声镊谱仪

光镊拉曼光谱技术产品简介光镊拉曼光谱技术（laser tweezers Raman spectroscopy LTRS）结合光镊与显微拉曼光谱技术，可对单个微纳颗粒或单细胞进行操控与生化分析。常规显微拉曼光谱技术可以获得微米尺度分子结构信息，但是对于悬浮气/液体中微小粒子或细胞样品检测时，由于布朗运动或溶液悬浮等因素，很难对样品进行精准定位与测量。光镊技术可以稳定束缚与操纵微纳颗粒及生物分子，有效实现悬浮微颗粒的精准检测。光镊技术对微粒的操控是非接触的遥控方式，不会给对象造成机械损伤，可穿过气/溶液表层界面检测内部颗粒物信息，同时，光镊捕获的微粒尺度为几十纳米到几十微米，是生物细胞、细胞器、生物大分子以及气溶胶等物质尺度范围。拉曼光谱亦是一种无损伤的分子光谱技术，具有谱峰信息丰富，特异性强等优势，因此，光镊拉曼适用于微纳米尺度的单分子研究领域应用。典型应用系统介绍RTS-LTRS 光镊拉曼光谱系统是北京卓立汉光仪器有限公司全新推出的光镊-拉曼联用系统，该系统结合先进的光镊微控技术与拉曼分子识别分析技术，高度集成、性能稳定、易于操作，能够实现同时控制大量(200 个)目标和高精度的微纳米级颗粒物的分析测量。仪器原理和实现方式光镊技术捕获单个颗粒的基本原理如下图所示。激光通过倒置显微镜形成汇聚光线，高度聚焦的激光会在焦点中心形成一个势能梯度中心，称之为势阱或光阱。透明的球形微粒会被光阱在三维空间中捕获，从而进行操控、排列与微小力的测量。更复杂一点的情况是光折射的梯度力与光散射力以及粒子本身的重力与浮力共同平衡，并在限制粒子的布朗运动后实现 3D 捕获操控。光镊原理：采用 100kHz AOD（声光偏转器）高速分时扫描不同位置，从而形成多个光阱；区别于传统的光镊技术，这种技术可以实现：1. 控制目标更多：可以产生 200 个以上的光阱，同时捕获 200 个以上的目标微粒；2. 控制激光强度：0~100%，可独立控制每个光阱3. 控制光阱移动：轨迹、步长、速度等4. 降低光阱的漂移：光阱间漂移仅 0.05nm/min5. 提高测力精度：更加精确定位光阱坐标6. 降低系统噪音：无机械振动，提高整体稳定性结构介绍RTS-LTRS 光镊拉曼光谱系统有两种结构（如下图所示）。结构一：在标准的 RTS2 的基础上配置具有双层无限远光路的倒置显微镜，上层光路多光阱光镊系统，下层光路为拉曼光路出入口，可内置不同波长激光器，也可外部耦合激光器，拉曼信号通过光纤或者空间光路耦合到光谱仪，光路如下：结构二：在标准的 RTS2 的基础上配置具有双层无限远光路的倒置显微镜，上层光路多光阱光镊系统，拉曼激光从显微镜的侧口进入，拉曼信号原路返回接光谱仪，可内置不同波长激光器，也可外部耦合激光器，拉曼信号通过光纤或者空间光路耦合到光谱仪，光路如下：性能优势标配 320mm 焦长影像校正高通光量光谱仪，高像素深制冷光谱 CCD 相机，可扩展 EMCCD，ICCD，InGaAs 阵列等探测器，扩展系统功能；集成化设计，无外置裸露光学元器件；可以实现不同尺寸的多目标悬浮和自由移动，从纳米尺度至百微米尺度；多目标捕获，水中 200 个以上的不同尺寸目标，空气中不同尺寸液滴阵列的捕获；可 XYZ 三维方向精确控制捕获激光和拉曼激发激光焦点之间的相对位置，测试不同位置拉曼信号；非接触、作用力均匀，不会造成对象机械损伤和污染；可对常见样品及微/纳米颗粒、不规则颗粒及气相中的液滴进行 3D 捕获；系统稳定度更高，测量结果受环境干扰更小；操控更加灵活，光阱移动精度更高；避免视场不同位置光阱刚度的差异；可以进行多目标力学测量。典型参数测试案例光镊数据多目标实时测力，力学测量的分辨率可达约 100fN，精确度约 1pN。拉曼数据拉曼-光镊联用数据测试颗粒：浓度为 0.5M 到 2M 的 NaCl 水溶液发生的气溶胶颗粒气溶胶样品捕获拉曼激光定位激发识别回音壁信号峰位峰位信息导入软件液滴半径与折射率测试结果数据 稳定的环境条件下，在 2 分钟内的连续 25 次测量中，液滴半径为 4359.73±0.55nm，分辨率优于 1nm；折射率为 1.3757±0.0002，波动约 0.015%。

高性能影像校正光谱仪 OmniEvo&ldquo 谱王&rdquo OmniEvo光谱仪是卓立汉光最新推出的将自有的&ldquo 谱王&rdquo 系列（Omni-&lambda 180i）影像校正光栅光谱仪与英国Andor公司的iVac制冷型CCD进行整合的新一代高性能光谱仪产品，充分发挥了&ldquo 谱王&rdquo 系列产品顶尖的光学分光性能以及iVac制冷型CCD优良的弱光探测性能，具有极高的性价比，是进行荧光、拉曼光谱实验的最佳选择之一。成熟的光学设计能力 OmniEvo高性能光谱仪的光学设计，均采用经典的C-T结构，并结合公司多年的研发经验加以改进，在光学分辨率、通光效率和杂散光抑制等各项关键指标上达到完美的平衡。其中采用OmniEvo180所采用的Omni-&lambda 180i型影像校正光谱仪，更是国内首款运用影像校正设计和调校技术的光栅光谱仪，其性能达到了国际一流水平。全进口光栅 OmniEvo光谱仪完全采用进口光栅（Newport公司生产），高质量的光栅确保了仪器的光谱性能指标。高灵敏的弱光探测能力OmniEvo高性能光谱仪选用了Andor公司的科研级、制冷型CCD作为光谱探测器件，在400-1000nm范围内进行了响应度优化，最高的量子效率达到60%；芯片的制冷温度达到了-60℃，使得其读出噪声仅为6.2e/count，因而能够满足大部分的弱光光谱探测应用。另有制冷温度更低至-100℃的背感光CCD可选，噪声更低，峰值量子效率高达80%以上；还提供适用于900-1700nm范围内使用的制冷型线阵InGaAs探测器，可用于近红外波段的光谱信号探测。 灵活的光输入结构选择OmniEvo高性能光谱仪采用的是标准的狭缝入口，开口宽度可在0.01-3mm之间灵活自由选择；通过可以选配光纤作为光输入附件，既可用于单点测量，也可以选择多通道光纤用于多点同时测量。

了解单分子层面复杂的生物过程是预防和治疗癌症及其他疾病的关键，声学力谱仪作为即时可用的单分子检测仪器，实现了活体测量技术的突破以及分子水平上相互作用的成像。 AFS单分子声力谱仪（声镊）技术声学力谱（AFS），是一种用于高度并行操纵单分子的方法。AFS单分子声力谱仪是款商业化的独立仪器，包括一个易于操作和测量的智能化专业显微镜。AFS技术是采用功能强大而成本低廉的芯片装置，能够高精度施加力同时对数千个生物分子进行检测。 AFS单分子声力谱仪（声镊）原理AFS技术由玻璃微流控芯片和透明的压电变换器构成来产生共振声波。AFS芯片上的声波（超声波）可同时并行地在数千个生物分子（如DNA，RNA或蛋白质）施加亚皮牛顿（pn）到数百皮牛顿（pn）的力，同时具有亚毫秒的响应时间及固有稳定性。AFS作为一个理想的工具在核酸蛋白、药物蛋白和抗原抗体层面上破译分子间相互作用的详情。AFS技术能够使科学家研究蛋白质的结构与功能相互关系，新的生物机制和细胞力学，也可用于研究和识别自由能图，动力学速率和在反应过程中的中间态。AFS作为一个高度集成化的系统，包括倒置光学显微镜与软件、工作站及相关电子器件，用户界面友好，操控方便。 AFS单分子声力谱仪（声镊）主要技术特点： 微流控芯片实验室技术（Lab-on-Chip）单分子操纵高度并行亚毫秒响应时间固有稳定性安全和友好的用户界面高性价比 AFS单分子声力谱仪（声镊）的多功能设计AFS作为一个高度灵活的单分子检测仪器，其显微镜平台给用户定制和个性化需求提供了多重选择。通过在200毫米、150毫米、75毫米和50毫米不同镜筒透镜安装距离来改变光学放大倍数可拆卸侧板便于对光学路径的简单调整标准25毫米网格便于外部安装射流功能的组件（如注射泵）特殊设计能够快速简单连接外部放大器专用芯片底座能够使射流和电子连接安全地接到AFS芯片、简单快速地固定或重新固定滑动装置用于准确定位和锁定物镜上的样品配装夹具以确保工作台上流体组件的固定，以便实现多种流动形式，如重力或注射器驱动的流动 AFS单分子声力谱仪（声镊）的应用应用包括：动态力谱、恒力测试、力-距离曲线、生物聚合物力学、键断裂、微流变学、细胞力学、水凝胶力学性能 AFS单分子声力谱仪（声镊）高精度力学及长度测量AFS是对单个生物分子进行高精度力学测量的理想工具。我们在此通过对单个DNA分子不同张力程度及使用AFS的跟踪软件测量其长度来证明AFS的高测量精度。本实验是在被拴在链霉亲和素包裹的聚苯乙烯微球（直径4.5μm）上的单个DNA分子（长度8.4 kbps）上进行的。用测量之前已生成的对照表来跟踪微球的高度可达纳米精度。测量过程中，我们将驱动电压的（正负峰间）幅度从0 Vpp增加到2.1 Vpp，相应的声学力从0 pN增加到15.8 pN。AFS软件能实时确定在各种力作用下的DNA长度，以此来探测生物活动，如蛋白质-DNA的相互作用。 具有14位垂直分辨率的信号发生器产生的亚皮牛顿（pN）精度的恒声学力具有数小时的稳定性和亚毫秒的响应时间。 AFS单分子声力谱仪（声镊）并行测量力学性能AFS拥有强大独特的功能，能够以高度并行的方式实现单分子的测量。因为在很多情况下由热扰动引起的复杂状态及随机的个别状态需要在单个实验中同时测量得到，而AFS并行测量功能恰好实现了此要求，这是非常关键的。在这个单分子的拉力实验中，通过并行测量得到了20个DNA分子的力学参数。 力-拉伸长度曲线20个独立DNA分子的并行拉伸曲线。我们将张力从0.1 pN增加到48 pN来记录力学-拉伸长度曲线。在一个可视区里同时并行地获得曲线。单分子多数量力学测量功能，可以应用到不同的实验如蛋白质和RNA伸展和核酸酶处理。 高数据量的键断裂测量统计分析和高数据量采集对于抗体-抗原相互作用的表征是至关重要的。由于AFS多数量分子测试的能力，大量的键可以并行测试，大大减少了测量时间。这个实验展示了AFS能够在单个测量实验中获取一个完整的251个单分子Dig:: anti-Dig键断裂力分布。 断裂力柱状图251个 Dig::anti-Dig 键，拉伸载荷率为2.3 pN/s，每 Dig::anti-Dig 键的断裂力记录下来并绘制成一个断裂力柱状图。此柱状图在相同条件下的单个实验中得到，保证实验的可靠性和重现性。AFS能够应用加载速率跨越几个数量级（10-4 PN / s到103 PN / s），使之成为高度并行测量动态力学谱的理想工具。 AFS单分子声力谱仪（声镊）规格参数AFS是一个真正的测量单分子的工具，包括一个专用的倒置光学显微镜，射流模块和电子组件，集成在一个小箱体内 （300mm×375mm×200mm）。 AFS专用显微镜 单色LED照明波长660 nmCFI消色差物镜（可升级）尼康40x、NA 0.65，WD 0.65mm校正色差，球面像差，模糊和图像的平坦性电动Z轴物镜台（可升级）高性能两相步进微平移台，行程范围5 mm，步长50 nm，亚纳米级的稳定性USB 3.0 CMOS摄像头（可升级）1280×1024像素（像素大小5.3 μm），1.31兆像素全视场实时并行测量高达60赫兹 手动XY样品台微米精度20毫米行程范围双燕尾导轨，使用户能测量样品内不同的位置配带有刻度按钮的细牙螺纹轴信号发生器（可升级）能承受共振声波达10Vpp（电压峰峰值，在50Ω阻抗下）可以实现10-5 赫兹到千赫兹甚至千赫兹以上频率范围的不同时间尺度的动态力学谱和力的扫描超越的稳定性和重现性在14位垂直分辨率下的静态和动态力测量 AFS单分子声力谱仪（声镊）芯片 AFS系统包含三种AFS芯片，每个AFS芯片都会提前校准并且给出芯片的共振频率加载速率范围：10-4 PN / s到103 PN / sAFS芯片尺寸：45 mm x 15 mm x 1.275 mm加载力：大于200 pN（4.5μm的聚苯乙烯微球，采用电压放大器） 全新的AFS芯片设计我们将不断地改进AFS芯片。与AFS用户密切合作，提高芯片的性能、功能和可用性。

AFS，了解单分子层面复杂的生物过程是预防和治疗癌症及其他疾病的关键，声学力谱仪作为即时可用的单分子检测仪器，实现了活体测量技术的突破以及分子水平上相互作用的成像。 原理： AFS技术由玻璃微流控芯片和透明的压电变换器构成来产生共振声波。AFS芯片上的声波（超声波）可同时并行地在数千个生物分子（如DNA，RNA或蛋白质）施加亚皮牛顿（pn）到数百皮牛顿（pn）的力，同时具有亚毫秒的响应时间及固有稳定性。 AFS作为一个理想的工具在核酸蛋白、药物蛋白和抗原抗体层面上破译分子间相互作用的详情。AFS技术能够使科学家研究蛋白质的结构与功能相互关系，新的生物机制和细胞力学，也可用于研究和识别自由能图，动力学速率和在反应过程中的中间态。 AFS作为一个高度集成化的系统，包括倒置光学显微镜与软件、工作站及相关电子器件，用户界面友好，操控方便。 技术特点： * 微流控芯片实验室技术（Lab-on-Chip）* 单分子操纵* 高度并行* 亚毫秒响应时间* 固有稳定性* 安全和友好的用户界面* 高性价比 产品应用： 动态力谱、恒力测试、力-距离曲线、生物聚合物力学、键断裂、微流变学、细胞力学、水凝胶力学性能 我们的用户： * 俄罗斯圣彼得堡大学 * 新加坡国立大学 * CSIC马德里 * 那不勒斯菲里德里克第二大学 * 中国科学院物理研究所 * 九州大学 * 科罗拉多州立大学 * 德国慕尼黑大学 * 巴斯德研究所文献：nature communications 2012, molecular cells 2013基于AFS技术的细胞操纵 AFS技术为科学家提供了来操纵任一物质的独一无二能力，与悬浮的液体介质相比，密度不同。通过这个方法，力不仅可以作用于合成微球，也能作用于活体物质本身。 我们用AFS模块施加力于神经母细胞瘤细胞，并在商售的徕卡共焦显微镜（徕卡TCS SP8）下观察。成像平面与声学节点放置位置一致，大概在AFS芯片底部表面以上40微米左右。一旦启用声场，荧光标记的细胞被迅速推离表面进入到声学节点，并且呈现在成像平面。当声力停止时，细胞由于重力原因下降，逐渐从荧光图像中消失。 通过直接作用力于细胞这一能力，针对细胞生物学研究，AFS有非常大潜力，例如细胞粘附，细胞运动和细胞分化等研究。 高精度力学及长度测量 AFS是对单个生物分子进行高精度力学测量的理想工具。我们在此通过对单个DNA分子不同张力程度及使用AFS的跟踪软件测量其长度来证明AFS的高测量精度。 本实验是在被拴在链霉亲和素包裹的聚苯乙烯微球（直径4.5μm）上的单个DNA分子（长度8.4 kbps）上进行的。用测量之前已生成的对照表来跟踪微球的高度可达纳米精度。测量过程中，我们将驱动电压的（正负峰间）幅度从0 Vpp增加到2.1 Vpp，相应的声学力从0 pN增加到15.8 pN。AFS软件能实时确定在各种力作用下的DNA长度，以此来探测生物活动，如蛋白质-DNA的相互作用。具有14位垂直分辨率的信号发生器产生的亚皮牛顿（pN）精度的恒声学力具有数小时的稳定性和亚毫秒的响应时间。 高数据量的键断裂测量 统计分析和高数据量采集对于抗体-抗原相互作用的表征是至关重要的。由于AFS多数量分子测试的能力，大量的键可以并行测试，大大减少了测量时间。 这个实验展示了AFS能够在单个测量实验中获取一个完整的251个单分子Dig:: anti-Dig键断裂力分布。251个Dig::anti-Dig键，拉伸载荷率为2.3 pN/s，每Dig::anti-Dig键的断裂力记录下来并绘制成一个断裂力柱状图。此柱状图在相同条件下的单个实验中得到，保证实验的可靠性和重现性。AFS能够应用加载速率跨越几个数量级（10-4 PN / s到103 PN / s），使之成为高度并行测量动态力学谱的理想工具。 测量RNA聚合酶的活动机制 AFS其自身功能多样化和力稳定性的设计使其成为研究DNA分子的活动规律和机制的理想工具，涵盖亚秒到小时的时间量程。RNA聚合酶的活动通常具有复杂性：其正常工作机制往往被不同性质的事件中断。 在这个实验中，DNA分子和被处理过的大肠杆菌聚合酶复合被固定在AFS芯片表面。聚苯乙烯微球表面粘附能够使DNA分子延伸的大肠杆菌RNA聚合酶。一旦开始转录和复制，通过实时测量DNA的延伸，能够精确检测每个大肠杆菌聚合酶分子的活动，多个大肠杆菌RNA聚合酶的活动机制在该试验中可以同时并行测量。如实验所示，RNA聚合酶延伸动力学由于其运动机制常被出现的事件影响而体现出高度的随机性，AFS作为一个有效的研究手段非常适合解决该问题。 AFS规格参数 AFS是一个真正的测量单分子的工具，包括一个专用的倒置光学显微镜，射流模块和电子组件，集成在一个小箱体内 （300mm×375mm×200mm）。 AFS专用显微镜 单色LED照明 波长660 nm CFI消色差物镜（可升级） 尼康40x、NA 0.65，WD 0.65mm 校正色差，球面像差，模糊和图像的平坦性 电动Z轴物镜台（可升级） 高性能两相步进微平移台，行程范围5 mm，步长50 nm，亚纳米级的稳定性 USB 3.0 CMOS摄像头（可升级） 1280×1024像素（像素大小5.3 μm），1.31兆像素 全视场实时并行测量高达60赫兹 手动XY样品台 微米精度20毫米行程范围, 双燕尾导轨，使用户能测量样品内不同的位置,配带有刻度按钮的细牙螺纹轴 信号发生器（可升级） 能承受共振声波达10Vpp（电压峰峰值，在50Ω阻抗下）可以实现10-5 赫兹到千赫兹甚至千赫兹以上频率范围的不同时间尺度的动态力学谱和力的扫描 超越的稳定性和重现性,在14位垂直分辨率下的静态和动态力测量 AFS芯片 AFS系统包含三种AFS芯片，每个AFS芯片都会提前校准并且给出芯片的共振频率 加载速率范围：10-4 PN / s到103 PN / s AFS芯片尺寸：45 mm x 15 mm x 1.275 mm 最大加载力：大于200 pN（4.5μm的聚苯乙烯微球，采用电压放大器） 全新的AFS芯片设计,我们将不断地改进AFS芯片。与AFS用户密切合作，提高芯片的性能、功能和可用性。 AFS工作站及软件（可升级） AFS包括labview软件包和一个强大的工作站。AFS软件能够实时以纳米级分辨率并行测试数以千计的微球。 主要特点： 在25赫兹实时并行三维跟踪60-300个微球 在25赫兹实时并行二维跟踪300-1500个微球 在25赫兹实时跟踪（X,Y）位置精度为2纳米 在25赫兹实时跟踪（Z）位置精度为5纳米 通过参照微球的差值跟踪进行（Z）方向漂移较正 自动对照表校准 AFS放大器（可选） AFS的功能可通过一个电压放大器扩展。电压增加，应用与生物分子的最大加载力相应增加。 放大器可以很容易通过后面板连接到AFS。AFS计算机已经预装所有相关的软件和驱动程序以适用于电压放大器。

110升捏炼机-加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

75升捏炼机-加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

55升捏炼机-加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

高性能影像校正光谱仪 OmniEvo&ldquo 谱王&rdquo OmniEvo光谱仪是卓立汉光最新推出的将自有的&ldquo 谱王&rdquo 系列（Omni-&lambda 180i）影像校正光栅光谱仪与英国Andor公司的iVac制冷型CCD进行整合的新一代高性能光谱仪产品，充分发挥了&ldquo 谱王&rdquo 系列产品顶尖的光学分光性能以及iVac制冷型CCD优良的弱光探测性能，具有极高的性价比，是进行荧光、拉曼光谱实验的最佳选择之一。成熟的光学设计能力 OmniEvo高性能光谱仪的光学设计，均采用经典的C-T结构，并结合公司多年的研发经验加以改进，在光学分辨率、通光效率和杂散光抑制等各项关键指标上达到完美的平衡。其中采用OmniEvo180所采用的Omni-&lambda 180i型影像校正光谱仪，更是国内首款运用影像校正设计和调校技术的光栅光谱仪，其性能达到了国际一流水平。全进口光栅 OmniEvo光谱仪完全采用进口光栅（Newport公司生产），高质量的光栅确保了仪器的光谱性能指标。高灵敏的弱光探测能力OmniEvo高性能光谱仪选用了Andor公司的科研级、制冷型CCD作为光谱探测器件，在400-1000nm范围内进行了响应度优化，最高的量子效率达到60%；芯片的制冷温度达到了-60℃，使得其读出噪声仅为6.2e/count，因而能够满足大部分的弱光光谱探测应用。另有制冷温度更低至-100℃的背感光CCD可选，噪声更低，峰值量子效率高达80%以上；还提供适用于900-1700nm范围内使用的制冷型线阵InGaAs探测器，可用于近红外波段的光谱信号探测。 灵活的光输入结构选择OmniEvo高性能光谱仪采用的是标准的狭缝入口，开口宽度可在0.01-3mm之间灵活自由选择；通过可以选配光纤作为光输入附件，既可用于单点测量，也可以选择多通道光纤用于多点同时测量。

ROTA2.1E 镍释放磨损仪图片 手表、饰品都可能含镍 容易引起皮肤过敏 镍是一种容易导致接触性过敏的元素。镍元素通过一些含镍材料的释放并长期与皮肤接触后会被皮肤吸收，从而对部分个体导致过敏；进一步暴露在可溶性镍盐中会导致国民性接触性皮炎(据统计，20%的人对镍有很明显的过敏反应症状)。目前，在出口欧洲的服装、首饰等日用品中，若其材料构成中有含镍的金属辅料，一般要求对其镍释放量进行检测。 ROTA2.1E 镍释放磨损仪是欧盟标准EN12472:2005及ISO24348:2007标准设备 由香港知名品牌HongKong Labware与著名检测中心共同研发的拳头产品，于2004年正式推出，至今已经销售超过9年，出口已超过30个城市，遍及中国各地、远销欧洲、美洲及亚洲地区。 ROTA2.1E 镍释放磨损仪产品资料介绍： ◎仪器的定义： 镍释放量测试仪，也称旋转磨损仪/镍释放打磨机，它是一款滚筒式的模拟试验机，专门用以研磨金属制品表面的涂层镀层，以达到2年的使用磨损程度的一种辅助仪器。 ◎仪器的用途： 该仪器的主要用途是应对欧盟最新的镍释出标准EN12472:2005中提及的镍释放量的辅助检测。 ◎仪器的测试方法： 欧盟标准EN12472:2005规定镍释放测试的状态为：模拟金属制品与人体皮质接触两年的磨损状态，经人工汗液在一定条件下浸泡7天后，配合原子吸收光谱仪定量分析浸泡液中镍的含量，限量为0.5微克/平方厘米/每周。 ◎仪器的参考标准： 欧盟标准EN12472:2005； 行业标准ISO24348:2007； 国标GBT28485； ◎仪器的适用范围：所有饰物，眼镜，手表等金属产品…… 广东省质量监督眼镜检验站推荐使用！ 【镍释放磨损仪產品規格】 型号 ROTA 2.1E 控制 全计算机程序控制 转速 每分钟30±2转 尺 寸 700mm（W）×360mm（D）×340mm（H） 仪器净重 33公斤（ROTA2.1E主机（RA20.01.02）& 六角型滚筒，连盖，胶制（RA20.02.10）） 完成提示 闪灯及声音 金属样品挂架 铝 样品挂架厚度 10±0.5mm 滚筒物料 透明胶制 滚筒内阔 190±2mm（边与边之间距离） 滚筒内长 345mm±5mm 安全 电源及断电保护设计 电源 220V（50Hz）/110V(60Hz) 更多关于EN12472镍释放测试仪的相关信息，可以参考 莱华尔科技主页http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102618/镍释放量测试仪http://www.instrument.com.cn/netshow/C194906.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461365.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461369.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461372.htm

光镊是使用激光束，非接触地捕捉显微镜下的细胞或生体组织。来自日本西格玛光机株式会社的光镊，与显微镜等实现了更好的配合使用。特点1.使用近红外（1064nm）波长，最大限度地抑制了对细胞或生体组织的影响。2.激光照射位置固定在显微镜的视野中心位置。3.可和另售的显微镜用XY自动平台配合使用，用途广泛。4.可以直接安装到显微镜上使用。（选型时，请确认显微镜的制造商，型号。）5.价格低，初期费用小。6.可以进一步改造为完整的微操作系统。（可再利用激光器，内部光学器件。详细请咨询。）应用1.光镊在生物细胞上的应用研究l 对细胞操控的研究l 对细胞应变能力的研究l 对细胞横向光阱力的研究2.光镊在生物大分子上的应用研究3.光镊结合其他技术在生物上的应用研究4.光镊与光刀的结合5.光镊与测量技术的结合

双滴水枪状电凝镊性能：1、镊尖采用高导热银合金制作，导热和散热迅速，配合4000目的精细抛光工艺，即使不选用滴水装置镊尖也无组织粘连现象。2、轻便的镊身重量和捏合力以及手柄防滑设计，给手术医生带来更舒适的手感，握持更方便。3、定位导销设计配合特殊的组装工艺，确保手术过程中镊尖易无错位的现象。4、采用环保吸塑盒配合透析性良好的进口特卫强盖材无菌包装，一次性使用避免交叉感染。5、产品自带通用插头电缆线，可连接所有国产及进口高频主机。参数：滴水装置形状总长mm镊尖宽度mm镊尖长mm捏合力g耐电压V单滴、双滴、不滴枪形、枪弯200、2300.3、0.6、0.9、1.28≧300≧1500使用范围：适用于神经外科，同时也可在五官科、骨科、血管外科、肝胆外科、泌尿外科、普外科手术中使用。注：输水管长度≥1200mm,电凝线长度≥3000mm，如有其他特殊规格可按照客户要求定制。

主机：6B-60Ni型（V9）镍测定仪配套：6B-6型（V9）智能消解仪可广泛应用于大专院校、科研院所、污水处理厂、环保监测站、石化、造纸、制药、印染、纺织、皮革、酿酒、乳业、电子、市政工程等行业可直接测定镍，浓度直读内存标准曲线，无需标样繁琐校准，可实现快速检测具有时间记忆系统，大容量储存卡，可保存500万个数据冷光源、窄带干涉、光源寿命长达10万小时USB接口，可实现联机操作，自动生成图谱打印当前数据和所有存储的历史数据 测量项镍型号6B-60Ni测定范围0-5mg/L比色方式比色皿准确度±8%光源稳定性≤±0.005A/20min光源寿命10万小时存储数据500万条通讯接口USB接口打印机热敏打印机环境湿度相对湿度＜85%（无冷凝）额定电压AC220±10%50HZ净重2.5KG产品尺寸36*28*15额定功率15W 凡是我方提供的仪器，运输、包装等费用均由我方承担；一年之内免费保修，一年后进行有偿服务。凡是我方提供的仪器一年以后均按照供货范围表的报价进行有偿服务。

IBE离子束刻蚀NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品应用：表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

Ion Beam离子束清洗NIE-3500 (AC)全自动离子束清洗系统产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统产品特点：低成本带预真空锁，自动上下载片离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统Features：Low CostAuto Load/Unload with Load LockIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

IBE离子束刻蚀NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：低成本带预真空锁，自动上下载片离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀Features：Low CostAuto Load/Unload with Load LockIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

IBE离子束刻蚀NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3000IBE离子束刻蚀产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3000IBE离子束刻蚀 Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3000IBE离子束刻蚀 Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

Ion Beam离子束清洗NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3000 (C) 离子束清洗系统 Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3000 (C) 离子束清洗系统 Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

Ion Beam离子束清洗NIE-3500 (MC)离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500 (MC)离子束清洗系统产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500 (MC)离子束清洗系统产品应用：表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3500 (MC)离子束清洗系统Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500 (MC)离子束清洗系统Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

单细胞拉曼分选仪（RACS-Seq，国家基金委科学仪器基础研究项目、中国科学院科研装备研制专项等支持）是菌群样品之单细胞代谢表型测量、单细胞拉曼分选、单细胞基因组解析和单细胞培养的一体化仪器系统。它基于稳定同位素标记底物饲喂单细胞拉曼光谱技术，不需分离培养、在单细胞精度直接鉴定微生物种类，并测量各种代谢相关表型（及其细胞间异质性）。进而通过单细胞微液滴光镊拉曼分选与低偏好性核酸扩增技术，完成高覆盖度、与代谢表型相关联的单细胞基因组测序。此外还能在复杂菌群中直接耦合单细胞分离与单细胞微液滴培养。RACS-Seq 为微生物组的代谢活性快检、种质资源挖掘和功能机制研究提供了新一代、原创的装备解决方案。

Optical Tweezers（光镊） Elliot科学提供最广泛范围的可用光镊系统不论你是想寻求一个经济型的开放结构的光镊，给你现有显微镜增添光学镊子功能，采购一个完全集成的电脑控制的多点光学镊子，或增加单点或多点的力值测量。我们都可以满足您的需求。我们交付完全整合的系统，使得用户从开始可以开始他们的研究。标准系统包括： 元件化的开放式结构光镊独立的，便携，台式单光束光镊工作站带商业显微镜整合的单光束光镊与商业显微镜集成的全电脑控制下的多点光镊用QPD测量单陷阱强度的力值测量配件利用照相机颗粒轨迹显示多陷阱刚度，多粒子径迹的力值测量配件应用：细胞学细胞粒子相互作用单生物分子和生物聚合物等

产品介绍SC-catcher单细胞光镊操纵与分选系统，具备强大的微小物体显微操控能力。该系统可在显微镜下对不同尺寸、形态的细菌、真菌、微藻、动物细胞、微颗粒等进行高效捕获、自由操纵与可视化精确分离，单细胞得率及培养成功率高达95%以上，确保了稀有细胞、低丰度目标细胞的有效获取。SC-catcher可与多种观察与检测设备相结合，实现单细胞检测、操纵与分离的一体化、自动化操作。这不仅提高了实验效率，还有助于科研人员更好地理解细胞的结构和功能。产品特点超高精度显微操纵应用光镊技术，在显微镜下，精准实现单细胞/单颗粒的捕获，并操控其进行移动和分离，单细胞得率＞95高活性单细胞分离光镊技术具有低损伤的特点，能够最大程度保持细胞的原位状态、生长活性及代谢功能，单细胞培养成活率＞90%。单液滴按需生成可根据用户需求，有选择地将一个或多个目标细胞包裹在同一个液滴中进行下游实验，例如细胞互作研究。自动化孔板接收集成96孔板接收模块，可根据实验需要选择接收区域及各孔中细胞数量。多模态单细胞识别具有形态、荧光、拉曼光谱识别模块，多模态检测，精准目标细胞锁定。 模块化设计光镊模块可自由加装在用户现有显微镜上，提供超高性价比的显微镜功能升级方案。定制化细胞操纵芯片可根据用户实验需求，进行细胞操纵与分离芯片设计，提供全流程解决方案。产品应用SC-catcher具有广泛的应用价值。在环境微生物领域，SC-catcher系统为研究微生物生长、代谢和交互提供新的工具。在合成生物学领域，该系统为基因编辑和细胞筛选培养提供有力支持，有助于深入探究基因表达和功能。在微藻研究中，该系统为功能藻类的捕获、分析与功能开发提供了有效手段。总之，作为单细胞精准显微操控利器，SC-catcher将为生命科学和医学研究的各个领域提供有力工具。

ROTA 2.1E镍释放测试磨损仪欧盟标准EN12472:2005设备符合国标GB/T28485标准 欧盟正式于2006年通过有关镍释出测试之最新版本(EN12472:2005)替代旧有标准EN12472:1998，所有饰物、眼镜、手表等金属产品必须通过有关测试才能于欧洲地区销售。多家世界领航的检验检测机构（比如TUV、SGS、ITS等）都有使用此ROTA 2.1E磨损仪。ROTA 2.1E是Hong Kong Labware Co., Ltd. 与著名检测中心共同研发的品牌，在2004年开始推售，至今超过9年，已出口到超过30个城市，包括中国各地、欧洲、美洲及亚洲。我司是首家提供一站式EN12472:2005仪器及耗材的供应商。客户群包括各大小检测中心 、政府出入境局、眼镜、饰物、五金、手袋皮革等行业生产商，广泛使用，深受客户欢迎。 仪器定义： 镍释放量测试磨损仪，也称旋转磨损仪，是一种专门用来打磨金属制品表面的图层镀层，以达到2年的使 用磨损程度的一种辅助仪器。仪器用途： 该仪器的主要用途是应对欧盟最新的镍释出标准中提及的镍释放量的辅助检测。测试方法： 模拟金属制品与人体皮质接触两年的磨损状态，经人工汗液在一定条件下浸泡7天后，配合原子吸收光谱仪定量分析浸泡液中镍的含量，限量为0.5微克/平方厘米/每周。参考标准： 欧盟标准EN12472:2005适用范围： 所有饰物，眼镜，手表等金属产品… 广东省质量监督眼镜检验站经已率先使用！质量保证，安全可靠！【產品特点】仪器特点：◎ 针对BS/DIN镍释出EN/DIN 12472而设；◎ 本产品是根据最新镍释出标准制造，提供稳定的转速；◎ 配合六角型滚筒金属样品挂架滚料及滚酱。数码计算机控制◎ 软垫头接触式按钮提供标准的时间及程序调教。 全自动设计◎ 全自动程序控制，能于特定时间转向；◎ 出厂预设为顺逆方向各转向2.5小时，此为EN12472:2005指定之测试时间；◎ 当测试完毕，仪器会自动停止，并配备蜂鸣及闪电通知用家。 清晰数码显示◎ 清晰数码显示已运作及剩余时间，让用家更好地分配工作。 安全设计◎ 仪器设有保护门及透明观察窗，配合电源及断电保护设计，确保使用安全。 高扭力马达◎ 高性能马达能提供稳定转速，而不受高重量影响。 先进设计◎ 配备“暂停”键，让用家能在任何情况下暂时停止仪器运作。【镍释放磨损仪規格】型号ROTA 2.1E控制全计算机程序控制转速每分钟30±2转尺 寸（W×D×H）700mm（W）×360mm（D）×340mm（H）仪器净重33公斤（ROTA2.1E主机（RA20.01.02）& 六角型滚筒，连盖，胶制（RA20.02.10））完成提示闪灯及声音金属样品挂架铝样品挂架厚度10±0.5mm滚筒物料透明胶制滚筒内阔（边与边之间距离）190±2mm滚筒内长345mm±5mm安全电源及断电保护设计电源220V（50Hz）/110V(60Hz) 【镍释放磨损仪相关配件】项目单位货品编号ROTA2.1E主机1RA20.01.02六角型滚筒，连盖，胶制1RA20.02.10铝制样品挂架（2层）1RA20.02.20铝制样品挂架（3层）1RA20.02.30样品挂架（2层）, 胶制1RA20.02.31硅片（2片/套）1套RA20.03.01样品挂具（18件/套） 1套RA20.03.02参考片 （片）1RA20.03.03滚料，已配制，10公斤/包1包HKL12472-G滚酱，已配制，1公斤/樽1樽HKL12472-C（请下载产品资料以查阅配件图片）产品采用进口配件，品质优良！全球领导品牌 销量第一 欢迎了解我司实验室耗材产品信息莱华尔科技主页http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102618/镍释放量测试仪http://www.instrument.com.cn/netshow/C194906.htm

医用镊综合性测试仪采用7寸液晶触控显示屏，中文菜单显示。公称规格、分类、设定载荷、打印、测试、上行、下行、时间、标定。由键盘控制液晶显示屏上的菜单，自动加载张力，自动记录数据，实时显示张力和峰值力数据自动输出数据报告，机载打印十次测试报告。执行标准：医用镊捏合力测试仪完全符合：YY/T0686-2017附录ABC设计制造。技术指标：捏合力测试范围： 0～50N，误差不大于±1%， 分辩率0.01N 变形量移动距离：0-300mm，刻度1mm，清晰可见， 误差范围为±0.01mm测试项目：捏合力测试，牢固度测试，变形量测试。拉力加载速度：0-500mm/min，误差不大于±1mm，可在触摸屏任意设置速度；控制系统：PLC；操作界面：彩色7寸触摸屏，中英文切换；独立设计，自主研发夹具；主机外壳：表面烤漆处理；打印功能：嵌入式微型打印机，可实时打印；高精度电机驱动加高精度导轨运动，精度0.01mm；外观大气，颜色搭配时尚；打 印 方 式：打印2～10次测试平均值数据及其总平均值和偏差值。净重：11kg 外形尺寸：400×290×275（mm）。配货清单：1.主机一台2.打印纸1卷3.夹具一套4.砝码一套5.一年6.操作说明7.仪器终身免费依标准规定升级服务

解剖镊（标准）-直/2.5mm宽/11.5cm ￥52解剖镊（标准）-直/2.8mm宽/13cm ￥58解剖镊（标准）-直/3.3mm宽/14.5cm ￥68解剖镊（标准）-直/3.3mm宽/16cm ￥78

IBE离子束刻蚀系统NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品概述： NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性，可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。用于离子束系统（或称离子铣系统）的样片夹具可以支持±90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。 NANO-MASTER技术已经展示了可以把基片文库保持在50°C以内的能力。通过倾斜和旋转，可以刻蚀出带斜坡的槽，并且改善了对侧壁轮廓和径向均匀度的控制。 不同的选配项可以用于不同的网格配置以及中和器。溅射选配项可以支持对新刻蚀金属表面的涂覆，以防氧化。此外，还可以选配单晶圆自动上下片功能。 NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品特点：优化的14”立方的电抛光不锈钢腔体水冷±90°自动倾斜旋转基片夹具带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC 直流离子源1cm-16cm 6”基片的刻蚀均匀度±1.2% 能够控制基片温度在50°C以内 26”x44”占地面积的不锈钢柜体，非常适用于百级超净间 基于计算机的全自动工艺控制，菜单驱动 LabVIEW友好用户界面 EMO和安全互锁NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品选配：光谱终点监测系统背氦冷却21”立方的电抛光不锈钢腔体 自动上下片1200L/Sec涡轮分子泵冷泵配置增加MFC用于反应气体实现RIBE栅格式RFICP离子源中空阴极或灯丝中和器溅射源用于钝化层沉积NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品应用： III-V族光学元件激光光栅高深宽比的光子晶体刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

解剖镊-直/1.8mm宽/9.5cm ￥54解剖镊-直/1.8mm宽/10.5cm ￥62解剖镊-直/2.5mm宽/11.5cm ￥69解剖镊-直/1.3mm宽/13cm ￥78解剖镊-直/2.2mm宽/14.5cm ￥86解剖镊-弯/1.8mm宽/9.5cm ￥65解剖镊-弯/1.9mm宽/10.5cm ￥73解剖镊-弯/2.0mm宽/11.5cm ￥78解剖镊-弯/1.2mm宽/13cm ￥86解剖镊-弯/1.2mm宽/14.5cm ￥98

解剖镊（窄型）-直/1.9mm宽/11.5cm ￥66解剖镊（窄型）-直/2mm宽/13cm ￥75解剖镊（窄型）-直/2.3mm宽/14.5cm* ￥83解剖镊（窄型）-直/1.8mm宽/16cm ￥94

yc6100-ni型镍离子/总镍测定仪根据标准根据gb11910-89水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法标准设计研发，检测系统采用进口光学元器件，性能稳定可靠。采用5寸lcd显示屏，界面简单易懂，配合简单三步式检测程序，使用人员能够快速、准确使用。检测原理：镍离子在氨性或碱性溶液中先被氧化成四价，再与显色剂反应形成络合物,通过进口冷光源、窄带干涉技术，再以分光光度法测定其吸光度，经过仪器芯片计算后直接显示水质中镍离子/总镍的值（mg/l）。技术参数：检测项目 镍离子/总镍检测标准 gb11910-89水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法 量程范围 0-4mg/l检测下限 0.001mg/l测定误差 ≤± 5％重复性 ≤± 3%光学稳定性 ≤±0.001a/20分钟比色方式 16毫米比色管数据处理 1800条记录、80条曲线操作界面 中文显示屏 5寸lcd供电方式 ac220v±10%/50hz功率 3w工作环境 5-45℃ ≤85%无冷凝主机尺寸 310mm*240*155仪器重量 主机2kg配置标准：序号 名 称 数 量 序号 名 称 数 量1 镍离子/总镍测定仪 主机 1台 6 简易操作流程图 1份2 16毫米比色管 10支 7 使用说明书 1份3 镍离子/总镍测定试剂 1套 8 比色架 1个4 比色管清洁布 1块 9 合格证 1份5 保修卡 1份 10 电源连接线 1条

IBE离子束刻蚀系统NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀 Features：14.5" SS Cube ion beam chamber16 cm DC Ion gun 1000V, 500 mA ,DC motor driven SS shuttersIon Beam neutralizerAr MFCChilled water cooled 6” substrate platenWafer rotation 3-10 RPM, Vacuum stepper motorWafer Tilt with a stepper motor through differentially pumped rotational sealManual wafer load/unloadTypical Etch Rates: 200 ?/min Cu, 500 ?/min Si+/-3% etch uniformity over 6“ area5x 10-6 Torr 20 minutes 2 x10-7 Torr (2 days) Base Pressure with 500 l/sec turbo8x10-8 Torr Base pressure with 1000 l/sec Turbo pumpMagnetron Sputtering of Si3N4 to protect etched metal surfaces from oxidationPC Controlled with LabVIEW SoftwareRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked

HI97726哈纳HANNA镍高量程光度计HI96726升级版测量范围：0.00 to 7.00 g/L (as Ni)符合IP67防水标准，采用的光学系统设计，具有良好的精度，可重复性和进行测量所需的时间，Hanna精心设计的CAL Check&trade 功能允许使用NIST可追溯标准对仪表进行性能验证和校准，多种测量方法，用户可以选择使用粉剂试剂或水剂，内置反应计时器，确保样本测量与用户之间的结果一致，自动记录50次测量读数，良好实验室规范（GLP）显示*一次用户校准的日期和时间，电池状态指示灯和自动关机设置。HI97726微电脑镍高量程防水光度测定仪【新款】HI96726微电脑镍高量程光度测定仪测量范围：0.00 to 7.00 g/L (as Ni)测量范围：0.00 to 7.00 g/L (as Ni)光学系统：硅光电池，LED @ 575 nm，滤波器带宽：8 nm ±1.0 nm光学系统：窄带干涉滤光片，硅光电池，钨灯@ 575 nmGLP功能：自动记录、查询和清除*一次校准值和日期时间GLP功能：手动记录、查询和清除*一次校准值和日期时间数据存储：自动存储、查询提取*50次测量读数数据存储：无此功能显示模式：128 x 64像素黑白液晶显示屏，带背景灯显示模式：无HI97726哈纳HANNA镍高量程光度计HI96726升级版技术参数：技术指标HI97726镍测量模式测量范围0.00 to 7.00 g/L (as Ni)解析度0.01g/ L精度@25oC/77oF读数±4% ± 0.07 g/ L标准方法适应光度法光学系统光源模式硅光电池，LED @ 575 nm滤波器带宽8 nm ±1.0 nm其他指标数据管理50个读数存储电源模式3×1.5AAA高性能电池，在测量模式下，15分钟不用后自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max *，符合IP67防水标准尺寸重量主机尺寸：142.5 x 102.5 x 50.5 mm (5.6 x 4.0 x 2.0")，主机重量：380 g (13.4 oz.)专属附件玻璃比色皿HI731397玻璃比色皿（HI731331+HI731336），规格：外径24.6mm（内径22mm），4套/组测量试剂HI93726-01镍高量程试剂，预测次数：100次；HI93726-03镍高量程试剂，预测次数：300次标准曲线核定组HI97726-11镍NIST测量曲线标定组，标准值@25oC：0.00 and 3.50 ±0.10 g/L Ni