切磨抛机

预切单抛硅片常用于SEM和SPM中，硅片的一些参数如下，大硅片直径100mm，基片厚度525un：l Orientation: 100 l Resistance: 1-30 Ohmsl Type: P (Boron)l Wafer thickness: 18-21 mil (460-530μm)l Roughness: 2nm, polished on one side材料科学方面：当用FESEM研究纳米离子时，硅片具有玻璃盖玻片一样的光滑性能，而且具有高分辨率测试所需要的导电性。因为硅衬底有点导电，人们可以减少对金属涂层的需要（涂层有可能掩饰材料样本的特点）。生物学方面：非常理想的衬底来生长细胞，表面光滑，完全等同玻璃盖玻片。由于是硅材料，人们不用担心样本受到玻璃的腐蚀，还有硅的惰性，完全可以高压灭菌。产品选购：货号产品名称规格4136SC-ABSilicon Chip Substrates 5x5 mm x 525 um Thick269 Chips4137SC-ABSilicon Chip Substrates 5x7 mm x 525 um Thick186 Chips

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

西甲硅油乳剂高剪切均质机，西甲硅油高速胶体磨，一种西甲硅油乳剂均质乳化设备 西甲硅油，为液态二甲硅油的混合物，化学名称为α-（三甲基硅甲烷基）-ω-甲基聚[氧（二甲基亚硅烯基）]与二氧化硅复合物，是一种灰白色、乳白色粘稠液体的化学品，几乎不溶于水和甲醇，微溶于无水乙醇，与二氯甲烷、乙酸乙酯、丁酮和甲苯可部分混合。西甲硅油为胃肠病用药，临床上主要用于治疗由胃肠道中聚集了过多气体而引起的不适症状如腹胀等，术后也可使用，也可作为腹部影像学检查的辅助用药（例如：X-线、超声、胃镜检查）以及作为双重对比显示的造影剂悬液的添加剂。 西甲硅油为一种稳定的表面活性剂，即聚二甲基硅氧烷，可改变消化道中存在于食糜和黏液内气泡的表面张力，并使之分解，释放出的气体可被肠壁吸收或通过肠蠕动而排出。国内常单用二甲硅油或二氧化硅作为消泡剂，但作用较弱；两者合用，消泡作用增强，二甲硅油9.4mg，二氧化硅0.6mg，即能达到1000mg二甲硅油的功效。作为二甲硅油与二氧化硅的复合物，西甲油的药理作用远胜于二甲硅油或二氧化硅。西甲硅油属于药理学和生理学惰性物质，大鼠的亚急性毒性实验表明西甲硅油无毒性作用。 西甲硅油溶剂的功效和作用是如何的，日就来跟大伙儿介绍一下有关西甲硅油溶剂的事儿，很多父母需要亲身经历宝宝胀气的这一全过程，如何缓解宝宝胀气这一问题呢？下边就来跟大伙儿详解一下，西甲硅油溶剂的使用方法使用量。西甲硅油是一种稳定的表面活性剂,即聚二甲基硅氧烷,可改变消化道中存在于食糜和黏液内气泡的表面张力,并使之分解,释放出的气体可被肠壁吸收或通过肠蠕动而排出，是纯粹的物理性作用。西甲硅油用于治疗因胃肠道中聚集了过多气体而引起的不适症状:如腹胀等,术后胀气也可使用。还可作为腹部影像学检查的辅助用药以及作为双重对比显示的造影剂混悬液的添加剂。有文献报道，西甲硅油乳剂可用于新生儿胃肠功能紊乱的治疗；西甲硅油联合聚乙二醇4000治疗儿童便秘疗效佳；西甲硅油联合厚朴排气可有效减轻机械通气并发腹胀患者的临床症状和体征。 上海依肯机械有限公司特别推出高剪切乳化均质机ERS2000系列，ERS2000在线式高速高剪切乳化均质机，主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组均质乳化头(定子+转子)同时工作，乳液经过高剪切后，液滴更细腻，粒径分布更窄，因而生成的混合液稳定性更好。三组均质乳化头均易于更换，适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大规模化生产。符合CIP/SIP清洁标准，适合食品及医药生产。 IKN高速高剪切均质乳化机选型表： 均质乳化机标准流量（H2O）输出转速标准线速度马达功率进出口尺寸 型号l/hrpmm/s kWERS 2000/4300-1,00014000402.2DN25/DN15ERS 2000/51,000-1.50010,500407.5DN40/DN32ERS 2000/103,0007,3004015DN50/DN50ERS 2000/208,0004,9004037DN80/DN65ERS 2000/3020,0002,8504075DN150/DN125 ERS 2000/5040,0002,00040160DN200/DN150西甲硅油乳剂高剪切均质机，西甲硅油高速胶体磨，一种西甲硅油乳剂均质乳化设备

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

玻璃酸钠滴眼液高剪切均质机，透明质酸钠滴眼液高剪切均质机，玻璃酸钠凝胶滴眼液均质机，聚乙烯醇滴眼液均质机，左氧氟沙星滴眼液高剪切均质机，上海玻璃酸钠滴眼液高剪切均质机厂家 玻璃酸钠(Sodium Hyaluronate) 又名透明质酸钠， 是由N-乙酰葡萄糖醛酸反复交替而形成的一种高分子多糖体生物材料。玻璃酸钠为关节滑液的主要成分，是软骨基质的成分之一。在关节腔内起润滑作用，可覆盖和保护关节软骨，改善关节挛缩，抑制软骨变性变化表面，改善病理性关节液，增加滴滑功能。 玻璃酸钠在眼科中的应用：玻璃酸钠位于眼组织中，发挥着重要的生理功能。在眼玻璃体中含有大量的玻璃酸钠，与胶原纤维、可溶性蛋白质共同构成玻璃体。胶原形成的网状结构起固体支架作用，玻璃酸钠的大分子网状结构可结合大量的水分，形成凝胶充填于其中，两个网状体系相互平衡，角膜基质中的玻璃酸钠对维持角膜形态具有重要的作用。Hedbys等发现，角膜对水的作用是由基质中玻璃酸钠网状结构所产生。当内皮细胞损伤时，基质内的玻璃酸钠则吸水膨胀，打破了以上的平衡状态，导致角膜水肿。眼房水中也存在少量玻璃酸钠。 在眼科手术中的应用：利用面所述玻璃酸钠理化性质中的高黏弹性和假可塑性，1%～3%的玻璃酸钠用作眼科手术理想黏弹剂已有30多年的历史。在手术中可以有效支撑房；提供清晰的手术视野；并且易于自注射针头推出，术后易于冲洗；涂布于眼内组织表面及手术器械表面形成保护膜，使角膜和小梁内皮细胞、晶状体、睫状体上皮细胞等避免机械性损伤；避免角膜等组织在手术过程中暴露于空气所致的干燥；并可加速角膜损伤的愈合。玻璃酸钠本身为人体天然存在的成分，具有很好的生物相容性，符合理想黏弹剂的特点。 在治疗干眼症方面的应用：玻璃酸钠具有显著的亲水能力和润滑作用，因此，可明显缓解眼干燥症的疼痛、痒、烧灼感、异物感等临床症状，明显延长泪膜破裂时间。研究者一致认为，玻璃酸钠可能与角膜表面和泪膜发生作用，对泪膜起稳定作用，从而可对眼部产生湿润和润滑作用，消除眼部的不适症状。 在眼用制剂中的作用：玻璃酸钠除了作为主要成分配制成滴眼液治疗干眼症以外，还作为眼部给药传输系统的媒介而广泛地应用于眼用制剂中。 提高药物生物利用度：玻璃酸钠具有非牛顿流体特性和好的生物相容性，其稀溶液和泪液相似，具有与生物泪液相同的黏滞性和伸缩性。黏度随切变力的增大而明显减小，即使药液和黏度很高，眼睑仍可眨动自如，没有黏糊的感觉。玻璃酸钠还具有良好的耐受性，耐受浓度可高达10mg/ml(1%)。此外，研究还发现，以玻璃酸钠为媒介，即使药液的黏度较低，所发挥的增效作用也比其他增黏剂要强得多。所以玻璃酸钠提高药物生物利用度是通过物理增稠、膜亲和力及药物结合作用协同产生的。玻璃酸钠滴眼液高剪切均质机，透明质酸钠滴眼液高剪切均质机，玻璃酸钠凝胶滴眼液均质机，聚乙烯醇滴眼液均质机，左氧氟沙星滴眼液高剪切均质机，上海玻璃酸钠滴眼液高剪切均质机厂家 均质是玻璃酸钠生产中经常要运用的一项技术。均质就是指物料的料液在挤压，强冲击与失压膨胀的三重作用下使物料细化，从而使物料能更均匀的相互混合。上海依肯机械设备有限公司依托德国合作公司开发的高剪切均质机，是通过高速剪切，强挤压，使物料细化，将物料剪切至5μm甚至1μm以内，而到达提高体系稳定性的设备。由于转子高速旋转（ER2000系列转速达9000rpm ,线速度23m/s / ERS2000的转速高达14，000rpm,线速度44m/s / ERX2000的转速则能够实现超过20,000rpm,线速度66m/s）所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，终得到稳定的高品质产品，由于能量密度高,无需其他辅助分散设备。上海依肯高剪切均质机设备参数选型表型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183，公司有样机可以免费进行测试验证。玻璃酸钠滴眼液高剪切均质机，透明质酸钠滴眼液高剪切均质机，玻璃酸钠凝胶滴眼液均质机，聚乙烯醇滴眼液均质机，左氧氟沙星滴眼液高剪切均质机，上海玻璃酸钠滴眼液高剪切均质机厂家

科研实验室型高剪切乳化机，高校科研型高速分散乳化机，高校实验室高速乳化机，实验室高速均质乳化机，科研型高速乳化机 管线式高剪切乳化机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相（液体、固体、气体）进入到另一互不相溶的连续相（通常液体）的过程。而在通常情 况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，终得到稳定的高品质产品。 高剪切乳化机，主要应用于处理大量乳液和生成超细悬乳液。由于同时用三个工作头（转子和定子）进行处理，可获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒，因而生成的混合液的稳定性更好。分散头容易更换,适合于各种不同的应用。不同的机器都有相同的转速和剪切率，这样便于规模扩产。符合CIP和SIP的清洁标准,因此特别适合于食和药品生产。 ER2000系列管线式高剪切分散乳化机具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。 科研实验室型高剪切乳化机，高校科研型高速分散乳化机，高校实验室高速乳化机，实验室高速均质乳化机，科研型高速乳化机高剪切乳化机设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达电源选择： 380V/50HZ、440V/50HZ乳化机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti乳化机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍乳化机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器 高剪切乳化机主要应用域:奶油化妆品牙膏果汁洗涤剂浆糊纳米材料聚合物乳化液农药（除草剂 杀虫剂）疫苗脂肪乳药乳液药膏药物包衣血清抗生素乳化柴油乳化重油乳化硅油研磨白炭黑REACTOR标准流量输出转速标准线速度马达功率进出口尺寸高剪切乳化机型号l/hrpmm/skWER 2000/4300-1,0009,000232.2DN25 / DN15ER 2000/53,0006,000237.5DN40 / DN32ER 2000/108,0004,2002315DN50 /DN 50ER 2000/2020,0003,0002331DN80 /DN 65ER 2000/3040,0001,5002355DN150 /DN 125ER 2000/4070,0001,5002395DN150 / DN125ER 2000/50125,0001,10023160DN200 / DN150 科研实验室型高剪切乳化机，高校科研型高速分散乳化机，高校实验室高速乳化机，实验室高速均质乳化机，科研型高速乳化机

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

离轴抛物面镜TYDEX的核心技术优势： TYDEX 镜面的制造工艺和传统工艺是不同的，它致力于为航空/防卫应用提供大批量的更廉价的镜片。传统的OAPs制造工艺是通过挖切磨制， 即从大的轴对称抛物面 （母镜）进行挖切一部分下来进行抛光。显然，这种整体加工、分体割切成型的面镜磨制方案耗时长，低产量是加工成本昂贵，同时在焦距和离轴距离的组合选择上有很多制约。另一项传统的方法是抛光盘技术，主要缺点是材料局限性、表面平整度和加工精度受很大限制。我们的OAP 工艺 采用的是电脑控制的点位修正抛光工艺，结合了常用的抛光手段的优点（表面光滑而且可以使用普通玻璃）和大抛光盘技术的优点（无需对整个抛物母镜进行抛光），又称为主动抛光盘技术。这是一种根据需要将抛光盘面实时地主动变形成偏轴非球面来磨制大口径非球面度高精度天文镜面的磨制技术。非球面表面的曲率不 仅各点不一致,而且同一点的径向与切向曲率也不相同。 每个研磨周期后，我们都用大型干涉仪对整个OAP镜进行测量，然后把 相关的信息反馈到计算机中，将修正过的抛光参数输入抛光机的控制单元。我们称这个工艺为润饰工艺，俄罗斯的工厂专门划出了10,000平方英尺用于这个工 艺的制造，而且有一批非常耐心而有经验的工程师一次又一次的测量和重复许多个润饰周期，直到镜面趋于完美。精确的镜面、有竞争力的价格！ 应用：光收集，照明，成像，大直径天文镜面、巨型天文光学/红外望远镜的分块子镜、 Dall-Kirkham和望远镜设计主要参数：询价离轴镜需提供的参数：Focal Length焦距，必须提供；Final Diameter外径，请提供尺寸和公差，也可由厂家推荐； Clear Aperture有效口径，请提供 ； Off Axis Distance离轴距离，用户或者提供光轴到镜子边缘的距离，或者提供光轴到镜子中心的距离，请注明清楚。 Surface Accuracy通常为λ/10 P-V，可以高达 λ/45 P-V Wavelength of Test 633nm Scratch/Dig (maximum)通常优于60/40，要求20/10可以达到 Chamfer 0.050 " x 45 degrees倒角Material：材料 Zerodur Coating：镀膜 关于俄罗斯Tydex公司： Tydex公司位于俄罗斯圣彼得堡,是世界上Golay Cell的唯一的原产商。Tydex公司还生产离轴抛物面镜，大口径天文光学器件等产品。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

SSI TC-20 切管器SSI TC-20 型电动不锈钢切管器能够确保零死体积连接。管子被垂直摆动臂上的虎钳牢牢夹住，当摆动臂下压并与切割砂轮接触时，会对管产生一个成直角的切割，同时切割断面也会被打磨。无需润滑液和切割液。该设备有 CE 标志，可以切割色谱中用到的大部分常见管材。1/16 英寸，1/8 英寸和 1/4 英寸外径，内径可以小至 0.008 英寸的管，均可被平整地切割和打磨而不产生变形。还包含用于 1/16 英寸外径管的精确打磨抛光工具。该工具直接安装在摆动臂上：防止错误安装或遗失。而用于 1/8 英寸直径的抛光工具（去毛边工具-货号 58804）可以单独订购。订货信息：SSI TC-20 切管器描述货号包装SSI TC-20 Tubing Cutter, 110 V / 220 V,50-60 Hz (voltage selectable), CE compliant58539-U1 ea

产品特点：SSI TC-20 切管器SSI TC-20 型电动不锈钢切管器能够确保零死体积连接。管子被垂直摆动臂上的虎钳牢牢夹住，当摆动臂下压并与切割砂轮接触时，会对管产生一个成直角的切割，同时切割断面也会被打磨。无需润滑液和切割液。该设备有 CE 标志，可以切割色谱中用到的大部分常见管材。1/16 英寸，1/8 英寸和 1/4 英寸外径，内径可以小至 0.008 英寸的管，均可被平整地切割和打磨而不产生变形。还包含用于 1/16 英寸外径管的精确打磨抛光工具。该工具直接安装在摆动臂上：防止错误安装或遗失。而用于 1/8 英寸直径的抛光工具（去毛边工具-货号 58804）可以单独订购。订购信息： SSI TC-20 切管器描述货号包装SSI TC-20 Tubing Cutter, 110 V / 220 V,50-60 Hz (voltage selectable), CE compliant58539-U1 ea

离轴抛物面金属膜反射镜 采用铝膜基片反射镜 备有15° 、30° 、45° 、60° 或90° 的离轴可选 可选择铝膜和金膜 与标准抛物反射镜的不同之处在于，离轴抛物金属膜反射镜可在特定角度下直射并聚焦入射平行光，并且支持无限远焦点。这些反射镜普遍应用为Schlieren和MTF系统的平行光管，而镀金膜离轴抛物反射镜则用于FLIR测试系统。 注意：由于表面粗糙度为175Å ，因此这种反射镜不适用于需要低散射的可见光和紫外应用。 为方便安装，所有反射镜有3个6-32TPI螺孔（直径规格为25.4mm的为¾ "螺栓圈，直径规格为50.8mm的为1.25"的螺栓圈），而所有直径规格为76.2mm和101.6mm的反射镜则有3个8-32 TPI螺孔，螺栓圈为2.25"。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

GPC-100A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要适用于UNIPOL-1202、UNIPOL-1502研磨抛光机上，是工件进行磨抛时不可缺少的精密磨抛器具，尤其适用于晶圆样品、表面平行度和平面度要求高的大的圆片状样品的研磨。GPC-100A精确磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪进行连接，试样装卡方式为真空吸附，并配有数显厚度测量仪，可实时监测样品减少的厚度，承载样件直径不大于103mm、厚度不大于13mm且具有工艺重复性高的优点。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的晶圆样品研磨使用。产品名称GPC-100A精确磨抛控制仪产品型号GPC-100A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：真空泵（0— -0.1MPa）。5.外形尺寸：φ146mm*266mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 103mm2、载样盘轴向行程：12mm3、数显表精度：0.001mm4、载样盘可调加载压力：0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程：1g-5000g6、样品装卡方式：真空吸附7、承载样件尺寸：直径≤103mm、厚度≤12mm产品规格尺寸：外径146mm，高266mm标准配件1、真空泵2、过滤瓶3、底座4、玻璃片

GPC-80A精确磨抛控制仪简称磨抛控制仪，主要用来控制被研磨样品表面的平面度和平行度，使磨抛后的样品具有高的尺寸精度和质量优良的表面状态。磨抛控制仪采用质量优良的不锈钢材料制成，外形美观，制造工艺精湛，主要应用于UNIPOL-1202、和UNIPOL-802精密研磨抛光机上，是工件进行磨抛时不可缺少的精密器具，尤其适用于地质薄片样品的研磨与抛光。GPC-80A精确磨抛控制仪专用载样块用螺纹与控制仪相连接，样品采用粘附的形式装卡在载样块上，载样块承载样件直径不大于80mm、厚度不大于9mm且具有工艺重复性高的优点。可严格控制被磨样品表面的平行度和平面度，控制准确度高。研磨过程中可搭配数显测厚仪使用，随时观测样品磨削量，尤其适用于表面平行度和平面度及样品厚度要求高的地质薄片样品研磨使用。产品名称GPC-80A精确磨抛控制仪产品型号GPC-80A安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：无。4.气：无。5.外形尺寸：φ117mm*155mm6.通风装置：需要。主要参数1、载样盘直径：Ø 80mm2、载样盘轴向行程：9mm（分度螺母移动一格，载样盘轴向移动0.025mm）3、数显表精度：0.001mm4、载样盘部分空载压力：750g5、承载样件尺寸：直径≤80mm、厚度≤9mm产品规格尺寸：外径117mm，不带配重高155mm，带配重高204mm可选配件配重块（≥50g、≤200g）

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

用手动磨抛具将样品磨到需要的厚度或者达到抛光要求。磨具的步进间隔为0.025mm。样品在磨抛过程中不需要粘片，方便取放，研磨厚度达80&mu m一下，单面或双面均可进行磨抛作业。

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

影响医药微球均质乳化机的因素其实很简单，布洛芬缓释微球高剪切均质机，载药微球均相高剪切均质机，医药双入口高剪切均质机 微球（microsphere）是指药物分散或被吸附在高分子、聚合物基质中而形成的微粒分散体系。制备微球的载体材料很多,主要分为天然高分子微球(如淀粉微球，白蛋白微球，明胶微球，壳聚糖等)和合成聚合物微球(如聚乳酸微球)目药剂学上关于微球（microspheres）的定义是指药物溶解或分散于高分子材料中形成的微小球状实体，球形或类球形，一般制备成混悬剂供注射或口服用。微球粒径范围一般为1-500um，小的可以是几纳米，大的可达800um，其中粒径小于500nm的，通常又称为纳米球或纳米粒,属于胶体范畴。 简单介绍下O/W乳化法制备微球，大致过程：将药物溶于有机溶剂，制备成油相，将PVA等表面活性剂溶于水中制备成水相，然后将油相打入到水相中进行乳化（在均质、高速剪切或搅拌，超声、磁力搅拌等乳化），然后经过慢速搅拌（真空泵抽气，加压空气或氮气）等条件下，挥发有机溶剂固化微球，然后收集并洗涤微球，后冻干！涉及的参数有：PLGA分子量，PLGA浓度，水相PVA浓度，理论载药量（药物与PLGA比例），油相水相比例，均质或高速搅拌的速度，制备温度等....微球洗涤方法：过滤，离心.....冻干：真空干燥，冷冻干燥.... 传统的乳化设备是批次式均质机，油相和水相混合，再通过均质机进行搅拌乳化，这时微球已大量生成，再减小微球颗粒就比较困难。上海依肯研发的双入口高剪切均质机，油相或水相单独进料，并瞬间剪切乳化，使微球在生成的过程中颗粒就可以变小。 微球油水相乳化均质机，医药微球均质机，药物高分子微球均相均质机，高聚物多功能均质机，双入口高剪切均质机，油水相双入口乳化均质机是上海依肯应对两相不能直接接触的问题研发而成的高新产品，有些物料水相和油相不能直接接触，接触之后会立即生产新的物质，出现固化现象，再想细化物料的粒径就十分困难，然而有了双入口乳化机的存在，避免了这种现象的发生。 如需了解更多详情可咨询IKN 销售工程师 徐工 18201891183，公司实验室有样机可以免费为客户进行购买设备的实验验证。双入口均质机的工作原理： 双入口均质机就是将水相和油相同时分别进口不同的进料口，一同进入乳化机的工作腔体中，然后在水相和油相接触的同时，通过定转子的高速转动，得到瞬间的剪切力，来将物料颗粒瞬间细化，从而得到高品质的产品。德国双入口均质均质机的特点：①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。②该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。③双入口均质机由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。④双入口进口方式的设计，避免两种不能长期接触物料，可以得到瞬间的剪切。一、乳化机：采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的提下，可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行，并且普通乳化机不能承受高转速的运行。二、均质机：主要用于生物技术域的组织分散、医药域的样品准备、食品工业的酶处理,，食品中农药残留以及兽药残留检测以及在制药工业、化妆品工业、油漆工业和石油化工等方面。均质机采用不锈钢系统，可有效的分离护体样品表面和被包含在内的微生物均一样品，样品装在一次性无菌均质袋中，不与仪器接触，满足快速、结果准确、重复性好的要求。三、分散机：可以处理量大，运转更平稳，拆装更方便,适合工业化在线连续生产，粒径分布范围窄，分散效果佳，无死角，物料全部通过分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。 四、胶体磨：对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。五、乳化泵：属于捡起较小的在线式乳化机械，高流量，站姿圆周线速度约为10-20m/s，适用于无剪切，但依然可得到稳定的溶液。六、成套设备：指生产成品或半成品的工业联合装置。它可以是一个工段、一条生产线、一个车间或一个工厂。它可以是某一业的单项设备，也可以是数个业的综合设备。它综合了研磨机、分散机、均质机、乳化机、混合等优点。影响医药微球均质乳化机的因素其实很简单，布洛芬缓释微球高剪切均质机，载药微球均相高剪切均质机，医药双入口高剪切均质机如需了解更多详情可咨询IKN 销售工程师 徐工 18201891183，公司实验室有样机可以免费为客户进行购买设备的实验验证。

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。 产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

二甲硅油均质乳化机如何选型,转相法高剪切乳化机，上海徐工推荐医药西甲硅油乳化机，在线式工业化乳化机，14000转超高速乳化机，硅油乳化机设备上海生产厂家，油水均质乳化机价格...更多详情请咨询上海依肯 销售 徐工 1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3 甲基含氢硅油乳液与甲基羟基硅油乳液共用，能防水又可保持织物的透气性并能提高织物的撕裂强度、磨擦强度和防污性，改善织物的手感和缝合性能。另外，用作纸张的防粘隔离剂和交联剂。油相水相混合采用转相法还是连续法这是硅油乳化效果的决定因素：对于制备，牵涉到主要设备分散乳化机的转速问题，分散乳化机有两大作用，一是搅拌功能，二是高剪切功能。这就需要我们在工业生产中如何去实现他们的不同功能。而德国IKN工业设备在从实验室产品到工业设备就利用它du特的设计和计算线速度的方法，很好的解决了这一问题。同时还有初乳制备过程中的产生气泡问题，传热问题乳化不均，浮油问题等等。 我司工程师建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式分散机进行剪切分散处理,经过剪切分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。当对于某些物料经过20000转设备一遍高剪切乳化即可达到要求的，可采用连续式工艺方式。 连续式转相法高速乳化机,乳化转相法高速乳化机是高效、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量时，甚至纳米时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频管线式高剪切分散均质乳化机的循环往复，终得到稳定的高品质产品。 影响分散乳化结果的因素有以下几点：1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）2 乳化头的剪切速率 （越大，效果越好）3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）线速度的计算剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-转子 间距 (m)由上可知，剪切速率取决于以下因素：– 转子的线速率– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60 连续式转相法高速乳化机,乳化转相法高速乳化机的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的。根据一些行业特殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合门研制的电机可以使粒径范围小到纳米。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度高,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小. 标准流量（H2O）输出转速标准线速度马达功率进出口尺寸型号l/hrpmm/skWERX2000/430020000665.5DN25/DN15ERX2000/51,50015,7506615DN40 /DN 32ERX2000/105,00010,9506630DN50 / DN50ERX2000/2010,0007,3006655DN80 /DN 65ERX2000/3030,0004,0006690DN150 /DN 125ERX2000/5050,0003,00066160DN200 /DN 1501 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。4 本表的数据因技术改动，定制而不同，正确的参数以提供的实物为准

溶剂除泡器止回阀故障和泵气蚀，严重影响泵性能。除泡器可在流体进入泵之前将其中的泡沫除去。容器外壳底部特殊的几何形状使得泡沫被吸入而进入流体中，并聚集在容器里，通过装置的半透明挡板会发现气/液界面一目了然。松开密封盖即可释放被捕捉到的气体。除泡器还配备了一套支架和若干常用连接说明。适用于内径0.063", 0.085"和0.125"管线。名称 数量 货号 带支架的溶剂除泡器 单件 25014

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！