒸发控制，使用程序设定的电压和时间以脉冲或连续方式进行完全手动控制数字定时器（0－9.9s）数字电压设置（0.1 to 6.0V）真空系统真空泵2级直连式高速真空泵抽气速率100L/MIN噪音50dB极限真空≤1 x 10-3 Torr

150R S Plus– 紧凑型机械泵溅射仪，适合非氧化金属150R E Plus– 紧凑型机械泵镀碳仪150R ES Plus–集成了离子溅射和碳蒸镀两种沉积功能的紧凑型机械泵镀膜仪新款改进● 触摸屏更换成便于操作的电容触摸屏● 固件更新，新版操作界面类似安卓系统，便于客户上手● 新的彩色LED可视状态指示灯● USB接口可以用于固件更新，并可将镀膜方案文件备份/复制到USB存储设备● 可以通过USB端口以.csv格式导出过程日志文件，以便统计分析 主要特点: ● 金属溅射或碳蒸发一体化设计，节省空间 ● 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用 ● 涡轮分子泵高真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材 ● 全自动触摸屏控制，快速数据输入，操作简单 ● 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 ● 预编程自动真空控制 ● 使用膜厚监控选件精确控制膜厚 ● 智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型 ● 高真空碳蒸镀，对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 ● 先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术，操作简单，重现性好● Drop-in式快速换样品台（标配旋转台）● 真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态● 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用 ● 人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易 技术参数: ● 工作腔室：165mm外径 x 127mm高 ● 触摸屏全图像用户界面 ● 靶材：标配直径57mm x 厚0.1mm Au靶● 样品台：标配旋转台，直径60mm，转速8-20 rpm ，可选配旋转倾斜台。● 真空系统：双程旋转机械泵● 极限真空度：2 x 10-2mbar ● 溅射真空度： 3 x 10-2 mbar与5 x 10-1mbar之间● 溅射电流：0-80mA● 溅射时间：最长60分钟 ● 碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳棒可重复蒸碳，电流脉冲1~90A。● 尺寸和重量：仪器机箱585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

技术特点电流、电压检测器和先进的反馈控制技术使得镀碳过程稳定、高效。脉冲、连续模式随意切换。 提供“手动”和“自动”两种模式。“手动”模式下，可调节电压和时间旋钮来控制镀碳工艺；而“自动”模式下，客户只需提前设定好程序，镀碳仪就完全按照您的指令进行。腔体尺寸：Ф120mm×H120mm碳棒规格 ：6.15mm棒状样品台12插孔，50mm高度可调仪表真空度：大气-0.01mb电流：0-200mA

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 200A控制方式自动蒸镀控制；可选择手动操作，也可通过控制数字定时器 (1 – 30秒)及电压设定 (0.1 to 5.5V)实现自动蒸镀控制；自动放气功能；机械泵2L/s，25-30s内真空度下降到0.1mb工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪（选配）通过6MHz石英晶体进行原位监控，显示纳米级厚度，碳厚度可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜【产品详情】Agar 全自动喷碳仪为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备等。喷碳仪使用高纯度碳棒，更容易实现在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便对样品进行形貌观察及进行能谱EDS或EBSD分析。 喷碳仪使用的是碳棒，真空度相对来说要高一些；用碳棒的喷碳颗粒要细一些，同时对样品的加热温度也要高一些。样品台：碳棒：膜厚监测仪：

瑞士Safematic CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM等导电薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需破真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV普通真空镀膜仪版本作为真空镀膜系统的基础单元，专为 SEM 和 EDX 的常规高质量溅射和/或碳镀膜而设计。客户可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪

产品简介： GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定，并准确控制温度在200oC-1500oC（或者1200oC-~1700oC）的范围内进行变化，可蒸镀直径长达2"的薄膜样品，在对样品进行蒸发镀膜的过程中，样品台可进行旋转旋转，以获得更均匀的薄膜。控温蒸发镀膜仪应用范围广，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。控温蒸发镀膜仪体积小巧，可有效节约实验室空间；操作简单，对不同材料的适应性强，因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。 产品型号GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪主要特点1、已通过CE认证。2、采用石英腔体，易于清洁和样品的放入。3、样品台可旋转，能够使所制薄膜达到更好的均匀性。4、采用钨丝作为发热源，温度可达到1700℃，并配有的氧化铝舟装载样品（仅1600oC以下使用，若蒸发温度大于1600oC，样品应直接放在钨丝篮中）。　　5、热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制。6、可将设备转换到手动调节状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可达2000oC，可达到对样品镀碳等实验要求。7、可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜。8、进气口配有针阀，用于调节进气流量。技术参数1、电压：AC 208V-220V 50Hz/60Hz 单相2、功率：500W，电流顶峰为30A3、真空腔体：石英腔体，直径?6"4、样品台：直径?50mm；可旋转，转速5rpm；与蒸发源间距可调，调节范围60mm-100mm5、温度：1700oC6、热电偶：S型热偶，工作温度200oC-1500oC（可选用B型热偶，工作温度1200oC-1700oC）7、控温精度：±1oC，数显温度控制器，可设置30段升降温程序8、钨丝篮：2个9、真空接口：KF4010、真空计：数显防腐真空计PCG554，测量范围3.8×10-5-1125torr11、进气接口：1/4NPS产品规格尺寸：440mm×330mm×630mm可选配件1、机械泵（带油污过滤器）（真空度10-2torr，可以蒸发贵金属，如Au、Ag）2、分子泵（可获得高真空，真空度10-5torr，蒸发易氧化材料，如Al、Mg、Li等）3、低真空系统4、高真空系统5、等离子清洗机（镀膜前对基片进行清洗，可获得更好的薄膜强度）

Kapton @验证探头主要用于烘干，干热灭菌高精度温度分布验证测。每个热电偶脸证探头都将经过严格的质量控制和出厂测试，以确保测量结果的一致性，从而满足 GUP 验证的高精度测 试。每个Kapton@热电偶验证探头出厂前都会经过高温测试、低温测试、稳定性测试美国进口：7 美国 TE原装进口高纯度高一致性的热电偶线，7S-正负极7芯材质，双层耐高温 kapton@材质高精度：高精度温度验证探头，校准精度0.1C@350℃，温度范围:-100Cto400℃，最高耐受温度 400℃稳定性：4层Kapton材质干热验证探头，防水、耐高温，测温一致性、稳定性好，专业用于干热灭菌验证溯源报告：提供可溯源校准报告，将合WHO、CMP、FDA、cGMP、ISO、JJF1637等相关标准的出厂校准报告

英国Cressington Scientific Instruments Ltd享誉业内电镜，电子探针以及电极薄膜制备配套高性能真空镀膜仪方案的先驱者，自上世纪六十年代，伴随着商业扫描电镜的普及和电极镀膜制备的需求，Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用，并始终获得科研工作者一致好评。 经过半个多世纪的发展，英国Cressington依然专注于紧凑型镀膜产品的设计研发和保持业内很佳性能及很高市场占有率，现阶段已有超过一万客户群，也是配套高真空扫描电镜，电子探针及电极薄膜制备的优选镀膜仪品牌。其创新的冷态溅射镀膜技术不但可以获得高质量膜层，也解决了长久以来困扰用户的热损伤和热变形问题，而其另一创新溅射电流回路设计也保证了真正均匀一致的镀膜, 包括108, 108A, 108Auto, 108C, 208HR, 208C全系列。为了保障中国用户权益，英国Cressington公司从2007年经过认真考核后设立了官方中国区授权总代理商(只此一家)：溢鑫科创，以保障旗下所有产品在中国的前期市场开拓和后期服务支持。

。Cressington 108Auto+108C Sputter and Carbon COATER英国Cressington Scientific Instruments Ltd享誉业内电镜，电子探针以及电极薄膜制备配套高性能真空镀膜仪方案的先驱者，自上世纪六十年代，伴随着商业扫描电镜的普及和电极镀膜制备的需求，Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用，并始终获得科研工作者一致好评。经过半个多世纪的发展，英国Cressington依然专注于紧凑型镀膜产品的设计研发和保持业内很佳性能及很高市场占有率，现阶段已有超过万名客户群，也是配套高真空扫描电镜，电子探针及电极薄膜制备的优选镀膜仪品牌。其创新的冷态溅射镀膜技术不但可以获得高质量膜层，也解决了长久以来困扰用户的热损伤和热变形问题，而其另一创新溅射电流回路设计也保证了真正均匀一致的镀膜, 包括108, 108A, 108Auto, 108C, 208HR, 208C全系列, 且2023年Cressington推出全系列新款，其在功能性上，耐用性上，以及配置上都有所升级和优化，具体联系我司项目负责人。为了保障中国用户权益，英国Cressington公司从2011年经过认真考核后设立了官方中国区授权总代理商(只此一家)：溢鑫科创，以保障旗下所有产品在中国的前期市场开拓和后期服务支持。

小型蒸镀仪介绍： KT-Z1650DM小型蒸镀仪是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。 郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业，如今公司的产品已经遍布国内大多数国家重点实验室 及科学院校，科探仪器已经成为老师 同学欢迎和信任的品牌之一。 公司以科技创新为主，服务社会为宗旨，积极设计开发新型材料制备设备，奉献于教育和科学，经过长期的研发和不断地技术积累，拥有热工，制造，控制相关技术10余项，为化学，物理，材料，电子，高分子工程，新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师 同学强强联合，形成了有效的信息，技术交流平台，为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持！ 控温方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序大功率≤800W大输出电压电流电压≤10V 电流≤80A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa挡板类型电控样品室石英腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品热源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1600℃蒸发坩埚容积3ML真空法兰KF25抽气口 KF25扩展口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展1 膜厚在线测试 2 分子泵

英国真空镀膜公司(Vac Coat)是欧洲高品质薄膜沉积技术的设计者和制造商, 其技术研发团队来自剑桥大学和牛津大学的科学家和工程师, 凭借超过30年以上的物理气相沉积PVD设备的制造经验, 且在多项技术和设计等优势的加持下, Vac Coat产品已获得真空薄膜沉积领域的专家学者高度认可, 尤其DSR/DST溅射镀膜系列, DCR/DCT热蒸发镀碳系列, 可获得晶粒尺寸很细及无颗粒的高质量均匀薄膜, 十分适用于高分辨率和高质量SEM/TEM/EBSD/EDS样品的制备表征, 已遍布欧洲各大科研院所实验室和产业线.

湿热灭菌验证探头Karma产品是经过世界领先的制药和生物技术公司来验证和确认的，满足消毒和灭菌等过程的测试产品特点:Karma 生产提供造用于高精度温度分布验证测试的高精度和一致性的热电偶线，每个热电偶验证探头都将经过严格的质量控制和出厂测试，以确保测量结果的一致性，从而满足 GMP 验证的高精度测试。每个Teflone热电偶验证探头出厂前都会经过高温测试、低温测试、泄露测试。美国进口：美国TE原装进口高纯度高一致性的热电偶线。7S-正负极7芯材质。双层耐高温 Teflon 材质高精度：高精度温度验证探头，校准精度0.05℃121℃，温度范围:-200℃ to200℃，最高耐受温度260℃:密封性：测温点双层Teflons精密防水密封，尾部 SIM 接线处 3层防水密封，3年内提供免费维修服务 溯源报告：提供可源校准报告，符合WHO、GMP、FDA、cGMP、ISO、JJF1637 等相关标准的出厂校准报告

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能