高精度轮廓仪

公司与上海理工大学分析实验室最近联合开发出在国内同行业中具有领先水平的白光轮廓仪。该轮廓仪属高精度产品，能对各种金属或非金属等物质（物体）的表面进行精确的轮廓测量，尤其可对集成电路及硅片进行精确测量，其分辨率可以达到纳米级程度。 白光轮廓仪的开发成功，对金属加工及开发金属新材料，以及对检测集成电路和硅片的质量等，均具有重要的意义。精科公司在与上海理工大学共同开发的同时，还自主创新开发出白光轮廓仪配套专用软件，更好地保护了企业的自主知识产权。 白光轮廓仪可广泛应用于工业、高等院校、科研等领域。

近期，深圳市中图仪器股份有限公司（以下简称“中图仪器”）在尺寸精密测量领域再次展现其创新实力，连续发布了一系列新产品，包括Nano Step系列台阶仪、VT-X100共聚焦测量头、SuperView WT3000复合型光学3D表面轮廓仪以及CEM3000系列台式扫描电镜。这一系列新品的推出，不仅丰富了中图仪器的产品线，更为广大用户提供了更加精准、高效的测量解决方案。台阶仪Nano Step系列台阶仪 是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。该新品采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率；同时，集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。Nano Step系列台阶仪具备极强的应用场景适应性，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。共聚焦测量头VT-X100共聚焦测量头是一款非接触式精密光学测头，基于光学共轭共焦和精密扫描研制而成，主要由光学共聚焦系统和Z向扫描系统组成，具有体积小、重量轻的特点，能够方便地搭载在各种具备XY水平位移架构的平台上，在产线上对器件表面进行测量，直接获取与表面质量相关的粗糙度、轮廓尺寸等2D/3D参数。复合型光学3D表面轮廓仪SuperView WT3000复合型光学3D表面轮廓仪是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器。它集成了白光干涉仪和共聚焦显微镜两种高精度3D测量仪器的性能特点于一身，能够对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像。当测量超光滑和透明的表面形貌时，可使用白光干涉模式获得高精度无失真的图像并进行粗糙度等参数的分析；当测量有尖锐角度的粗糙表面特征时，可使用共聚焦显微镜模式实现大角度的3D形貌图像重构，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测。该新品可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、国防军工、科研院所等领域中。无论是超光滑还是粗糙、低反射率还是高反射率的物体表面，该新品都能轻松应对，能够精确测量从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等关键参数，提供依据ISO/ASME/EUR/GBT四大国内外标准共计300余种2D、3D参数作为评价标准。台式扫描电镜 CEM3000系列台式扫描电镜是一款用于对样品进行微观尺度形貌观测和分析的紧凑型设备，可以进入手套箱、车厢还是潜水器等狭小空间内大显身手。该系列电镜搭载卓越的电子光学系统，拥有优于4nm的空间分辨率，保证了高放大倍数下的清晰成像，能够满足纳米尺度的形貌观测需求。其用户友好性同样出色，无论是通过直观的操作界面还是智能化的自动程序，都能让用户轻松上手，一键获取理想图像，极大简化了操作流程。CEM3000系列涵盖CEM3000A（大样品仓型）和CEM3000B（抗振型）两款强化机型。CEM3000A在不牺牲整机外观尺寸的情况下，极大拓展了样品仓尺寸，支持大尺寸样品或多个常规尺寸样品进行分析。CEM3000B则配备有高性能复合减振系统，不仅显著缩短了抽放气时间，还有效隔离了外界振动干扰，保证了高倍数成像时的图像质量。此外，该系列电镜允许用户根据需求加装各类探头和附件，极大地扩展了其应用领域，使其在材料科学、生命科学、纳米技术、能源等多个领域具备广泛应用潜力。2024年以来，中图仪器在几何量精密测量领域取得了显著进展，先后发布了多款新品，其中包括WD4000系列无图晶圆几何量测系统、Mizar Silver三坐标测量机，致力于为高端制造业提供全尺寸链精密测量仪器及设备。

KLA探针式轮廓仪的过去，现在，与未来。KLA Instruments&trade 探针式轮廓仪（也称台阶仪）提供高精度2D和3D表面量测，测量台阶高度、表面粗糙度、翘曲度和应力以及优秀的稳定性和可靠性，满足客户的研发和生产要求。目前，KLA Instruments&trade 台阶仪包括专为研发助力的Alpha-Step系列D-500/D600桌面式台阶仪，工厂生产用Tencor P-系列P-7，P-17，P-17 OF量产型台阶仪，还有自动化产线上的 HRP系列P-170和HRP-260全自动台阶仪。自1977年KLA首款商用探针式轮廓仪问世，经过四十多年的不断探索和技术创新，KLA取得了一个又一个突破，不断稳固自身在行业中的领导地位。1977Alpha-Step100 是Tencor 推出的首款台阶仪产品。其在台阶高度测量的准确性和重复性方面表现优异。凭借价格实惠、外形小巧和功能强大，很快就成为大多数半导体制造厂或晶圆厂重要的工具。1983Alpha-Step 200 发布，扫描速度比竞品快 2 倍，配备 CRT 显示器，能够自动测量、调平和计算。1987Alpha-Step 250 问世，灵敏度增强至 1 &angst ，增加了隔声外壳。1988Tencor P系列的P-1探针式轮廓仪实现了单次长度 200mm 扫描，且无需任何拼接。P-1 轮廓仪采用革 命性的全新设计，在扫描平台、光学和传感器技术方面进行了行业创新，提供无可匹敌的稳定性、灵敏度和重复性。该系统具有超平面扫描平台，能够单次扫描实现高达 200mm 的高分辨率，确定表面粗糙度、波纹度和薄膜应力特征。新平台也是 3D 扫描平台，增加了第三维度来表现表面形貌。该系统的特色是采用顶视光学系统来提供清晰的样品视图，不受传统倾斜侧视的扭曲影响。此外，该系统的传感器技术采用业界先进的线性可变差分电容器 (LVDC)，从而使电子分辨率达到亚埃级，并且转动惯量小，可实现低作用力控制并降低对噪声的敏感性。1991Tencor P2H 支持自动晶圆和磁盘机械手臂， 减少接触样品带来的污染。同年的Tencor P2 采用开放式框架，支持尺寸达 430mm x 430mm 的样品，同时Tencor FP2可扫描尺寸达 630mm x 630mm 的样品，用于平板行业。1994Tencor P-20 全自动探针式轮廓仪发布，增加了图案识别和 SECS/GEM，并且与现有的机械手臂相结合，实现了全自动化。Alpha-Step 500增加垂直量程至 1mm，并配备了全新高倍率光学器件和彩色摄像头。1996Tencor P-10、 P-11、 P-12 和 P-22 相继发布，产品采用最新的低作用力控制技术，延长垂直量程至1000µ m并增强环境隔离功能。Microhead II 增强线性可变差分电容器 (LVDC)，并增加低至 0.05mg的程式控制低作用力。它增加了通过动态调整枢轴上的作用力，确保在任何台阶高度下，样品表面都能够施加相同的力。此外，新传感器可支持高达 1000µ m 台阶高度。P-12 新增隔声罩和主动隔离台，不仅增强对环境噪声的隔离，还能够测量超光滑硬盘的粗糙度。P-22 在现有 P-20 机械手臂的基础上新增一个隔离台，实现自动晶圆传送、图案识别和 SECS/GEM 等全自动测量，从而为半导体行业提供整体解决方案， 提高其生产效率。1997Tencor P-30 将开放式晶圆盒机械臂替换为 SMIF 机械臂和系统的内置微环境， 以支持半导体行业新的洁净度要求。HRP-220 是在线表面量测的一大突破，配备了 P-22 的长扫描平台以及高分辨率压电平台，DuraSharp 探针可实现精细的特征测量和分析。同年，Tencor Instruments 和 KLA Instruments 两家公司合并成立了 KLA-Tencor, Inc.，成为世界领先的半导体制造和相关行业的良率管理及工艺控制解决方案供应商之一。1998HRP-320 在HRP-220 的测量能力基础上扩展到 300mm 晶圆，是能够单次扫描测量 300mm 晶圆全直径的系统。1999HRP-240 和 HRP-340 在使用的便利性、产出和精度上有了重大改进。新增压电挠性平台设计，以尽量减少平面外的运动，扫描平面度 2x 在保持 90µ m x 90µ m 扫描区域和 1nm 分辨率的同时，比以前的设计有了很大的进步。该系统增加在线高倍和低倍光学器件，并利用距离传感器实现无接触自动聚焦，从而可允许快速、精确对焦，并通过减少探针的表面接触次数来延长其使用寿命。长扫描平台通过增加线性编码器来提高样品定位的准确性，而更细螺距的丝杠可实现更高的分辨率。通过增加数字信号处理器来管理所有平台控制，将计算机处理能力留给用户接口，从而改善系统的整体性能。新增浸渍模式（Dipping Mode&trade ）能够测量高深宽比的蚀刻深度特征。2001Tencor P-15 结合了 P-10 和 P-11 系统的功能，技术更加成熟，为单一平台上的研发和生产提供支持。2003Alpha-Step IQ 在 Alpha-Step 500 基础上新增 USB 电子器件和全新设计的软件，可以显著提供增强的扫描排序和数据分析能力。2007Tencor P-16+ 在-15 的基础上进行了改进：新的 USB 电子器件、更强大的软件以及 Apex 高级数据分析和报告撰写软件功能。2008Tencor P-6 是一台高性能探针式轮廓仪，在较小的平台上沿用了 P-16+ LVDC 传感器技术和扫描平台技术。HRP-250 和 HRP-350 仪器采用噪音更低的 LVDC 传感器技术、新的隔离系统（仅 HRP-350）和第二代 DuraSharp II 探针。可实现更小特征的测量和接近 2 倍的吞吐量。2009Ambios Technology 加入KLA-Tencor并发布 XP100 和 XP200，采用光学杠杆传感器技术，垂直量程1200µ m 并支持200mm晶圆样品。2010KLA-Tencor 发布了基于 Ambios Technology 平台的 Alpha-Step D-100 和 D-120，采用增强光学杠杆传感器技术， 显著改善了测量的稳定性。2013Tencor P-7 和 P-17 配备了新高分辨率彩色相机，并增强了对翘曲度和应力的测量。2014Alpha-Step D-500 和 D-600 仪器采用了与 P系列相同的高分辨率相机。增加了侧视图的梯形校正功能，并且进一步改善了测量的重复性。2016Tencor P-170结合了 P-17 与 HRP 机械手臂，是一款新的全自动探针式轮廓仪。同年，HRP系列的新机型HRP-260 也随后发布。新仪器在自动化晶圆处理方面有了重大的改进。增加了几何图案识别，提高了倾斜校正算法的准确性，并采用新方法进行自动灯光控制。机械手臂包含新电子器件，可支持碳化硅 (SiC) 和蓝宝石等透明样品以及硅、砷化镓 (GaAs) 和 AlTiC 等不透明样品的预对准。也支持卡盒内wafer探测和读取wafer ID.2019KLA Instruments&trade 全系列探针式轮廓仪Alpha-Step、Tencor P- 和 HRP，移植软件平台至最新的Windows 10 OS。同时，新的测量和数据分析功能发布在新的软件平台中。2023KLA将继续探索的脚步，而探针式轮廓仪全线产品也将持续发展，为满足客户的需求不断努力创新。Keep Looking Ahead！