射俄歇谱仪

E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点，分析性能达到了国际领先水平。作为全球首创粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪，E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等先进技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。E5000发射光谱仪产品结构设计　　电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术；　　Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素；　　紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷；　　防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大；　　高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分析方法；　　多重连锁和监控，确保操作安全可靠；　　全自动电极激光对准系统；　　粉末样品直接进样，方便迅速；　　一键激发，立刻获得分析结果；　　内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率；　　软件开放所有高级功能，为客户提供完美的方法开发平台。E5000发射光谱仪全谱测量技术　　全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发；　　基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度；　　- 方便查看谱线及干扰情况　　- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式　　强大的自动谱线去干扰算法；　　- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线　　- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰　　根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确；　　- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度；　　- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围；CCD高速数采系统　　防溢出线阵CCD；　　采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围；Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统　　恒温型全固定光学系统；　　全反射式光路；　　光室结构紧凑；　　一体式固定；　　光学器件少，性能稳定；　　基于CCD的全谱采集和分析；全新一代电弧数控光源　　数控光源体积小、效率高；　　基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节；　　分析不同含量的元素，选择最佳的激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度；　　可设置及读取不同检测阶段的数据；一键激发及全自动对准电极　　样品装载激发一气呵成，方便快捷；　　多元素同时分析，直接得到最终结果；　　设计精良的电极挟持旋钮；　　红外激光对准、先进的电极激光自动对准技术；　　水冷电极夹提高检测稳定性；多重连锁和安全保护　　可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热；　　实时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒；　　界面上有关键温度的显示，第一时间查看仪器的运行情况；　　排风监控，消除废气影响；　　特殊的风道设计提高稳定性；水冷系统 强大的分析软件　　便捷易用的分析软件；　　- 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作　　- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节　　强大的多元素分析平台；　　- 便捷的全谱查看　　- 多元素分析及多谱线选择　　- 一键激发，直接在软件上得到分析结果　　- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护可分析元素及多谱线选择　　全面智能的软件算法；　　- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析　　- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法　　- 功能强大的高级处理功能，为客户带来更全面、更精确的分析体验　　独创的智能漂移校正技术。

电子光学仪器上发射的电子束与样品发生复杂的交互作用，产生各种信号，收集不同信号进行分析，可以获得样品的各种不同信息。软X射线分析谱仪就是通过采集样品上被激发出来的软X信号进行分析的仪器。它的能量分辨率为0.3eV，远高于能谱仪（EDS)和波谱仪（WDS）的分辨率；对轻元素的定量分析非常准确，比如B元素的检出极限可达20ppm；还可以进行元素价态分析。将扫描电镜从以侧重图像为主的仪器变身为图像、成分、价态均可清晰表达的超级分析仪器。也将电子探针的分析能力大幅度提升。 详情请咨询日本电子株式会社在中国的全资子公司捷欧路（北京）科贸有限公司及其各分支机构。

MICROLAB350 - 俄歇电子能谱仪是一款高性能的，具有高灵敏度和高能量分辨率扫描俄歇电子能谱仪（AES）。 SEM分辨率7纳米和扫描俄歇映射（SAM）分辨率12纳米。

仪器简介：我们的精密反视图LEED光学器件采用全UHV结构，不使用玻璃纤维或聚合物涂层线束。提供全系列型号和选项，包括低电流 （nA、pA） MCP 型号。所有光学器件均采用 4 网格结构以实现 AES 兼容性。采用 4 网格钨光学元件的精密结构微型直径1.59厘米的电子枪103度可用视角0.5% 能量分辨率提供可伸缩光学元件（标准 2 英寸和最大 4 英寸缩回）安装法兰具有集成的视口和电气贯穿件完全兼容 UHV（不使用聚合物涂层或玻璃纤维绝缘布线）低噪声、高性能俄歇电子元件，带集成锁相放大器用于 pA 和 nA 电流电平的 MCP 版本完整的选项范围，包括薄型快门、CCD 相机和软件、6 英寸和 8 英寸外径法兰型号

PHI公司的PHI710扫描俄歇纳米探针是一台设计独特的高性能的俄歇电子能谱（AES）仪器。该设备能分析纳米级特征区域,超薄薄膜和多层结构表界面的元素态和化学态信息。作为高空间分辨率,高灵敏度和高能量分辨率的俄歇电子能谱仪, PHI 710可以为用户提供纳米尺度方面的各种分析需求。 PHI710主要特点：l SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm在俄歇能谱的采集分析过程中，包括谱图，深度剖析及元素分布像，需要先在SEM图像上定义样品分析区域，必然要求束斑直径小且稳定。PHI 710的SEM图像的空间分辨率优于3nm,AES的空间分辨率优于8nm(@20kV,1nA),如下图所示：l 图2则是关于铸铁韧性断裂的界面分析，左边是SEM图像,中间是钙、镁、钛的俄歇成像,右边则是硫的俄歇成像,这充分证明了PHI 710在纳米级尺度下的化学态的分析能力。l 同轴筒镜分析器（CMA）：PHI 公司电子枪和分析器同轴的几何设计,具有灵敏度高和视线无遮拦的特点,满足了现实复杂样品对俄歇分析全面表征能力的需求。如上图所示,所有俄歇的数据都是从颗粒的各个方向收集而来,成像没有阴影。若设备配备的不是同轴分析器,则仪器的灵敏度会降低,并且成像有阴影,一些分析区域会由于位置的原因,而无法分析。如果想要得到高灵敏度,只能分析正对着分析器的区域。如下图所示,若需要对颗粒的背面,颗粒与颗粒之间的区域分析,图像会有阴影。l 俄歇能谱仪的化学态成像：l 图谱成像PHI710能从俄歇成像分析的每个像素点中提取出谱图的相关信息,该功能可以实现化学态成像。l 高能量分辨率俄歇成分像下图是半导体芯片测试分析,测试的元素是Si。通过对Si的俄歇影像进行线性最小二乘法拟合（LLS）,俄歇谱图很清楚的反映出了三个Si的不同化学态的区域,分别是：单质硅、氮氧化硅和金属硅,并且可以从中分别提取出对应的Si的俄歇谱图,如最下方三张图所示。l 纳米级的薄膜分析如下SEM图像中,以硅为衬底的镍的薄膜上有缺陷,这是由于退火后,在界面处形成了硅镍化合物。分别在缺陷区域和正常区域设定了一个分析点,分析条件为高能量分辨率模式下（0.1%）,电子束直径20nm,离子枪采用0.5kV设定,如下图所示:在MultiPak软件中,采取最小二乘拟合法用于区分金属镍和硅镍化合物,同样区分金属硅和硅化物。可以看出,硅镍化合物仅存在于界面处,而在镍薄膜层和硅衬底中都不存在。但是,在镍涂层的缺陷处,发现了硅镍化合物。 l PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个从用户需求出发而设计的软件。该软件通过任务导向的方式指引用户导入样品,定义分析点,并设置分析条件,可以让新手快速,方便地测试样品,并且用户可以很方便的重复之前的测量。 l PHI MultiPak 数据处理软件：MultiPak软件拥有最全面的俄歇能谱数据库。采谱分析,线扫描分析,成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。软件强大的功能包括谱峰的定位,化学态信息及检测限的提取,定量测试和图像的增强等。 l 选配件： 1. 真空室内原位样品泊放台； 2. 原位脆断； 3. 真空传送管； 4. 预抽室导航相机； 5. 电子能量色散探测器（EDS）； 6. 电子背散射衍射探测器（EBSD）； 7. 背散射电子探测器（BSE）； 8. 聚焦离子束（FIB）；l 应用领域： • 半导体器件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、界面扩 散现象分析、封装问题分析、FIB器件分析等。 • 显示器组件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩 散现象分析等。 • 磁性存储器件:表面多层、表面元素、界面扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁 头缺陷分析、残余物分析等。 • 金属、合金、玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶间晶界分析等。

PHI公司的PHI 710扫描俄歇纳米探针是一台设计独特的高性能的俄歇电子能谱（AES）仪器。该设备能分析纳米级特征区域,超薄薄膜和多层结构表界面的元素态和化学态信息。作为高空间分辨率,高灵敏度和高能量分辨率的俄歇电子能谱仪, PHI 710可以为用户提供纳米尺度方面的各种分析需求。 PHI710主要特点：SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm在俄歇能谱的采集分析过程中，包括谱图，深度剖析及元素分布像，需要先在SEM图像上定义样品分析区域，必然要求束斑直径小且稳定。PHI 710的SEM图像的空间分辨率优于3nm,AES的空间分辨率优于8nm(@20kV,1nA),如下图所示：图2则是关于铸铁韧性断裂的界面分析，左边是SEM图像,中间是钙、镁、钛的俄歇成像,右边则是硫的俄歇成像,这充分证明了PHI 710在纳米级尺度下的化学态的分析能力。同轴筒镜分析器（CMA）： PHI 公司电子设备和分析器同轴的几何设计,具有灵敏度高和视线无遮拦的特点,满足了现实复杂样品对俄歇分析多方面表征能力的需求。如上图所示,所有俄歇的数据都是从颗粒的各个方向收集而来,成像没有阴影。若设备配备的不是同轴分析器,则仪器的灵敏度会降低,并且成像有阴影,一些分析区域会由于位置的原因,而无法分析。如果想要得到高灵敏度,只能分析正对着分析器的区域。如下图所示,若需要对颗粒的背面,颗粒与颗粒之间的区域分析,图像会有阴影。 俄歇能谱仪的化学态成像：图谱成像PHI710能从俄歇成像分析的每个像素点中提取出谱图的相关信息,该功能可以实现化学态成像。高能量分辨率俄歇成分像下图是半导体芯片测试分析,测试的元素是Si。通过对Si的俄歇影像进行线性小二乘法拟合（LLS）,俄歇谱图很清楚的反映出了三个Si的不同化学态的区域,分别是：单质硅、氮氧化硅和金属硅,并且可以从中分别提取出对应的Si的俄歇谱图,如第三行三张图所示。纳米级的薄膜分析如下SEM图像中,以硅为衬底的镍的薄膜上有缺陷,这是由于退火后,在界面处形成了硅镍化合物。分别在缺陷区域和正常区域设定了一个分析点,分析条件为高能量分辨率模式下（0.1%）,电子束直径20nm,离子设备采用0.5kV设定,如下图所示:在MultiPak软件中,采取小二乘拟合法用于区分金属镍和硅镍化合物,同样区分金属硅和硅化物。可以看出,硅镍化合物只存在于界面处,而在镍薄膜层和硅衬底中都不存在。但是,在镍涂层的缺陷处,发现了硅镍化合物。 PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个从用户需求出发而设计的软件。该软件通过任务导向的方式指引用户导入样品,定义分析点,并设置分析条件,可以让新手快速,方便地测试样品,并且用户可以很方便的重复之前的测量。 PHI MultiPak 数据处理软件：MultiPak软件拥有多方面的俄歇能谱数据库。采谱分析,线扫描分析,成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。软件强大的功能包括谱峰的定位,化学态信息及检测限的提取,定量测试和图像的增强等。 选配件： 1. 真空室内原位样品泊放台； 2. 原位脆断； 3. 真空传送管； 4. 预抽室导航相机； 5. 电子能量色散探测器（EDS）； 6. 电子背散射衍射探测器（EBSD）； 7. 背散射电子探测器（BSE）； 8. 聚焦离子束（FIB）；应用领域： &bull 半导体器件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、界面扩散现象分析、封装问题分析、FIB器件分析等。 &bull 显示器组件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析等。 &bull 磁性存储器件:表面多层、表面元素、界面扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁头缺陷分析、残余物分析等。 &bull 金属、合金、玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶间晶界分析等。

仪器简介：microCMA是一种俄歇光谱圆柱镜分析仪，专为许多不需要AES映射功能的俄歇分析应用而设计，这些应用包括以下分析：薄膜元素组成样品清洁度金属部件热氧化物轻元素表面薄膜的量化microCMA操作简单，易于维护，提供完整的定量表面敏感元素俄歇电子 （AES） 分析仪包，安装在 2.75“/70 mm CF 法兰上。对于元素分析，microCMA比独立的XPS系统便宜得多。完整的AES系统包括圆柱镜分析仪（带有集成的同轴电子枪），USB接口控制器以及Windows采集和数据软件。俄歇分析变得简单！基本配置：microCMA 分析仪、USB 接口控制器、带 15 英尺（4.6 米）电缆的前置放大器、数据采集软件以及手册。可选配件：XYZ转换器，9103 USB皮可安培计，CMA和前置放大器电缆的定制长度。独有的优异性能：紧凑的：适合 2.75“ / 70 mm CF 法兰（最小 1.52” / 38.6 mm 内径管）。现在只需一个分子泵和一个小型离子泵就可以建立一个俄歇光谱系统！成熟的设计：二阶聚焦提供了良好的透射率和分辨率。易于使用：USB控制和数据俄歇软件界面易于使用，使俄歇分析变得容易。功能强大：俄歇光谱（AES）是一种强大的表面敏感技术，可为您提供样品前几层单层的定量信息。microCMA的小直径使其能够安装在现有的沉积或分析室中。由于microCMA基于经典的圆柱形镜面分析仪设计，因此与较大的CMA相比，它具有相似的信噪比。基本上，microCMA收集的电子与较大的CMA相同 它只是收集靠近样品的电子。集成的 3 kV 电子枪简化了 CMA 与样品的对准。电子枪具有预热和调节等自动化功能。microCMA非常适合薄膜的元素表面分析和检查样品的清洁度CMapp Auger 软件提供对采集参数的全面控制，然后在采集后量化数据。应用说明和文章使用顺序表面反应在室温和 100 °C 下电子增强结晶氮化镓薄膜的生长 - Sprenger， Sun， Cavanagh， Roshko， Blanchard， George， 材料化学， U. Colorado - 2016具有二次电子噪声抑制功能的微型圆柱镜俄歇电子能量分析仪的设计与仿真 - Jay A. Bieber，南佛罗里达大学- 2017在室温和100°C-Sprenger，Sun，Cavanagh，Roshko，Blanchard，George - J Phys Chem C纳米界面下氮化硼薄膜的电子增强原子层沉积。科罗拉多大学 - 2018俄歇电子能谱与微同步辐射X射线光电子能谱研究Ba-Sc-O解吸对W（100）$-孟彩霞的影响， 李轶凡， 吴浩， 魏伟， 宁艳晓， 崔毅， 傅强， 包新和 - 物理化学 化学物理 - 2018开发和测试离子束分析的原位方法，用于使用AIMS诊断pdf测量托卡马克内部的高Z侵蚀 - Leigh A. Kesler，麻省理工学院 - 2019氧化气氛中Pt（111）上h-BN覆盖层的结构转变）$- Mroz， Kordesch， Sadowski， Tenney， Eads - 真空科学与技术杂志，B.布鲁克海文国家实验室 - 2020SO2在石墨烯上的吸附和反应动力学：超高真空表面科学研究$- Stach，Johnson，Stevens，Burghaus - 北达科他州真空科学与技术杂志 - 2021通过电子增强原子层沉积对钴膜进行低温沉积的空心阴极等离子体电子源- Sobell1，Cavanagh1，鲍里斯，沃尔顿，乔治 - 真空科学与技术杂志，美国科罗拉多州，海军研究实验室 - 2021

HREELS我们的精密倒视LEED光学具有所有特高压结构，不使用玻璃纤维或聚合物涂层线束。完整的型号和选项，包括低电流(nA, pA) MCP型号。所有光学采用4网格结构的AES兼容。精密结构与4栅格钨光学微型直径1.59厘米的电子枪103度可用视角0.5%能量分辨率可伸缩光学(标准2英寸和高达4英寸的缩回)安装法兰有完整的视口和电子馈线l SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm在俄歇能谱的采集分析过程中，包括谱图，深度剖析及元素分布像，需要先在SEM图像上定义样品分析区域，必然要求束斑直径小且稳定。PHI 710的SEM图像的空间分辨率优于3nm,AES的空间分辨率优于8nm(@20kV,1nA),如下图所示：l 图2则是关于铸铁韧性断裂的界面分析，左边是SEM图像,中间是钙、镁、钛的俄歇成像,右边则是硫的俄歇成像,这充分证明了PHI 710在纳米级尺度下的化学态的分析能力。l 同轴筒镜分析器（CMA）：PHI 公司电子枪和分析器同轴的几何设计,具有灵敏度高和视线无遮拦的特点,满足了现实复杂样品对俄歇分析全面表征能力的需求。如上图所示,所有俄歇的数据都是从颗粒的各个方向收集而来,成像没有阴影。若设备配备的不是同轴分析器,则仪器的灵敏度会降低,并且成像有阴影,一些分析区域会由于位置的原因,而无法分析。如果想要得到高灵敏度,只能分析正对着分析器的区域。如下图所示,若需要对颗粒的背面,颗粒与颗粒之间的区域分析,图像会有阴影。l 俄歇能谱仪的化学态成像：l 图谱成像LK能从俄歇成像分析的每个像素点中提取出谱图的相关信息,该功能可以实现化学态成像。 l 高能量分辨率俄歇成分像下图是半导体芯片测试分析,测试的元素是Si。通过对Si的俄歇影像进行线性最小二乘法拟合（LLS）,俄歇谱图很清楚的反映出了三个Si的不同化学态的区域,分别是：单质硅、氮氧化硅和金属硅,并且可以从中分别提取出对应的Si的俄歇谱图,如最下方三张图所示。l 纳米级的薄膜分析如下SEM图像中,以硅为衬底的镍的薄膜上有缺陷,这是由于退火后,在界面处形成了硅镍化合物。分别在缺陷区域和正常区域设定了一个分析点,分析条件为高能量分辨率模式下（0.1%）,电子束直径20nm,离子枪采用0.5kV设定,如下图所示:在MultiPak软件中,采取最小二乘拟合法用于区分金属镍和硅镍化合物,同样区分金属硅和硅化物。可以看出,硅镍化合物仅存在于界面处,而在镍薄膜层和硅衬底中都不存在。但是,在镍涂层的缺陷处,发现了硅镍化合物。 l PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个从用户需求出发而设计的软件。该软件通过任务导向的方式指引用户导入样品,定义分析点,并设置分析条件,可以让新手快速,方便地测试样品,并且用户可以很方便的重复之前的测量。 l PHI MultiPak 数据处理软件：MultiPak软件拥有最全面的俄歇能谱数据库。采谱分析,线扫描分析,成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。软件强大的功能包括谱峰的定位,化学态信息及检测限的提取,定量测试和图像的增强等。 l 选配件： 1. 真空室内原位样品泊放台； 2. 原位脆断； 3. 真空传送管； 4. 预抽室导航相机； 5. 电子能量色散探测器（EDS）； 6. 电子背散射衍射探测器（EBSD）； 7. 背散射电子探测器（BSE）； 8. 聚焦离子束（FIB）；l 应用领域： &bull 半导体器件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、界面扩 散现象分析、封装问题分析、FIB器件分析等。 &bull 显示器组件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩 散现象分析等。 &bull 磁性存储器件:表面多层、表面元素、界面扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁 头缺陷分析、残余物分析等。 &bull 金属、合金、玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶间晶界分析等。

俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectrometer, AES）为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源，使表面原子之内层能阶的电子游离出，原电子位置则会产生电洞，导致能量不稳定，此时外层电子会填补产生之电洞，进而释放能量传递至外层能阶电子，造成接受能量的电子被激发游离，游离的电子即为Auger电子。因其具有特定的动能，所以能依据动能的不同来判定材料表面的元素种类。PHI的710纳米探针俄歇扫描 提供高性能的俄歇（AES）频谱分析，俄歇成像和溅射深度分析的复合材料包括：纳米材料，催化剂，金属和电子设备。维持基于PHI CMA的核心俄歇仪器性能，和响应了用户所要求以提高二次电子（SE）成像性能和高能量分辨率光谱。PHI的同轴镜分析仪（CMA）提供了同轴分析仪和电子枪的几何实现高灵敏度多角度广泛收集，以便完成三维结构图，在纳米级技术的发展这是最基础的。为了提高SE成像性能，闪烁探测器（Scintillator）已被添加以提高图像质量，另再加上数码按钮的用户界面再一次的提高了易用性。在不用修改CMA和仍维持俄歇在纳米分析的优势下，再添加了高能量分辨率光谱模式，使化学态分析的可能再大大的提高。总括来说，700Xi以优越的俄歇纳米探针从世界ling先的俄歇表面分析仪器，提供了实用和成熟的技术，以满足纳米尺度所需要的广泛实验与研发的用途。同轴电子枪和分析几何和高级的俄歇灵敏度：710的场发射电子源提供了一个高亮度而直径小于6 nm的电子束以产生二次电子成像。710的同轴几何使用了“同轴式分析器（CMA）”，促使高灵敏度俄歇通过广泛角度收集进行分析，即使样品是表面平滑或复杂的形状或高表面粗糙度，都可以确保迅速完成所有分析程序。高稳定性成像平台：隔声外壳与振动隔离器提供更稳定的成像和分析。隔声外壳从真空控制面板降低频率范围从30赫兹到5K赫兹左右的20 dB的声压等级（SPL），稳定的温度大约降低系统造成SEM图像漂移。新的振动隔离器也减少了地面振动对扫描电镜图像和小面积分析的影响。增强的SE图像用户界面：PHI710增强SE成像性能，闪烁器检测器（Scintillator）已被添加在仪器上从而提高图像质量，加上数码按钮的用户界面更再次提高了使用的方便性。新的高分辨率光谱模式：随着PHI的新技术，能量分辨率可调从0.5%到0.05%。多种化学物质的状态可以更容易有效的被观察出来。PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个操作仪器上为用户的需要而着想的软件界面。该软件是任务导向型和卷标在顶部的显示指引用户通过引入样品，分析点的定义，并设置了分析。多个位置分析可以定义和zui佳范例的定位提供了一个强大的“自动Z轴调整”的功能。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设置了测量，并在未来可以轻易的重复以往或常用的类似测量。

仪器简介：美国专利 日本技术 90%市场占有率 是金属/半导体材料研发和故障分析的有力工具。空间分辨率高，信息深度5纳米以内技术参数：俄歇电子能谱仪 &bull He以上所有元素纳米（约5nm）表面定性/表面定量/亚表层以及深度方向信息 1） 成分 2） 图像 3） DETECT LIMIT 0.1% 4） 最小束斑 6纳米 5） 仪器型号PHI 700 清华，宝钢2004，2005年购买 6） 报价 不含税100万美金主要特点：He以上所有元素纳米（约5nm）表面定性/表面定量/亚表层以及深度方向信息

油田岩屑录井放射性伽马能谱仪简介：RT-40代表了便携式伽玛射线谱仪的重大进步，为地球物理和环境应用提供了许多新特性。紧凑的，单手持拿与集成的GPS给用户非常愉快的现场操作体验。高灵敏度探测器与复杂的数学方法相结合，实时提供准确可靠的结果。GT-40和GT-40-S除了探测器的类型外，其他都是相同的。GT-40具有3 × 3”的NaI(Tl)探测器，灵敏度高，分辨率好，可在大多数现场应用中使用。GT-40-S具有2x2“带铅屏蔽的BGO探测器，应用于聚焦测量岩心或地层测量。GT-40可通过内部标定常数计算出K（%）、U（ppm）和Th（ppm）的浓度。测量结束后立即显示结果。它们可以存储在仪器中或通过蓝牙或Wi-Fi发送到外部设备。高灵敏度的集成GPS接收器，可以自动记录位置并存储在每一次测量的数据中。测量也可以通过语音标签记录。存储的语音信息可以通过内置扬声器重复。GT-40由内置充电器的高能可充电锂电池组供电。这允许实际的测量时间高达15小时多功能GeoView软件包提供所有必要的数据下载到电脑里，基于日历的测试结果，频谱视图，数据显示和将测量结果导出到地图软件上（例如谷歌地图）。特点：● 高灵敏度 使用 3”x 3” NaI(Tl)或 2”x 2” 屏蔽的BGO 探测器● 先进的数字信号处理器光谱仪● 自然本底下自动稳定● 大尺寸可读彩色显示器● 直观的用户导航操纵杆● 通过Wi- Fi或蓝牙进行无线通信● 集成GPS和语音记录的实时结果● 坚固的手持式设计应用：● 探测矿物● 油气探测● 地质探测● 地理测绘● K , U, Th 和 Cs--‐137 分析● 探测铀矿● 岩心录井● 环境监测方便携带：技术参数：探测器：GT-40：NaI(Tl), 体积345 cm3, 直径76 x 76 mm (3” x 3”), 双碱 PMTGT-40-S：BGO, 体积104 cm3, 直径51 x 51 mm (2” x 2”), 双碱 PMT，25 mm 厚度的铅屏蔽光谱仪：1024道, 40 MHz DSP，线性能量校正堆积排除器, 200 ns 分辨率显示器：彩色，穿透式, 360 x 240 dots, 72 x 54 mm (3.5”), 太阳下可读控制器：5点式带照明的导航杆声音部件：内置36 mm麦克风数据存储：最少2000个带全光谱，数据位置和语音信息的样本GPS：导航到 –162 dBm and –148 dBm 冷启动通信：数据传输、遥控装置通过： USB 2.0，1.2Class2 ，Wi-Fi 802.11n电源：7.2V/6600 mAh可充电锂电池(松下 CGR18650CG/2S3P) 最少可以操作20小时。外部交流适配器(12V/1A)充电。尺寸：直径120 mm x 420 mm重量：GT-40: 4 kg (8.8 lb)，GT-40-S:9 kg (19.8 lb)标准配置：GT-40 (GT-40-S) 谱 用户手册 交流电源适配器 1.5 米 USB 线 Geoview软件包 (CD) 坚固的Pelican牌储存和运输箱环境：操作温度范围 -10oC to +50oC ，IP-65 级防水防尘 RFI/EMF屏蔽符合FCC(47 CFR part 15)的A级CE认证

石油岩屑录井放射性伽马能谱仪简介：RT-40代表了便携式伽玛射线谱仪的重大进步，为地球物理和环境应用提供了许多新特性。紧凑的，单手持拿与集成的GPS给用户非常愉快的现场操作体验。高灵敏度探测器与复杂的数学方法相结合，实时提供准确可靠的结果。GT-40和GT-40-S除了探测器的类型外，其他都是相同的。GT-40具有3 × 3”的NaI(Tl)探测器，灵敏度高，分辨率好，可在大多数现场应用中使用。GT-40-S具有2x2“带铅屏蔽的BGO探测器，应用于聚焦测量岩心或地层测量。GT-40可通过内部标定常数计算出K（%）、U（ppm）和Th（ppm）的浓度。测量结束后立即显示结果。它们可以存储在仪器中或通过蓝牙或Wi-Fi发送到外部设备。高灵敏度的集成GPS接收器，可以自动记录位置并存储在每一次测量的数据中。测量也可以通过语音标签记录。存储的语音信息可以通过内置扬声器重复。GT-40由内置充电器的高能可充电锂电池组供电。这允许实际的测量时间高达15小时多功能GeoView软件包提供所有必要的数据下载到电脑里，基于日历的测试结果，频谱视图，数据显示和将测量结果导出到地图软件上（例如谷歌地图）。特点：● 高灵敏度 使用 3”x 3” NaI(Tl)或 2”x 2” 屏蔽的BGO 探测器● 先进的数字信号处理器光谱仪● 自然本底下自动稳定● 大尺寸可读彩色显示器● 直观的用户导航操纵杆● 通过Wi- Fi或蓝牙进行无线通信● 集成GPS和语音记录的实时结果● 坚固的手持式设计应用：● 探测矿物● 油气探测● 地质探测● 地理测绘● K , U, Th 和 Cs--‐137 分析● 探测铀矿● 岩心录井● 环境监测方便携带：技术参数：探测器：GT-40：NaI(Tl), 体积345 cm3, 直径76 x 76 mm (3” x 3”), 双碱 PMTGT-40-S：BGO, 体积104 cm3, 直径51 x 51 mm (2” x 2”), 双碱 PMT，25 mm 厚度的铅屏蔽光谱仪：1024道, 40 MHz DSP，线性能量校正堆积排除器, 200 ns 分辨率显示器：彩色，穿透式, 360 x 240 dots, 72 x 54 mm (3.5”), 太阳下可读控制器：5点式带照明的导航杆声音部件：内置36 mm麦克风数据存储：最少2000个带全光谱，数据位置和语音信息的样本GPS：导航到 –162 dBm and –148 dBm 冷启动通信：数据传输、遥控装置通过： USB 2.0，1.2Class2 ，Wi-Fi 802.11n电源：7.2V/6600 mAh可充电锂电池(松下 CGR18650CG/2S3P) 最少可以操作20小时。外部交流适配器(12V/1A)充电。尺寸：直径120 mm x 420 mm重量：GT-40: 4 kg (8.8 lb)，GT-40-S:9 kg (19.8 lb)标准配置：GT-40 (GT-40-S) 谱 用户手册 交流电源适配器 1.5 米 USB 线 Geoview软件包 (CD) 坚固的Pelican牌储存和运输箱环境：操作温度范围 -10oC to +50oC ，IP-65 级防水防尘 RFI/EMF屏蔽符合FCC(47 CFR part 15)的A级CE认证

在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决工艺流程的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配灵敏度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，低成本、高效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。全自动多样品纵深分析：PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有jue佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。灵敏度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入透镜可提供zui高的灵敏度和大幅缩短样品分析时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。 点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与工艺流程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的zui小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会阻止高能量的中性原子，从而改善了溅射坑形状和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有马达及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，利用旋转来降低样品在一个固定位置上的择优溅射，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和zui理想样品的定位是由一个强大的“自动Z轴定位”功能所提供。预存多样的操作设定，可让新手能够快速，方便使用。可选用配备：热/冷样品座样品真空传送管（Sample Transfer vessel）

针对设备制造商的微型X射线光管产品特性：- 高电压供电；- 低功耗（仅需4W）；- 小尺寸（仅重340g）。可应用于：- 手持式XRF设备；- 台式XRF设备；- 实验室科研。 Mini-X-OEM系列产品是特制的精细型X射线发生器，专为需要小尺寸和低功耗的应用设计。该射线源由一个带有透射窗口端的微型密封X射线管与封装在辐射屏蔽体内的高压电源组成。该源专门针对利用X射线荧光光谱法（XRF）测量微量元素的台式或手持式光谱仪设计，可成为这些仪器设备的关键部件。 Mini-X-OEM不同于Amptek公司之前的Mini-X系列产品。后者的电压和电流可经由USB接口直接利用已有的PC软件控制，这样X射线荧光分析相关实验可以很容易开展；而前者，Mini-X-OEM产品则赋予用户更多的自主权，光管的电压和电流由用户设定的模拟电压信号来控制，这在台式和手持式OEM应用中是首选的方案，此时所有功能均由单台内置计算机控制。cha产品性能参数X射线光管光管类型金属陶瓷光管电压5 kV – 50 kV光管电流0 - 200 μA, 见下图2光管功率最大功率4 W阴极材料钨丝窗 口铍(Be)窗, 125 μm靶 材标准: Au, Ag or Rh(铑) 选配: W光斑大小大约 2 mm输出锥角120°, 见下图 3 和 4电源输入电压6到12V，直流输入电流6V直流输入时，电流典型值1.35 A，最大值1.5 A；12V直流输入时，电流典型值0.70 A，最大值0.75A。高压稳定度 0.1%物理特性安全辐射自屏蔽（输出窗口除外），输出窗口屏蔽需要客户配备。制 冷通过热传导，需要客户配备散热装置工作温度外壳温度（-10 °C ~60 °C ）湿 度30 to 90% (无冷凝)尺 寸请查看下面机械图（图1）重 量340 g安装方向任意方向引脚配置PIN 1V+, (6-12 VDC)PIN 2V+, (6-12 VDC Nom.)PIN 3接地PIN 4接地PIN 5光管电流控制(输入电压0-4V对应 0-200μA电流)PIN 6光管高压控制(输入电压0-4V对应0-50 KV高压)PIN 7灯丝准备指示(输出电压0-5V)，低电压表示未准备好，高电压表示已准备好。PIN 8光管启用开关(输出电压0-5V)，低电压表示关，高电压对应启用。PIN 9光管电压指示(输出电压0-4V对应0-50 KV高压)PIN 10光管电流指示(输出电压0-4 V对应0-200μA电流)图1. 针对设备制造商应用微型X射线光管机械尺寸图图2. Mini-X-OEM产品恒功率曲线（4W）图3. Mini-X-OEM产品不同角度响应，120度锥角图4.Mini-X-OEM产品锥角示意（120度）注意：当使用了2mm的准直器后，X射线的锥角为5度。注意： Mini-X-OEM仅是X射线仪器的一个关键部件。配备一个防止X射线辐射的安全金属外壳是使用该产品客户的责任。所有整机OEM生产厂商（开机即用产品）必须要符合当地政府规定的保护X射线使用人员的规范。Amptek公司不承担用户不正确使用本产品的责任。 这款Mini-X-OEM产品由牛顿科学公司（Newton Scientific Inc.）生产并提供一年或2000小时（以先到者为准）的质量保证。

针对设备制造商的微型X射线光管产品特性：- 高电压供电；- 低功耗（仅需4W）；- 小尺寸（仅重340g）。可应用于：- 手持式XRF设备；- 台式XRF设备；- 实验室科研。 Mini-X-OEM系列产品是特制的精细型X射线发生器，专为需要小尺寸和低功耗的应用设计。该射线源由一个带有透射窗口端的微型密封X射线管与封装在辐射屏蔽体内的高压电源组成。该源专门针对利用X射线荧光光谱法（XRF）测量微量元素的台式或手持式光谱仪设计，可成为这些仪器设备的关键部件。 Mini-X-OEM不同于Amptek公司之前的Mini-X系列产品。后者的电压和电流可经由USB接口直接利用已有的PC软件控制，这样X射线荧光分析相关实验可以很容易开展；而前者，Mini-X-OEM产品则赋予用户更多的自主权，光管的电压和电流由用户设定的模拟电压信号来控制，这在台式和手持式OEM应用中是首选的方案，此时所有功能均由单台内置计算机控制。cha产品性能参数X射线光管光管类型金属陶瓷光管电压5 kV &ndash 50 kV光管电流0 - 200 &mu A, 见下图2光管功率最大功率4 W阴极材料钨丝窗 口铍(Be)窗, 125 &mu m靶 材标准: Au, Ag or Rh(铑) 选配: W光斑大小大约 2 mm输出锥角120° , 见下图 3 和 4电源输入电压6到12V，直流输入电流6V直流输入时，电流典型值1.35 A，最大值1.5 A；12V直流输入时，电流典型值0.70 A，最大值0.75A。高压稳定度 0.1%物理特性安全辐射自屏蔽（输出窗口除外），输出窗口屏蔽需要客户配备。制 冷通过热传导，需要客户配备散热装置工作温度外壳温度（-10 ° C ~60 ° C ）湿 度30 to 90% (无冷凝)尺 寸请查看下面机械图（图1）重 量340 g安装方向任意方向引脚配置PIN 1V+, (6-12 VDC)PIN 2V+, (6-12 VDC Nom.)PIN 3接地PIN 4接地PIN 5光管电流控制(输入电压0-4V对应 0-200&mu A电流)PIN 6光管高压控制(输入电压0-4V对应0-50 KV高压)PIN 7灯丝准备指示(输出电压0-5V)，低电压表示未准备好，高电压表示已准备好。PIN 8光管启用开关(输出电压0-5V)，低电压表示关，高电压对应启用。PIN 9光管电压指示(输出电压0-4V对应0-50 KV高压)PIN 10光管电流指示(输出电压0-4 V对应0-200&mu A电流)图1. 针对设备制造商应用微型X射线光管机械尺寸图图2. Mini-X-OEM产品恒功率曲线（4W）图3. Mini-X-OEM产品不同角度响应，120度锥角图4.Mini-X-OEM产品锥角示意（120度）注意：当使用了2mm的准直器后，X射线的锥角为5度。注意： Mini-X-OEM仅是X射线仪器的一个关键部件。配备一个防止X射线辐射的安全金属外壳是使用该产品客户的责任。所有整机OEM生产厂商（开机即用产品）必须要符合当地政府规定的保护X射线使用人员的规范。Amptek公司不承担用户不正确使用本产品的责任。 这款Mini-X-OEM产品由牛顿科学公司（Newton Scientific Inc.）生产并提供一年或2000小时（以先到者为准）的质量保证。 更多信息请关注AMPTEK英文官方网站：。

E5000电弧直读发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析准确度高、稳定性好等优点，E5000发射光谱仪拥有高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等先进技术，采用固体样品直接进样的方法，解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。E5000发射光谱仪产品结构设计如下： E5000发射光谱仪产品结构设计 ●电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术● Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的常规元素●紧凑的小型台式设计，稳定可靠、易用便捷●防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大●高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供合适的分析方法●多重连锁和监控，确保操作安全可靠●全自动电极激光对准系统●粉末样品直接进样，方便迅速●一键激发，立刻获得分析结果●内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率●软件开放所有高级功能，为客户提供方法开发平台 E5000发射光谱仪全谱测量技术●全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发●基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度- 方便查看谱线及干扰情况- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式●自动谱线去干扰算法- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰●根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保障分析精度- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围 背景扣除 多峰拟合 适配曲线 CCD高速数采系统●防溢出线阵CCD●采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围 Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统● 恒温型全固定光学系统● 全反射式光路● 光室结构紧凑● 一体式固定● 光学器件少，性能稳定● 基于CCD的全谱采集和分析 电弧数控光源●数控光源体积小、效率高●基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节●分析不同含量的元素，选择激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度●可设置及读取不同检测阶段的数据 一键激发及全自动对准电极●样品装载激发一气呵成，方便快捷●多元素同时分析，直接得到最终结果●设计精良的电极挟持旋钮●红外激光对准、先进的电极激光自动对准技术●水冷电极夹提高检测稳定性 多重连锁和安全保护●可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热●实时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒●界面上有关键温度的显示，优先查看仪器的运行情况●排风监控，消除废气影响●特殊的风道设计提高稳定性 分析软件●便捷易用的分析软件- 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节 软件界面●强大的多元素分析平台- 便捷的全谱查看- 多元素分析及多谱线选择- 一键激发，直接在软件上得到分析结果- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护可分析元素及多谱线选择●全面智能的软件算法- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法- 处理功能，为客户带来不一样的分析体验 E5000发射光谱仪内置工作曲线及基底扣除● 智能漂移校正技术利用全谱丰富的谱线信息，自动完成仪器校正，使得分析数据更稳定

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。入围优秀新品获奖理由：先进的成像探测器设计，用于定量XPI成像： 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成像的需求。空间连续的电阻阳极探测器创新技术，一方面使得XPI成像分辨率达1um，另一方面使得XPI成像得到数据无探测器背底特征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。 可选配的EDS探测器，实现体相分析技术和表面分析技术的结合： 新设计Xi+系统可选配EDS探测器与俄歇电子枪结合，可实现样品纳米尺度的体相微区元素成分分析，EDS可探测微米深度的元素组成，可以用于材料深度剖析前的元素组成预判。体相敏感的EDS技术和XPS表面分析技术的结合可更直观地用于研究合金等的表面偏析行为。 标配的反射电子能量损失谱REELS分析技术，用于弥补UPS能带分析和XPS元素分析： REELS可以探测材料的能级和带隙结果，并可用于材料中H元素含量的定量。与UPS技术结合可了解完整的价带导带信息，并弥补XPS、AES等技术不能检测H元素含量的缺陷 发展的系列基于Xi+的成熟准原位样品处理、制备、反应系统: 基于Xi+，设计的一系列成熟的ALD、MBE样品制备系统，高温高压催化还原反应系统和样品退火系统，满足不同的科研项目需求。配备为提供最佳 XPS 性能而设计的单色化X射线源，确保ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针有最高的样品测试通量。多技术能力、一系列灵活的样品制备室及样品处理设备，使该仪器在解决任何表面分析问题时都能游刃有余。利用先进的 Avantage 数据采集和处理系统，从测试数据中挖掘尽可能多的信息。ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针的特点：高灵敏度能谱小面积 XPS深度剖析能力角分辨 XPS标配离子散射能谱 (ISS)功能标配反射电子能量损失谱 (REELS)功能标配“样品预处理”室多技术分析的多功能性多个样品制备技术可选全自动无人值守式分析多样品分析单色化X射线源双晶体微聚焦单色器配备一个 500 mm 直径的罗兰圆，使用铝阳极靶样品 X 射线光斑尺寸可选择范围为 200 至 900 μm透镜、分析仪和检测器透镜/分析器/检测器一体化使 ESCALAB 250Xi XPS 能谱仪同时具备成像和小面积 XPS 分析能力的独特性两种类型的检测器可以确保为每种分析提供最佳检测——二维检测器用于成像，基于通道电子倍增器的检测器则用于需要检测高计数率的能谱分析透镜配备了两种电脑控制的光阑组件，一套视场光阑用于控制低至 20 μm 的分析区域，适用于小面积分析；另一套光阑则用于控制透镜的接收角，对于高质量角分辨 XPS 至关重要180° 半球型能量分析器深度剖析数控式 EX06 离子枪是一款高性能的离子源，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能提供方位角样品旋转多技术能力可配备其他分析技术而不降低 XPS 检测性能使用 EX06 离子枪时透镜组和能量分析仪的电源可反向（确保离子散射能谱 (ISS) 可用）电子枪可加压升至 1000 V，为 REELS 提供优异的离子源技术选项非单色化 X 射线光源的XPS分析AES（俄歇电子能谱）UPS（紫外光电子能谱）真空系统5 mm 厚高导磁 金属分析室，最大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳样品制备系统标配一体化的快速进样室和制备室额外的制备室可选Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告导出的整个分析过程

1. 使用CMA通州分析器，同时实现高灵敏度和高传输率。即使在低电流高空间分辨率情况下，都可轻松的进行分析。2. 以20kV加速电压和电流1nA进行俄歇分析，AES空间分辨率可达≤8nm3. 在保有所有CMA的优点同时，并加上了获得AVS（美国真空协会）设计奖的高能量分辨率功能，可以AES进行各种纳米级区域的化学态分析4. Windows兼容软件 同轴筒镜分析高灵敏度和高通量分析仪CMA1.同轴筒镜分析仪同轴CMA是PHI公司在其电子光谱仪的中心轴上放置电子枪。CMA能各方面360度收集产生的俄歇电子，因此具有不受样品形貌和倾角影响的优点，下图显示同轴CMA和非同轴谱仪SCA的灵敏度特点。CMA从垂直入射到角度入射均能表现出高灵敏度特点，角度依赖性低，从而采用各种入射角度，分析各种形貌的样品均可得到好的定量结果。 △同轴CMA及非同轴分析器SCA灵敏度的比较 2.比较分析形态复杂的样本下图比较CMA和SCA所采集的铜锡球SEM成像，以及俄歇成分像，SCA中俄歇成分图的阴影效果非常明显，而CMA所获得的SEM像和俄歇成分像可准确地反映真实结果。 △球状样品中CMA和SCA数据的比较SEM空间分辨率≤3nmAES成分像空间分辨率≤8nm 俄歇分析通过SEM观察确定分析位置，再进行采谱，成分分布成像和深度剖析。在SEM观察时需要细小的聚焦电子束斑，同时进行俄歇分析，需要非常稳定的电子束。SEM成像分辨率可达3纳米左右，AES710使用低噪声电源（图1），采用隔音罩以减小震动、声音和温度的影响，AES分析时分辨率可达到8nm（20kV 1nA）图2案例：球墨铸铁断面中晶间杂质的分析。图2所示：二次电子像，Ca（蓝色）Mg（绿色）Ti（红色）俄歇成分像，以及S的俄歇成分分布像，表明了AES纳米级微区的化学分析能力。 AES化学态分析图谱和分布像PHI710 AES成分像，每个像素点对应的图谱可对元素存在的化学态进行解析，进而化学态成像。高能量分辨率下图显示半导体芯片电极Si KLL的高能量分辨率成分分布图。由Si KLL谱进行 小二乘法拟合（LLS）得出三个主要成分：硅、氮氧化硅、金属硅化物，可得到这三种硅的化学态在同一表面的分布像。 △半导体芯片电极分析实例 基于Windows系统的操作软件和数据处理软件SmartSoftTM-AES（操作软件）SmartSoft AES是在Windows系统上运行的PHI710控制软件。软件设置的AES分析操作流程显示在屏幕上，即便是初学者也可以轻松掌握。为提高分析效率，实时测量位置，SEM图、俄歇分布图及谱图等都能同事呈现。Zalar旋转功能使深度剖析灵活实现，烘烤和真空控制自动化。下图是操作屏幕画面。 PHI MultiPakTM（数据分析软件）提供分析软件PHI MultiPak使俄歇分析更完善。支持快速创建报告，并提供了基于WINDOWS系统的易于使用的数据处理功能和数据分析能力。

??EDAX, X射线能谱仪,能量仪, EDS,扫描电镜,扫描电子显微镜,SEM,透射电镜, 透射电子显微镜, TEM, TEAM, SDD, 硅漂移探测器,Octane SDD, Octane Pro, Octane Plus,Octane Super, Octane Ultra, Apollo XLT SDDDAX是创新材料表征系统的领先供应商，提供能量仪（EDS），电子背散射衍射仪（EBSD），波谱仪（WDS），集成系统（EDS-EBSD，EDS-WDS，和EDS-EBSD-WDS），和微束X射线荧光能谱仪（Micro-XRF）。X射线能谱仪(EDS)——扫描电镜(SEM)用Octane SDD系列探测器能够以前所未有的速度采集高质量EDS(X射线能谱仪)数据。以前，由于高计数率会带来数据质量的损失，SDD(硅漂移探测器, Silicon Drift Detector)技术的速度优势一直没有得到充分实现。现在，由于Octane系列的面世，用户可以高速采集高质量数据，最大限度地发挥他们的材料分析能力。Octane SDD探测器型号Octane系列包括四个型号以满足显微分析的不同应用需求。 Octane Pro: 最适合氧化物、半导体和B-N-C的分析，这些材料需要优秀的分辨率来定量分析轻元素和识别低能X-射线谱线。 Octane Plus: 为广泛的应用提供卓越的性能和价值，包括材料科学、金属、聚合物，EDS-EBSD同步分析和3-D EDS。 Octane Super: 最适合对空间分辨率具有超高要求的纳米分析和X-射线产生有限的生物材料和其它材料。 Octane Ultra: 用于4-D分析，例如原位检测和反应特性，此类应用需要最大化X射线的收集。特点和好处先进的内置FET谱仪设计 Mn能量分辨率可达121 eV高速采集时仍能保持优秀的能量分辨率 所有计数率下保证数据质量 在面分布图速度高达200,000 cps时仍能进行高分辨率的定量分析最先进的脉冲处理器 最高的输入计数到存储数据转换效率。 以极短时间采集面分布图，提高用户工作效率。 TEAM™ 智能软件最优化用户分析时间，获得最佳的样品数据 智能诊断和智能采集最优化采集和分析条件。 智能脉冲堆积校正最大限度地减少了高计数率采集的影响，使SDD技术得到最大限度的应用。结论Octane系列充分实现了SDD技术的承诺 — 高计数率下的高质量EDS分析。它具有业界最稳定的分辨率，针对不同的应用进行设计，使用户可以有更多的时间探索材料，更好地认知材料。 X射线能谱仪(EDS)——透射电镜(TEM)用TEAM™ 透射电镜能谱仪配备了Apollo XLT SDD系列探测器，为透射电镜(TEM)提供终极的分析方案。Apollo XLT SDD系列探测器包括超薄窗口（SUTW）和无窗口（XLTW）两种型号。由于可以完整地传输低能X射线，Apollo XLTW可以为用户提供最佳的轻元素性能。与SUTW探头相比，其轻元素的测量灵敏度提高了500%，重元素的计数率增加了30%，从而大大提高了元素面分布的采集速度，增强了低含量轻元素的检测。特点和好处 所有电子部件均集成在探测器内，方便安装、服务、校准和远程访问 自动校准程序实现快速、可重复、准确设置，校准数据驻留于探测器上，远程访问时无需重新校准 紧凑型的探测器提供了安装的灵活性，适合于各种TEM(透射电镜) 30 mm2 SDD芯片技术，优化了立体角 超薄窗口型和无窗口型探测器均有优秀的轻元素测试性能，C分辨率均优于59 eV Mn的分辨率优于129 eV 直到100 kcps，分辨率稳定性都小于1 eV 峰位偏移直至250 kcps都小于1 eV 放大器时间常数从120 ns到7.65 s可选，便于获得最佳采集效果 高速以太网通信 当背散射电子过量时由马达控制自动缩回 针对TEM薄样品的定量算法Apollo XLT SDD系列探头将数据采集、电子信号处理集成在探头内，取消了单独的数据采集机箱，简化了设备安装。集成的探测器有简洁的外观设计，提高了性能，方便了远程访问，用户可以通过以太网线接入，消除了由传统电缆长度所导致的信号失真和损失。计算机可设置于探测器之外远达100米之处而不影响仪器的性能。智能化是TEAM™ TEM能谱仪的核心。智能化已经植入探测器，为探测器提供最好的保护，防止探测器在有害的条件下工作。当发现高能电子时，探头能够自动缩回至一个安全的位置，而无需用户人工干预，从而确保了探测器的安全运行。当需要进行维护的时候，通过远程登录的能力可实现优越的远程支持。记录在探测器中的工作历史记录也可以远程访问，以便进行快速、准确的评估。TEAM™ 能谱仪具有许多智能功能和现代化的用户界面，可自动简化分析并快速获得结果。不管操作者的技能如何，每次测试均可高效获得一致且准确的测量结果。TEAM™ 能谱仪也可以自动确定样品所含的元素，监视计数率、放大倍率、采集时间以及许多其它用于优化系统性能的工作参数。而交互式审查允许用户在完成分析之前以独特的方式预览结果。结论Apollo XLT SDD系列探测器完全集成了数据采集和电子信号处理设备，采用了TEAM™ 智能软件，是TEM上最直观、最易用的分析工具。该系列的无窗口型产品，进一步提升了采集效率和轻元素分析性能。TEAM™ 智能软件自动化的工作流程，革命性地改变了能谱仪的分析方式。无论使用者的技能水平如何，TEAM™ 每次都能提供卓越的测试结果。Apollo XLT SDD系列探测器结合TEAM™ 智能软件，为用户提供了最先进的TEM能谱仪系统。

ARL QUANT' X X射线荧光能谱仪(EDXRF) Thermo Scientific ARL QUANTX EDXRF 光谱仪提供出色的痕量分析灵敏度，打破了1纳米的检测限瓶颈。专为满足实验室和制造环境中极具挑战性的分析需求而设计，ARL QUANTX EDXRF 光谱仪的功能和灵活性可最大程度提高各种元素分析应用的分析量。能量色散 X 射线荧光 (EDXRF) 分析技术可通过简易的样品制备，实现主量、次量和痕量元素分析，所分析样品范围广泛，可以是固体、颗粒、粉末、薄膜和所有形式的液体。 先进的技术独特的 Peltier 电制冷 Si (Li) 检测器数字脉冲处理 (DPP) 技术高性能、多元素分析 主要功能 出色的痕量分析灵敏度高分析量的进程控制适用于异常材料的高级分析算法出色的样品处理灵活性机械简化和灵活性占地面积小、易于运输以进行野外测量快速、简易的安装以及可完全现场定制随附完整的实验室启用套件经验证的硬件和全套软件现场、协同方法开发完整的技术应用支持汇集了数百种应用的专业知识 功能强大、易于使用的 WinTrace*软件 无标和半无标分析基本参数 (FP) 和基于标样的经验方法多层厚度及成分不限元素、不限数量的标样利用自动化操作实现多个激发条件 可用于：悬浮颗粒物过滤器符合 RoHS 及 WEEE 的分析法医及痕量分析营养补充剂磁性介质和半导体土壤污染过滤器上的薄膜塑料中的有毒元素

产品描述: C-WAVE 可见近红外宽谱调谐激光源产品描述：C-WAVE系列是可见/近红外波段连续光参量振荡宽谱调谐激光源，光谱范围覆盖了激光二极管、染料激光器和钛宝石激光器的输出波段。对于主要关注波长覆盖范围及波长可选与可调谐性的应用，C-WAVE是很好的选择。通过GUI或可编程接口可简易设置所需输出波长，实现从蓝光到红光范围无间断调谐。C-WAVE advanced窄线宽型专为满足原子物理及量子光学等应用要求而设计。具有窄线宽、高频率稳定性，空前的可见光波段宽谱连续调谐范围等特点。无论是要求宽谱范围或是仅需某些“特定”波长，C-WAVE advanced均可输出精确波长。典型参数: C-WAVE + IR型可见光波段的辐射经过光学参量振荡及二次谐波产生两个非线性步骤实现。第一步，近红外波段（900 - 1300 nm）可调谐的信频光和闲频光产生并在腔内循环。第二步，通过倍频部分转换成所需的可见光波段（450 - 650 nm）激光输出。 通过对C-WAVE + IR谐振腔升级设计，精确控制腔内两个非线性步骤的平衡，可以抽取一小部分腔内循环的信频光和闲频光的能量用于进行实验，功率和波长范围可根据要求定制。

Escalab 250Xi型电子能谱仪是一台多功能高性能的表面分析仪器，它可以用于研究各种固体材料样品表面（1-10nm厚度）的元素种类、化学价态以及相对含量。结合离子刻蚀技术还可以获得元素及化学态深度分布信息；通过成像技术可以获得元素及化学态的面分布信息；利用微聚焦X射线源或电子束可以获得微区表面信息。在金属、玻璃、高分子、半导体、纳米材料、生物材料以及催化等领域有广泛应用。本仪器以X射线光电子能谱为主要功能，还带有俄歇电子能谱、紫外光电子能谱、反射电子能量损失谱及离子散射谱等附件功能。主要功能特点如下：1． 常规XPS，鉴别样品表面的元素种类、化学价态以及相对含量。双阳极XPS，更适合用于不同的特殊过渡金属元素的研究，如催化领域。2． 微区XPS分析（单色化XPS），用于样品微区（＞20μm）表面成分分析，高能量分辨的化学态分析3． 深度剖析XPS，结合离子刻蚀技术对样品（如薄膜等）进行成分深度分布分析。通过角分辨XPS还可以进行非损伤成分深度分布分析。4． XPS成像，可以对元素或化学态进行表面面分布分析，使一些分析结果更直观。5． 反射电子能量损失谱REELS技术，可实现氢元素的检测。6． 离子能量损失谱ISS，可实现样品表面元素信息的检测7． 场发射俄歇AES，可实现样品表面100nm尺寸下的元素信息检测。可以进行成分分析、形貌像分析及扫描俄歇像分析等。8． 紫外光电子能谱（UPS），可以获得样品价带谱信息，对导体、半导体的能带、带隙等分析提供主要数据。还可以分析样品逸出功等。

产品详情日本JEOL软X射线分析谱仪SXES 软X射线分析谱仪(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通过组合新开发的衍射光栅和高灵敏度Ｘ射线CCD相机，实现了极高的能量分辨率。 和EDS一样可以并行检测，并且能以0.3eV(费米边处Al-L基准)的极高能量分辨率进行分析，超过了WDS的能量分辨率。产品规格： 产品规格 能量分辨率0.3eV（Al-L 光谱图73eV处测试） 获取能量范围：衍射光栅JS50XL的能区50-170eV 获取能量范围：衍射光栅JS50XL的能区70-210eV 分光谱仪艙安装位置： EPMA的WDS接口：NO.2接口（正面右侧） FE-SEM的WDS接口（正面左后侧） 分光谱仪尺寸　W 168mm×D 348mm ×H 683mm * 从接口包括CCD的距离 分光谱仪重量　25kg 适用机型 EPMA ： JXA-8530F, JXA-8230, JXA-8500F, JXA-8200 SEM ： JSM-7800F, JSM-7800 Prime, JSM-7100F 产品特点： 软X射线分析谱仪(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通过组合新开发的衍射光栅和高灵敏度Ｘ射线CCD相机，实现了极高的能量分辨率。和EDS一样可以并行检测，并且能以0.3eV(费米边处Al-L基准)的极高能量分辨率进行分析，超过了WDS的能量分辨率。 系统简介 最新开发设计的分光系统，不需移动衍射光栅或检测器（CCD）就能同时获取不同能量的谱图。而且由于能量分辨率很高，还可以采集状态分析分布图 SXES、WDS、EDS的比较 各种分光方法中氮化钛样品的谱图 即使在WDS分析中氮化钛的谱峰也發生重叠，需要采取去卷积的数学方法处理。如下图所示，SXES具有很高的能量分辨率。 比较表 锂离子二次电池（LIB）分析实例 能观察到LIB的充电量 充满电后Li-K样品的谱图 说明: 由于理论上的原因，氧化锂的检测很困难 轻元素的测试实例 SXES测试碳素化合物的实例 可以测试金刚石、石墨、聚合物的不同。 各种氮素化合物的测试实例 氮素也可以根据波形分析化学结合状态。 硝酸盐和氮化物的波形完全不同，还能观察到易受电子束损伤的铵盐的独特波形。

AOTF高光谱成像光谱仪采用的声光可调谐滤波技术，利用高品质的声光可调谐滤波器，使图像质量更加清晰，而且没有图像变形；具有更高的时间分辨率和光谱分辨率；波长转换速度快；配备射频驱动器(RF Driver)软件，使用方便。与传统的光栅推扫型成像光谱仪相比，AOTF声光可调谐高光谱成像光谱仪具有体积小，易于安装和携带，扫描速度快，波长可自由选取等特点，是一款可便携的高光谱成像设备。AOTF高光谱成像光谱仪可用于在线过程监测和废料的分类，也可广泛应用于众多研究领域：生物医学和半导体应用领域；采用特殊设计的可见光，近红外和中红外光谱成像系统也可用于环境监测和遥感技术。“点击具体型号查看产品详细介绍、相关下载以及应用案例！”产品列表型号水平分辨率垂直分辨率VIS-40-0.65-L16001200NIR-55-1.0-L16001200VNIR-4-1.0-L16001200NIR-9-1.7-L640512SWIR-1.5-2.5-L640512典型应用：环境科学与遥感技术 生物学和生物医学研究 农业监测 生物医学行业上的时间分辨拉曼频谱成像技术 微电子工业在线质量和过程控制；其他OEM应用。

软X射线分析谱仪(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通过组合新开发的衍射光栅和高灵敏度Ｘ射线CCD相机，实现了极高的能量分辨率。 和EDS一样可以并行检测，并且能以0.3eV(费米边处Al-L基准)的极高能量分辨率进行分析，超过了WDS的能量分辨率。产品规格能量分辨率0.3eV（Al-L 光谱图73eV处测试）获取能量范围：衍射光栅JS50XL的能区50-170eV获取能量范围：衍射光栅JS50XL的能区70-210eV分光谱仪艙安装位置：EPMA的WDS接口：NO.2接口（正面右侧）FE-SEM的WDS接口（正面左后侧）分光谱仪尺寸　W 168mm×D 348mm ×H 683mm* 从接口包括CCD的距离分光谱仪重量　25kg适用机型EPMA ： JXA-8530F, JXA-8230, JXA-8500F, JXA-8200SEM ： JSM-7800F, JSM-7800 Prime, JSM-7100F

ARL QUANT'X X射线荧光能谱仪(EDXRF) Thermo Scientific ARL QUANTX EDXRF 光谱仪提供出色的痕量分析灵敏度，打破了1纳米的检测限瓶颈。专为满足实验室和制造环境中极具挑战性的分析需求而设计，ARL QUANTX EDXRF 光谱仪的功能和灵活性可最大程度提高各种元素分析应用的分析量。能量色散 X 射线荧光 (EDXRF) 分析技术可通过简易的样品制备，实现主量、次量和痕量元素分析，所分析样品范围广泛，可以是固体、颗粒、粉末、薄膜和所有形式的液体。 先进的技术独特的 Peltier 电制冷 Si (Li) 检测器数字脉冲处理 (DPP) 技术高性能、多元素分析 主要功能 出色的痕量分析灵敏度高分析量的进程控制适用于异常材料的高级分析算法出色的样品处理灵活性机械简化和灵活性占地面积小、易于运输以进行野外测量快速、简易的安装以及可完全现场定制随附完整的实验室启用套件经验证的硬件和全套软件现场、协同方法开发完整的技术应用支持汇集了数百种应用的专业知识 功能强大、易于使用的 WinTrace*软件 无标和半无标分析基本参数 (FP) 和基于标样的经验方法多层厚度及成分不限元素、不限数量的标样利用自动化操作实现多个激发条件 可用于：悬浮颗粒物过滤器符合 RoHS 及 WEEE 的分析法医及痕量分析营养补充剂磁性介质和半导体土壤污染过滤器上的薄膜塑料中的有毒元素合作、共赢！美国热电：直读光谱仪ARL8860、XRF、XRD ICP、电镜、电子能谱仪德国徕卡：金相显微镜、体视显微镜、电镜制样设备英斯特朗：疲劳试验机、万能试验机； 摆锤冲击试验机、落锤冲击试验机东京精密：圆度仪、轮廓仪、粗糙度仪、三坐标美国法如：激光跟踪仪、关节臂及扫描 日本奥林巴斯手持光谱仪 德国帕马斯颗粒计数器租赁检测：便携式三坐标、激光跟踪仪、3D扫描仪为客户提供专业的检测服务，帮客户挖掘新的赢利空间！上海澳信检测技术有限公司青岛澳信仪器有限公司青岛澳信质量技术服务有限公司联系地址：青岛市城阳区山河路702号上海地址：上海浦东新区川沙路1098号新美测（青岛）测试科技有限公司提供测试服务：静态力学测试主要包括拉伸、压缩、弯曲、剪切等；动态疲劳测试主要包括：拉拉疲劳、拉压疲劳、压压疲劳、裂纹扩展速率等

原理特点玻尔模型所描述的电子轨道和X射线荧光产生的原理X射线荧光的产生原理X射线管发出X射线照射样品，样品中所含的原子被激 发而产生原子特有的X射线。这种X射线被称为X射线 荧光。不同的元素波长（能量）不同。通过检测X射 线的波长，能够进行定性分析。X射线荧光的强度与 含量呈函数关系，检测元素特有的X射线的量值能够 进行定量分析。满足不同领域的应用■ 电子电气RoHS指令、无卤素等筛选分析半导体、存储装置、液晶、太阳能电池等的各种薄膜分析■ 汽车机械 应对ELV指令的筛选分析 各种机械零部件成分分析及镀层厚度、涂层附着量的检测■ 钢铁有色金属 原材料、合金、锡焊、贵金属的主要成分、残余成分的分析 炉渣的组成分析■ 矿业 选矿工艺的成色鉴别分析■ 窑业 陶瓷、水泥、玻璃、砖、粘土的分析■ 石油石油化学 油中硫的分析 润滑油中各种添加元素及混入元素的分析■ 化学工业无机有机原料和产品分析催化剂、颜料、涂料、橡胶、塑胶的分析■ 环境 土壤、排水、焚烧灰、过滤、PM2.5等成分分析■ 医药 合成时的残留催化剂分析 原药中不纯物分析、异物分析■ 农业食品 土壤、肥料、植物的分析 食品的原料分析、添加元素管理、溶入异物的分析■ 其它 考古学样品及宝石成分分析 玩具日用品中有害重金属元素测定等追求高速・ 高灵敏度・ 高精度的机型高速 — 计数量高达到30倍 —搭载高速电路，计数量高达以往型号（EDX-720）的30倍。通过改良算法和升级基本性能，缩短了测定时间， 进一步提高了操作便捷性。铜合金中的铅（Pb）的谱图比较铜合金中的铬（Cr）的谱图比较实际样品的比较分别用以往型号（EDX-720）和EDX-7200对无铅锡焊中所含的铅（Pb）进行分析，比较其重现性。测定时间与标准偏差（定量值的偏差）的关系满足目标分析精度所需的测定时间X射线荧光分析可以通过延长测定时间增加X射线荧光的计数来提高精度（重现性）。 搭载高计数率SDD检测器和高速电路的EDX-7200与以往型号（EDX-720）相比，能够在更短的时间内达到目标分 析精度。高灵敏度 — 检测下限提高6倍 —提高了金属分析中微量元素的检测下限。金属中的铅的检测下限基准（300秒）※ 检测下限值仅为示例，并非保证值。高分辨率能量分辨率的比较（样品：PPS树脂） 与搭载Si(Li)半导体检测器的以往型号（EDX-720）相比， 能量分辨率更胜一筹。不同元素峰值重叠的影响减少，分析结果更加可靠。无需液氮SDD检测器为电子制冷方式，无需液氮冷却。不仅可以免去繁琐的液氮补充作业，还可以降低运行成本。检测元素范围 ・ 用EDX-7200进行12Mg以下的轻元素分析时，推荐使用真空检测单元或者氦气置换检测单元(均为选购件）。・ 检测下限因样品基材和共存元素不同而有差异。・ 使用样品容器分析20Ca以下的轻元素时，由于薄膜吸收的原因，难以达到上述检测下限基准。卓越的通用性从微小样品到大型样品，从粉末样品到液体样品，灵活应对各类样品。可配备进行轻元素高灵敏度分析时所需的真空检测单元、氦气置换检测单元以及可实现自动连续测定的12位样品 转台（选购件）。4种准直器以及样品观察装置ø 1、3、5、10mm 四级自动切换根据样品尺寸的不同，照射直径可进行4级切换。微小异 物分析和不良分析时采用ø 1mm，少量样品时采用ø 3mm和 ø 5mm，可以根据样品的形状选择适合的照射直径。标配样品观察装置通过样品观察装置，可以确认X射线的照射位置。适用于 检测微小样品、检测由多个测样点组成的样品、使用微量 样品容器检测等情况。 自动切换5种一次滤光片使用一次滤光片降低X射线管产生的特性X射线和连续X射 线，从而提升检测灵敏度，尤其于分析微量元素时有效。 EDX-7200搭载5种（含OPEN共6种）一次滤光片，可以实 现软件操控自动切换。 准直器和一次滤光片自由组合准直器和一次滤光片独立驱动，可自由组合，共6×4种=24种组合可选。 同时，所有组合均可对应FP法进行定量分析。 真空检测单元（选购件）由于轻元素产生的X射线荧光在大气环境下易被吸收，所以需要在真空环境下提高轻元素的检测灵敏度。真空环境为100时，氦气置换和大气环境下的相对灵敏度真空环境和大气环境的分析结果比较（样品：钠钙玻璃）氦气置换检测单元（选购件）对于无法在真空环境下进行分析的样品（如液体、会产生气体等），可以通过氦气置换实现轻元素分析。升级了岛津特有的氦气置换系统（日本专利：「特许」No.5962855），且配备可实现短时间检测并减少氦气 消耗量的功能。氦气置换和大气环境下的谱图比较（EDX-7200/油中硫） 12位样品转台（选购件）配备样品转台可实现自动连续测定。特别是在真空氦气 环境下可实现高通量，从而显著提高检测效率。丰富的分析功能校准曲线法校准曲线法是指通过对标准样品的测定，依据X射线 荧光强度与标准样品的含量关系制作校准曲线，是对未知样品进行定量的方法。 校准曲线法需要选择与未知样品类型相近的标准样品 且需要制作各元素的校准曲线，从而实现准确度高的分析。可以进行吸收/激发校正、重叠校正等各种共存元素校正。 FP法根据理论计算而得出X射线强度的定量方法。对于难 以找到标准样品对应的未知样品，FP法是有效的定量 分析方法。配置自动设定平衡功能样品主要成分为C,H,O等时，FP法需要进行平衡（残 余成分）设定。如根据特征形状判定需要平衡设定时， 软件将自动进行。 背景FP法背景FP法指在仅计算X射线荧光（净峰）强度的传统FP法基 础上，增加计算散射X射线（背景）强度的方法。（日本 专利：「特许」No.5975181）在提升少量有机物样品的定量准确度、异型镀层样品的膜厚 测定、有机膜的膜厚测定方面效果显著。 薄膜FP法标配薄膜FP法。可检测多层膜的膜厚,同时对膜的组成进行 定量分析。薄膜FP法可对基板等基材、镀层结果、元素信息 进行设定。 匹配功能匹配功能是指将某种样品的分析结果与所保存的谱库 比较，按由高到低的顺序自动排列出接近的物质。谱库分为含量数据和强度数据两类，用户均可登录。 同时，含量数据更可手动直接录入。匹配结果具有设计感的外观460MM宽的紧凑机身，配置大型样品室460mm宽的紧凑机身，与以往型号（EDX-720）相比，宽度减少了20%。虽然机身紧凑，但却拥有可放置300（W）×275（D）×约100（H）mm样品（相当于A4大小）的大型样品室。识别度高的LED显示灯产生X射线时，分析仪器后面的X射线显示灯和前面的X-RAYS ON显示灯会点亮。分析时X射线显示灯的两侧亮起 蓝灯。操作人员不在分析现场也可对分析仪器的状态一目了然。“初次见面”也可轻松上手的软件PCEDX Navi为了使X射线荧光分析贴近每一个实验室，深入浅出的软件PCEDX Navi应运而生。 仅凭直觉即可操作的简洁界面，无论是初学者还是专家，都可以体验到便捷的操作环境。简洁的界面在一个界面内可以同时显示样品图像、选择分析条件、输入样品名称。在测定界面上可以直接切换准直器可以一边观察样品图像,一边切换准直器直径。 同时,选定的直径用黄色圆圈表示。自动保存样品图像测定开始时自动读取样品图像，与数据文件夹关联保存。

TEAM™ 透射电镜能谱仪配备了Apollo XLT SDD系列探测器，为透射电镜(TEM)提供终极的分析方案。Apollo XLT SDD系列探测器包括超薄窗口（SUTW）和无窗口（XLTW）两种型号。由于可以完整地传输低能X射线，Apollo XLTW可以为用户提供最佳的轻元素性能。与SUTW探头相比，其轻元素的测量灵敏度提高了500%，重元素的计数率增加了30%，从而大大提高了元素面分布的采集速度，增强了低含量轻元素的检测。 特点和好处所有电子部件均集成在探测器内，方便安装、服务、校准和远程访问自动校准程序实现快速、可重复、准确设置，校准数据驻留于探测器上，远程访问时无需重新校准紧凑型的探测器提供了安装的灵活性，适合于各种TEM30 mm2 SDD芯片技术，优化了立体角超薄窗口型和无窗口型探测器均有优秀的轻元素测试性能，C分辨率均优于59 eVMn 的分辨率优于129 eV直到100 kcps，分辨率稳定性都小于1 eV峰位偏移直至250 kcps 都小于1 eV放大器时间常数从120 ns 到7.65 s 可选，便于获得最佳采集效果高速以太网通信当背散射电子过量时由马达控制自动缩回针对TEM薄样品的定量算法 Apollo XLT SDD 系列探头将数据采集、电子信号处理集成在探头内，取消了单独的数据采集机箱，简化了设备安装。集成的探测器有简洁的外观设计，提高了性能，方便了远程访问，用户可以通过以太网线接入，消除了由传统电缆长度所导致的信号失真和损失。计算机可设置于探测器之外远达100米之处而不影响仪器的性能。智能化是TEAM™ TEM 能谱仪的核心。智能化已经植入探测器，为探测器提供最好的保护，防止探测器在有害的条件下工作。当发现高能电子时，探头能够自动缩回至一个安全的位置，而无需用户人工干预，从而确保了探测器的安全运行。当需要进行维护的时候，通过远程登录的能力可实现优越的远程支持。记录在探测器中的工作历史记录也可以远程访问，以便进行快速、准确的评估。 TEAM™ 能谱仪具有许多智能功能和现代化的用户界面，可自动简化分析并快速获得结果。不管操作者的技能如何，每次测试均可高效获得一致且准确的测量结果。TEAM™ 能谱仪也可以自动确定样品所含的元素，监视计数率、放大倍率、采集时间以及许多其它用于优化系统性能的工作参数。而交互式审查允许用户在完成分析之前以独特的方式预览结果。结论Apollo XLT SDD 系列探测器完全集成了数据采集和电子信号处理设备，采用了TEAM™ 智能软件，是 TEM 上最直观、最易用的分析工具。该系列的无窗口型产品，进一步提升了采集效率和轻元素分析性能。TEAM™ 智能软件自动化的工作流程，革命性地改变了能谱仪的分析方式。无论使用者的技能水平如何，TEAM™ 每次都能提供卓越的测试结果。Apollo XLT SDD 系列探测器结合TEAM™ 智能软件，为用户提供了最先进的TEM能谱仪系统。

ELIO是一款紧凑式的便携式能量色散X射线荧光光谱仪，针对一些珍贵的材质，可进行非接触式和无损性的元素分析。ELIO利用CUBE技术可获得准确的元素分布图，实现测量点的准确定位，拥有直观的硬件和分析软件，加快了XRF分析仪器的现代化进程。在微区-XRF中设置标准方便快捷的非接触式检测1、ELIO设计简单精美，具有1毫米的激光定位分析点，内置相机和新型电子元件2、测量头安装在带有两个电动平台的三脚架上，完成元素分布图的采集3、设计狭窄的鼻部能够进入测量点和难以到达的紧角完成检测4、ELIO基于激发强度大，样品台可以快速移动的设计，从而检测速度fei常快，此外，控制软件还可进一步优化采集时间5、采用CUBE技术的大面积硅漂移探测器（SDD）6、采用的探测器技术，能量分辨率140eV（Mn Kα），并具有高输出计数率（OCR），可实现快速分析，同时保持高能量分辨率7、高电压50 kV的X射线激发源与近距离检测的几何结构，可在数秒内实现非接触式检测8、灵活更换X射线管阳，滤波片和准直器，为不同领域的应用提供更加优化的检测条件。 携带便携1、测量头安装在紧凑轻量的铝质三脚架上，使ELIO fei常适合移动使用2、测量头的总重量为2.1千克3、样本大小如何，三脚架上的ELIO都可以轻松地对其元素进行检测4、多种三脚架可供选择，满足不同的用户要求5、可选的电动XY平台，完成现场便携式的元素分布绘图6、文物遗产研究---ELIO可以对考古研究，艺术鉴定和保护的物体进行原位扫描，使用户免于必运输，避免样品收到损害。一、地质科学分析大型钻芯部分或其他矿物样品，拥有的元素分布图和光谱解析功能，可帮助科学家了解岩土材料中元素含量以及分布信息。二、材料科学针对一些材料，可以通过移动扫描获得元素分布，从而扩展了这些材料的应用，从空间科学走向消费产品。三、食品科学植物中的元素分布图可以准确识别营养物富集的位置，直观地展示加工食品中强化剂的分布。四、科学教育和研究可作为教学和研究工具来分析田野，教室或实验室中的物体和材料。

安捷伦Agilent ICP-OES 5110等离子发射光谱仪 Agilent 5110 同步垂直双向观测 (SVDV) ICP-OES 具有独特的智能光谱组合 (DSC) 技术，可以实现同步的水平和垂直测量。配合使用垂直炬管与速度更快且无需气体吹扫的 VistaChip II CCD 检测器，5100 ICP-OES（也称作 ICP-AES）能够以一半的氩气用量来运行最具挑战的样品，速度可提升 55%，并且不影响任何分析性能。安捷伦Agilent ICP-OES 5110等离子发射光谱仪 产品特性： ● 独特的智能光谱组合 (DSC) 技术可实现同步水平和垂直信号测量，消耗更少气体即可运行最快的 ICP-OES 分析；● 高级阀系统 (AVS) 可降低每次分析成本并使分析效率提高一倍以上；● 垂直炬管设计可以测量包括高基质和挥发性有机溶剂在内的复杂样品；● 通过分析过程中精准气泡注入控制，可选 AVS 能够有效缩短样品提升、稳定时间和清洗延时，从而实现高精度的分析；● 固态 RF 系统可提供稳定的等离子体，确保长期稳定的分析性能；● IntelliQuant 模式使样品中的所有元素一目了然，大大简化了方法开发过程并实现了快速样品筛选；● 直观的 ICP Expert 软件和 DSC 技术使方法开发更为便捷流畅；● 完全集成式切换阀与即插即用式炬管极大程度减少了培训需求，确保实现快速启动；● 5110 提供三种灵活配置：同步垂直双向观测、垂直双向观测和垂直观测。安捷伦Agilent ICP-OES 5110等离子发射光谱仪 附件 5110 ICP-OES 专用于应对高难度应用，可提供无可比拟的性能。它拥有多种可选的自动进样系统，可优化实验室的工作流程。1、高级阀系统 (AVS)AVS 为 6 或 7 通切换阀系统。它可降低每次分析成本并使您的 5110 ICP-OES 分析效率提高一倍以上。通过分析过程中精准气泡注入控制，这种 AVS 能够有效缩短样品提升、稳定时间和清洗延时，从而实现高精度的分析。2、SPS 4 自动进样器用于无人值守的多元素分析SPS 4 是用于原子光谱的新一代、高性能自动进样器。专为满足需要快速、大容量、可靠自动进样器的高通量实验室需求而设计，同时体积小巧、运行安静、易于使用且价格合理。具有完全集成的防护罩选件，能够保护您的样品和实验室环境，这一切均可在不占用额外工作台空间的前提下实现。3、多模式样品引入系统 (MSIS)用于 As、Se 和 Hg 的亚 ppb 级检测多模式样品引入系统能够同时蒸发环境敏感元素（包括 As、Se 和 Hg），并且具有低 ppb 检测限。它通过薄膜氢化物技术提供显著更佳的氢化法分析性能。另外，它还提供三种样品引入模式，无需切换，一次分析即可同时完成常规元素和氢化物元素的测定。4、OneNeb 惰性雾化器对于有机物和强酸安捷伦OneNeb惰性喷雾器被设计用于处理具有挑战性的样品。惰性塑料结构是抗有机溶剂和强酸，而几乎不可封闭的设计使它理想的样品含有高溶解固体的样品。5、特定应用的样品引入选件适用于各种应用的所有样品提供各种可用于有机溶剂、高盐/高基质和含有氟化氢 (HF) 样品的优化炬管和样品引入套件。可拆卸炬管最大程度降低了成本，并且易于维护，可实现快速切换和经济高效的操作。