手持噪音计

产品应用：● H R - 6B 型适用于液体与液体的混合、乳化、均质；液体与固 体粉末的分散；组织细胞的捣碎、浆化，是专为实验室中微量 处理而设计的理想可靠产品。其可应用于制药、生化、食品、 纳米材料、涂料、黏合剂、日用化学品、印染、石化、造纸化 学、聚氨脂、无机盐、沥青、有机硅、农药、水处理、重油乳 化、柴油乳化、电子、电池等行业，也是工厂、科研机构、大 专院校、医学单位等进行科学研究、产品开发、品质控制和生 产过程中应用的理想产品。主要特征：● 单手掌握，人性化操作，精致的马达蕴含超强动力，实验效果更为理想。双重绝缘保护，给您安全保障。● 工作头接触物料部位全部采用优质不锈钢制作，耐腐蚀性好。● 工作头采用联轴器与驱动电机连接，拆装简便灵活。● 调速机座采用无极调速器，调速方便，运转稳定。产品参数：型号HR-6B转速范围1000-35000r/min处理量0.2-150ml (H2O)标准工作头10G处理粘度200CP功率120W转速控制可调6档速转速显示刻度外形尺寸185*55mm接触物料材质316L不锈钢进入物料部分轴套材质PTEE允许相对湿度80%工序类型微量分批处理重量0.6kg电源220V 50HZ包装铝合金手提箱 接触物料物质SS316L轴套材质PTFE标配工作头配置HR-10G选配工作头配置HR-10GST HR-8G HR-6G HR-6GST工序类型微量分批处理选配支架单立柱支架创新点：1)单手操作简单方便 2）进口电机。噪音低、效率高 3）工作头材质耐腐。 HR-6B手持匀浆机

piezobrush® PZ3高效便携式手持等离子体发生器piezobrush® PZ3 是一款小体积紧凑型手持等离子体发生器，适用于实验室开发以及小批量产品的研发和组装加工。piezobrush® PZ3的最大功耗为18瓦，凭借压电直接放电技术（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术® ）可以产生温度低于50摄氏度的冷活性等离子体。PZ3的核心部件是来自TDK电子集团的CeraPlas™ ，用来产生常压冷活性等离子体的高压放电组件。等离子体能高效加工活化材料表面，同时还可以杀菌消毒和祛除异味。 应用领域》 接合技术 》 生产流程的开发和优化 》 实验室的研发设备 》 微生物、微流体以及食品生产 》 医疗和牙科技术 》 原型和样品模型制造 》 小批量生产加工潜在用途》 各种基础材料表面的活化加工处理 》 提高材料表面润湿性 》 优化黏合、喷漆、印刷以及涂层处理工艺 》 塑料、玻璃、陶瓷、金属、半导体、天然纤维以及复合材料的表面加工处理 》 精细清洁 》 杀菌消毒和祛除异味piezobrush® PZ3的技术参数供电电源：AC110-240/50-60Hz最大功耗：18W重量：110g产品组成：手持式设备带电源线，集成风扇音量：45dB等离子体温度：不超过50℃加工处理速度：5cm2/s加工处理距离：2–10mm加工处理宽度：5–29mm可替换模块为了取得最好的加工处理效果，不同类型的材料表面需要使用相应的模块组件进行活化加工处理。我们目前为piezobrush® PZ3手持式等离子体发生器提供两种不同的可替换模块组件。piezobrush® PZ3所产生的冷活性等离子体是基于压电直接放电技术（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术® ）中的高强度电场放电形成的。因此，待处理材料表面的电导率是选择相应可替换模块组件的重要参考。标准模块近场模块标准模块是专门为非导电材料（例如塑料、陶瓷以及玻璃等）表面加工处理设计的。为了获得最好的加工处理效果，推荐的使用距离为1–5毫米。如果加工材料表面产生不受控制的偏移或者翻转，等离子体加工设备将自动切断电源并关闭。在这种情况下，材料表面将会部分导电，因此后续的加工处理请使用近场模块进行操作。近场模块用于处理（部分）导电材料例如金属、碳纤维强化聚合物、铅玻璃以及导电塑料等。如果是带有导电涂层的材料或是产品中带有导电组件的情况下，也建议使用近场模块以获得最佳的加工处理效果。只有当近场模块足够接近待处理的导电材料表面时（也可以穿透所覆盖的薄绝缘涂层），才会激发点燃等离子体。当距离在几毫米的范围内，近场模块和待处理材料表面之间可以看见紫光，表明加工处理正在进行。系统会自动识别当前所使用的模块类型，并相应地调整加工处理参数。液晶显示为了更好的控制等离子体的各种加工处理过程，piezobrush® PZ3配备了一块液晶显示屏用来显示和调用各种不同的功能：过程控制： 》 秒表：用来测量时间 》 定时器：具有自动结束功能的定时功能 》 节拍器：在设定的加工处理间隔以后，会给予声音反馈功耗设置：多级可调的等离子体功率piezobrush® PZ2和piezobrush® PZ3的对比piezobrush® PZ3被认为是piezobrush® PZ2的后继产品。下表简单介绍了两个产品各自的优点。piezobrush® PZ2带内置电源的手持式设备可更换的喷嘴无法进行过程控制 piezobrush® PZ3 带内置电源的手持式设备 可更换的压电模块 过程控制：秒表、定时器以及节拍器 110-240V/ 50-60Hz供电电源110-240V/ 50-60HzMax.30W功耗Max18W170g重量110g57dB噪音水平45 dB不超过50℃等离子体温度不超过50℃4cm2/s加工处理速度5cm2/s2–10mm使用距离2 – 10mm20mm最大使用宽度29mm标准、近场和混合喷嘴/模块标准、近场氩气、氦气和氮气工作气体/ 创新点：piezobrush® PZ3被认为是piezobrush® PZ2的后继产品。下表简单介绍了两个产品各自的优点。 piezobrush® PZ2带内置电源的手持式设备，可更换的喷嘴，无法进行过程控制 piezobrush® PZ3 带内置电源的手持式设备，可更换的压电模块，过程控制：秒表、定时器以及节拍器 relyon手持式等离子清洗机PZ3

p 　　2015年10月1日，布鲁克推出新的EOS 500手持 a href=" http://www.instrument.com.cn/zc/1730.html" target=" _self" title=" " style=" color: rgb(0, 112, 192) text-decoration: underline " span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 激光诱导击穿光谱仪 /strong /span /a span style=" color: rgb(0, 112, 192) " /span (HH-LIBS)。EOS 500是专为Li、Mg、Al 、Si轻元素合金的快速化学分析所设计。速度、精度和重复性等方面，EOS 500有着自己的优势。与手持式X射线光谱仪相比，EOS 500的分析速度大约快10倍。 /p p style=" text-align: center " img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201510/insimg/d30c391e-4b3b-4f1b-b972-bbad59b64530.jpg" title=" EOS_500.jpg" / /p p 　　EOS 500适合于质量控制(QA)、金属加工和材料可靠性鉴定(PMI)，是废品回收相关行业对耐久性的要求。坚固的设计确保了EOS 500能够承受在几乎所有的环境下进行现场操作，包括潮湿和灰尘的条件。此外，EOS 500有一个独特的气体光学护罩，在光学系统的前面创建了一个连续的气体保护罩，防止灰尘积聚并允许EOS 500在最严苛的环境中运作。 /p p 　　EOS 500使用专有的低背景激光消融原子发射光谱1064纳米波长激光。传统LIBS系统一般利用高能、低频激光等离子体发生器，导致高背景噪音、尤其是在频谱的低端。布鲁克专有的1064纳米激光能够产生强烈的原子发射信号，同时不会产生高背景噪音，因此不再需要复杂的浇注系统。利用这种独特的设计，布鲁克的 EOS 500可以很容易地在几秒钟内、分析& lt 0.1%浓度水平、具有挑战性的元素，如Si、Mg。 /p p 　　多探头的设计允许EOS 500覆盖从170纳米到720纳米的较长波长范围，同时在复杂的金属钛基体下，保持杰出的分辨率。这种较长的波长范围允许检测元素，如Li、Be、Cs等。此外，广泛的波长范围还允许EOS 500选择更加合适的波长从而获得更好的准确性。 /p p 　　“激光技术的进步使LIBS的小型化和便携性成为可能，如今我们已经成功的在EOS 500上完成了商业化，”布鲁克纳米分析集团HMP业务部门总经理John Landefeld评论。“布鲁克迅速提供这个新的手持系统给我们的客户，使他们能够更快、更有经济效益的工作。在金属行业中，作为手持式X射线光谱仪互补技术的LIBS分析占有重要的位置。” /p p 　　在测量某些元素和某些类型的合金时，每种技术都有各自的优势。HH-LIBS适合快速测量低原子序数的元素如碱性(Li、Na等)和碱土金属(Be、Mg、Si等) 但是并不适合测量高原子序数的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方面，HH-XRF适合于测量高原子序数的元素，但不适合测量低原子序数的元素如Mg、Al、Si 这使得HH-LIBS成为Mg、Al、Ti 合金等轻合金检测的更可取技术，而HH-XRF是测量不锈钢和高温合金等的更优技术。金属行业的客户现在可以根据具体有应用选择最佳的手持测量工具。 /p p br/ /p