日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm 特点:采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件规格:项目说明放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)电压最大0.4Kv DC(直流可变)电流最大40mA DC喷镀速率(最大)[条件]压力:7Pa放电电流:40mA标靶与样品表面之间的距离:20mmPt靶(选配件)15nm/minPt-Pd靶(选配件)20nm/minAu靶(选配件)35nm/minAu-Pd靶(选配件)25nm/min样品尺寸最大直径Ф60mm最大高度20mm机械泵135/162 L/min(50/60Hz)靶材﹡2Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)电源要求单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m)尺寸宽度450mm长度391mm高度390mm重量主机:约25Kg 机械泵:约28kg﹡1:喷镀速率仅供参考﹡2:主机内不包括靶材。请从选项中选择(鉑,铂-钯,金,金-钯)
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