薄膜发射量仪

耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的微米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Nano TR遵循国际校准标准 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Nano TR温度范围RT，RT … 300°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度30nm … 20μm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns光束直径 100μm激光功率 100mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Pico TR温度范围RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

20240701 RLK650 pro便携式红外发射率测量仪规格书一份V1.0-立鼎光电.pdfRLK650 pro 是便携式红外发射率测量仪 RLK650 的升级产品，采 用先进的光电检测技术、数字信号处理技术、嵌入式软件技术， 以及人体工程学技术新型的光电检测仪器。其基于定向半球反 射比（DHR）测量原理，完成双波段（3-5um 和 8-14um）发射 率的贴近测量，产品针对野外、移动试验条件设计，集公司多 项技术积累，吸收国际先进产品技术与特点，具有携带方便、 操作简单等优点，测量结果保存在 SD 卡中。可广泛应用于飞机、 舰船、车辆的红外隐身性能现场评估，红外隐身涂覆材料的研 究等，是现代科研与军事研究不可或缺的光电检测仪器。详见附件。

ET100 发射率测量仪采用积分球反射方法设计，内置积分球、红外光源、微型控制处理器等，采用电池供电、触摸屏显示，具有使用方便、准确性高等优点。进行测量时，只需将仪器对准物体表面，扣动扳机后，自动进行反射率测量，测量完成后，会在显示屏上显示测量结果，同时将测量的反射率数据自动存储在SD卡内，可供用户后续处理和分析数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。ET 100发射率测量仪可以测量20度和60度2个入射角，6个光谱波段的反射率和波段总发射率。ET 100发射率测量仪可以实现在实验室以及野外现场精确地测量和研究材料表面的光学特征——反射率、发射率等参数。应用领域 航空工业 涂层领域 太阳能领域优化太阳能利用性能 节能建筑 光学材料质量控制主要特点 测量2个入射角、1.5~21μm之间6个非连续波段的反射系数 NIST标准 快速、便携 电池操作非常方便 测量标准和60°入射角的定向热发射比 计算半球热发射比技术参数 ET100 便携式红外发射率测量仪 符合标准 ASTM E408 测量参数 定向半球反射比(DHR) 测量方法 波段范围内积分总反射比 输出参数 总发射比 波段 6个波段：1.5~2、2~3.5、3~4、4~5、5~10.5、10.5~21μm 入射角 20°&60°法线入射 样品表面 任何表面，6”半径凸面，12”半径凹面 测量时间 10秒/次；90秒预热 IR源 铬铝钴合金 测量探头 模块化设计，测量头可更换 操作界面 触摸式液晶屏软件界面 工作环境 储存环境：-25~70℃；操作环境：0~40℃，非冷凝 供电 两块可充电镍氢电池 重量 2.1Kg，含电池

1. 测量原理：定向半球反射（DHR） , 20°±1°入射2. 测量波段:双波段，3-5卩m & 8-12pm3. 重复性：＜ 0.014. 便携式设计：良好的人体工程学外形设计，操作手感好5.彩色触摸屏：汉字界面、触摸操作、一目了然，一键测量，操作简便6.数据存储：Micro SD卡，最大2048条记录，分8组，TXT文件格式，方便在PC机上后续数据分析国内商用化产品产品经过工程化考验隐身涂覆材料红外特性硏究飞机、舰船、车辆红外隐身性能现场评估RLK650便携式红外发射率测量仪，是采用先进的光电检测技 术、数字信号处理技术、嵌入式软件技术，以及人体工程学设计技术，新型 的光电检测仪器。其基于定向半球反射比（DHR）测量原理，完成双波段 （3-5um和8-12um）发射率的贴近测量。产品针对野外、移动试验条件设 计，集公司多项技术积累，吸收国际先进产品的技术与特点，具有携带方便、 操作简单、等优点，测量结果保存在SD卡中。可广泛应用于飞机、舰船、车辆的红外隐身性能现场评估、红外隐身涂 覆材料的研究等，是现代科研与军事研究不可或缺的光电检测仪器。销售商：西安立鼎光电科技有限公司 生产商：西安中川光电科技有限公司联系方式：029-81870090型号ModelRLK650原理 Principle定向半球反射（DHR）, 20° ±1°入射测量波段 Spectral Response双波段3-5pm & 8-12pm工作模式Work Mode发射率/反射率重复性 repeatabilityW 0.01显示分辨率 Display Resolution0.001显示屏 Screen Type3.5” TFT LCD 触摸屏测量时间Measurement Time1。秒（每次测量进行2次数据采集）预热时间Stanby Time 90秒数据存储Data StoreMicro SD卡（8Gbyte）,最大2048条记录，分8组数据下载Data Download下载操作后，2048条记录，分8个TXT文件格式，保存在MicroSD卡中供电方式Power SupplyLi电池，18V3AH,持续工作时间＞3小时，可更换工作温度Working Temperature0P~+45P,非冷凝储存温度 Store Temperature-30P~+65P,非冷凝外形尺寸Dimension246mm * 290mm * 108mm（测量头）重量Weight2.3Kg（测量头）整体外形尺寸 Total Dimension480mm *410mm* 200mm（包装箱含电池、充电器、标准片等）整体重量Total Weight6.4Kg（包装箱含电池、充电器、标准片等）销售商：西安立鼎光电科技有限公司 生产商：西安中川光电科技有限公司 联系方式：029-818700902\

ET10 高精度便携式发射率测量仪，可测量任何不透明材料的发射率；获得测量红外测温成像技术的重要参数—--红外发射率。当物体的物理化学性质没有发生变化时，不同温度下的反射率与波长是不变的，所以物质在500 °K高温下的发射率数据可以由室温下测得的反射率数据计算出来，ET10主要用于测量不透明样品的发射率。进行测量时，将仪器对准测量样品表面，按下扳机即可记录数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。ET10主要特点 利用两个探测器同时测量3~5、8~12 微米2个波段的发射系数 对于不透明物体：Emissivity = 1- reflectance 软件简单易用，具有强大的测量和数据处理功能 液晶触摸屏PDA图文操作界面 可同时提供十种设备运行信息 NIST标准 快速、便携 电池操作非常方便应 用 为红外相机提供发射率参数 提高温度测量精度技术参数ET10 便携式红外发射率测量仪 测量参数 定向半球反射比 (DHR) 测量方法 波段范围内积分总反射比 输出参数 发射率 波段 2个波段：3~5、8~12μm 入射角 20°法线入射 样品表面： 任何表面，6” 半径凸面，12” 半径凹面 测量时间 10秒/次；90秒预热 IR 源 铬铝钴合金 测量探头 模块化设计，测量头可更换 操作界面 触摸式液晶屏软件界面 工作环境 储存环境： -25~70℃； 操作环境：0~40℃，非冷凝 供电 两块可充电镍氢电池 重量 2.1Kg，含电池

RLK651手持式红外发射率测量仪Portable Infrared Emissionratio MeterRLK651手持式红外发射率测量仪，采用先进的光电检测技术、数字信号处理技术、嵌入式软件技术，以及人体工程学设计技术，实现对材料红外波段（2-22um）发射率的贴近测量。产品针对工业现场使用条件设计，具有携带方便、操作简单等优点。RLK651手持式红外发射率测量仪，可广泛应用于各种工业材料发射率的测量，是材料红外特性研究的良好选择等。产品特点&bull 测量原理：定向半球反射（DHR），20°±1°入射；&bull 测量波段：2-22um；&bull 重复性：±0.02；&bull 便携式设计：良好的人体工程学外形设计，操作手感好；&bull OELD单色屏：一目了然，一键测量，操作简便；&bull 数据记录：最近32条测量记录，方便进行测量对比。 技术指标型号 RLK651测量波段2-22um工作界面预热/测量/校准显示分辨率±0.001测量精度±0.02显示屏2.42”，OLED点阵屏，单色测量时间 10秒(每次测量进行2次数据采集)预热时间90秒数据存储32条记录，EEPROM存储，关机保存供电方式 220VAC-12V@3A 电源适配器工作温度-10℃ ~ +45℃，非冷凝储存温度-30℃ ~ +65℃，非冷凝外形尺寸Φ94mm * 160mm(L) * 200mm(H)重量1.0Kg整体外形尺寸378mm * 360mm * 160mm（包装箱含电源适配器，标定片等）整体重量 2.5Kg产品外形 注：技术指标作产品介绍使用，仅供参考，以产品随机说明书为准，如有变更，恕不另行通知。

半球发射率测量仪AE1/RD1产品介绍： 半球发射率测量仪AE1/RD1用于测量发射率的专用仪器。低温加热被测样品，仪器通过探测器接受样品材料表面辐射出来的红外能量后换算出发射率，根据设定的标准体发射率准参数，计算并读出被测样品发射率。符合《ASTM C1371》、《JG_T 235-2014 建筑反射隔热涂料》、《GBT 25261-2010 建筑用反射隔热涂料》等国家标准，是建筑涂料行业，新能源材料研究，航空航天材料研发检测的必须品。发射率通过两个步骤获取：（1）把辐射计放在高发射率标准体上，设定 RD1 来表示发射率； （2）把辐射计放在待测样品上并直接读出 RD1 上的发射率。 产品特点：重复性高，重复精度达到±0.01发射单位；易于操作：仪器的检测器部分已电加热，因此不必额外加热样品，也无需温度测量。根据高发射率标准体提前设定发射率标准参数，测量仪仅对辐射热传输响应并输出电压，和发射率成线性关系，通过可调旋钮设定发射率读数与标准体的发射率一致，通过校准后，当测量被测样品时，检测仪便可直接读出发射率。快速测量：在大约30分钟的初始预热器。期后，可以每隔半分钟读取一次发射率读数，使得测量结果变得实时可观。高性价比：该仪器简便小巧，性价比高，比同期其他方法的测量设备成本更低，维护更简单。 技术参数：读数 器: D&S 微型数字伏特计，型号RD1。输 出: 材料温度为25℃时，2.4 毫伏通常对应材料发射率为0.9线 性: 检测器输出和发射率成线性关系，精度为±0.01发射单位。测量时间： 10s加热装置：加热被测样品，使其在与标准体温度相同的情况下被测量样品温度：最大130华氏度，约为55℃漂移：输出可能会随着环境而变化，但是在短时间测量内可以忽略不计。标准体：提供两个高发射率标准体和两个地发射率标准体，其中一套标准可用来测量时使用，另一套标准体备用并作为参比。电源：100-240V/50-60Hz，12V直流输出测量波长：3——30μm测量范围：0——1测量精度：±0.01被测样品尺寸：Min Φ5.7cm (可选配Φ2.54cm样品探测器)测量温度：10℃——55℃ 外形尺寸：探测头Φ57X107mm，测量台 H46mm×宽105mm×D152mm标准配置：AE1探测头，高发射率标定块和低发射率标定块各2个，发射率测量仪，电源线，CD教学视频、校准证书、操作手册、手提箱。 选配：AE-AD3测量模块 : 测量直径Min 2.54cmAE-ADP: 测量适配器，可测量小至Φ3.8cm的扁平材料以及低导热、大曲率圆柱表面或者粗糙结构表面的样品材料。 订货指南： AE1/RD1 辐射率仪套装: 包括 AE1 辐射率仪，RD1 微型数字伏特计，2 个高发射率标准体，2 个低发射率标准体，黑体 槽，100/240V 通用电源，便携箱 AE1/RD1-12V 辐射率仪套装: 包括 AE1 辐射率仪，RD1 微型数字伏特计，2 个高发射率标准体，2 个低发射率标准体，黑 体槽，可连续使用 12 小时的 12V 电池和充电器，100/240V 通用电源，便携箱 可选项: RD1-10X – 10 倍增益选项，RD1 发射率精确到 0.001 Model AE-AD1 - 测量直径小于 3.8cm（1.5 inch）的平滑样品 Model AE-AD3 - 测量直径小于 2.54cm（0.75 inch 测量区域）的平滑样品 AE-ADP –测量适配器，端口内直径为 1 3/8 inch，用来测量较小尺寸、低导热性、大曲率(2 inches)圆柱表面或者粗糙结 构表面的样品材料

ET10 高精度便携式发射率测量仪，可测量任何不透明材料的发射率；获得测量红外测温成像技术的重要参数—--红外发射率。当物体的物理化学性质没有发生变化时，不同温度下的反射率与波长是不变的，所以物质在500 °K高温下的发射率数据可以由室温下测得的反射率数据计算出来，ET10主要用于测量不透明样品的发射率。进行测量时，将仪器对准测量样品表面，按下扳机即可记录数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。

ET100 发射率测量仪采用积分球反射方法设计，内置积分球、红外光源、微型控制处理器等，采用电池供电、触摸屏显示，具有使用方便、准确性高等优点。进行测量时，只需将仪器对准物体表面，扣动扳机后，自动进行反射率测量，测量完成后，会在显示屏上显示测量结果，同时将测量的反射率数据自动存储在SD卡内，可供用户后续处理和分析数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。 ET 100发射率测量仪可以测量20度和60度2个入射角，6个光谱波段的反射率和波段总发射率。ET 100发射率测量仪可以实现在实验室以及野外现场精确地测量和研究材料表面的光学特征——反射率、发射率等参数。应用领域n 航空工业n 涂层领域n 太阳能领域优化太阳能利用性能n 节能建筑n 光学材料质量控制主要特点n 测量2个入射角、1.5~21μm之间6个非连续波段的反射系数n NIST标准 n 快速、便携n 电池操作非常方便n 测量标准和60°入射角的定向热发射比n 计算半球热发射比技术参数ET100 便携式红外发射率测量仪符合标准ASTM E408测量参数定向半球反射比(DHR)测量方法波段范围内积分总反射比 输出参数总发射比波段6个波段：1.5~2、2~3.5、3~4、4~5、5~10.5、10.5~21μm入射角20°&60°法线入射 样品表面任何表面，6”半径凸面，12”半径凹面测量时间10秒/次；90秒预热IR源铬铝钴合金测量探头模块化设计，测量头可更换操作界面触摸式液晶屏软件界面工作环境储存环境：-25~70℃；操作环境：0~40℃，非冷凝供电两块可充电镍氢电池重量2.1Kg，含电池产地：美国

总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司，已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司，拥有60多名员工，他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献，我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴，我 们诚挚期待您的加入。薄膜测量仪器反射膜厚仪RM 1000和RM 2000扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量，光学布局的高光导允许对n和kffl 行重复测量，对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量. 紫外-近红外光谱葩围 RM 1000 430 nm-930 nm RM 2000 200 nm - 930 nm 高分辨率自动扫描 反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。综合薄膜测量软件FTPadv Expert宽光谱范围和高光谱精度 SENresearch4.0光谱椭偏仪覆盖宽的光谱范围，从190 nm（深紫外）到3500 nm（近红外）。 傅立叶红外光谱仪FTIR提供了高光谱分辨率用以分析厚度高达200|jm的厚膜。 没有光学器件运动（步进扫描分析器原理） 为了获得测量结果,在数据采集过程中没有光学器件运动。步进扫描分析器（SSA）原理是SENrsearch4.0光谱椭偏仪的一个独特特性。 双补偿器2C全穆勒矩阵测量 通过创新的双补偿器2C设计扩展了步进扫描分析器SSAJ京理，允许测量全穆勒矩阵。该设计是可现场升 级和实 现成本效益的附件。 SpectraRay/4综合椭偏仪软件 SpectraRay/4是用于先进材料分析的全功能软件包,SpectraRay/4包括用于与引导图形用户界面进 行研究的交互 模式和用于常规应用的配方模式.激光椭偏仪SE400adv亚埃精度稳定的氣氤激光器保证了 0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。 扩展激光欄偏仪的极限 性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折 射率、消光系数和膜厚. 高速测量 我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检 测，或者做样品均匀性的自动扫描。综合薄膜测量软件FTPadvExp测量n, k,和膜厚 该软件包是为R（入）和T（入）测量的高级分析而设计的。 查层膜分析 可以测量单个薄膜和层畳膜的每一层的薄膜厚度和折射率. 大量色散模型 集成的色散模型用于描述所有常用材料的光学特性。利用快速拟合算法，通过改变模型参数 将计算得到的光谱调整到实测光谱。

ET10 高精度便携式发射率测量仪，可测量任何不透明材料的发射率；获得测量红外测温成像技术的重要参数—--红外发射率。当物体的物理化学性质没有发生变化时，不同温度下的反射率与波长是不变的，所以物质在500-°K高温下的发射率数据可以由室温下测得的反射率数据计算出来，ET10主要用于测量不透明样品的发射率。进行测量时，将仪器对准测量样品表面，按下扳机即可记录数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。ET10主要特点 n 利用两个探测器同时测量3~5、8~12 微米2个波段的发射系数n 对于不透明物体：Emissivity = 1- reflectancen 软件简单易用，具有强大的测量和数据处理功能n 液晶触摸屏PDA图文操作界面n 可同时提供十种设备运行信息n NIST标准 n 快速、便携n 电池操作非常方便应 用n 为红外相机提供发射率参数 n 提高温度测量精度技术参数ET10 便携式红外发射率测量仪测量参数 定向半球反射比 (DHR)测量方法波段范围内积分总反射比输出参数发射率波段2个波段：3~5、8~12μm入射角20°法线入射样品表面：任何表面，6” 半径凸面，12” 半径凹面测量时间10秒/次；90秒预热IR 源铬铝钴合金测量探头模块化设计，测量头可更换操作界面触摸式液晶屏软件界面工作环境储存环境： -25~70℃；操作环境：0~40℃，非冷凝供电两块可充电镍氢电池重量2.1Kg，含电池产地：美国

产品详情 Optosol Absorber Control K1 太阳能平板集热器膜层吸收与发射率快速测量仪一、测量原理说明Alphameter 吸收 测量了相当精确的太阳能吸收的测试结果。Alphameter是基于一个具有光谱性窄带光源的积分球。这些参考标准或样本进行测量 是在一个球面上孔的位置。对面是两个平行样品检测器。当其中一个光源照亮球体， 探测器测量样本光的反射。从这个反射信号，检测反射或吸收率值。为了获得必要的光谱信息，4 个发光二极管，蓝色，绿色，红色和红外波长照亮球体。 反射发光二极管信号使用硅探测器测量。钨卤素超亮电灯结合一个最大灵敏度在1.3μm 的过滤锗探测器使用。 5个不同的光源，alphameter是一种非常稳定但分辨率底的光谱仪类型。它非常适合测 出缓坡谱线，比如典型的太阳能选择性吸收层谱线。Emissiometer K1 发射 emissiometer包括一个积分球，作为热源的发热条和 敏感度在波长范围8μm到14μm的 探测器。从发热条发射出来的辐射是单一分布的积分球，作为一个散辐射源。探测器安 装在一个度角为10°的样品表面。辐射是样本反射测量。2个样本被测信号进行测量校准 在已知的发射率值波长范围内：：一个如玻璃的高发射率样本与一个低发射率样本或接 近样品的发射率进行测量。此仪器为目前全球具有权威测量仪

FT-100 薄膜厚度测量仪薄膜厚度测量范围 （Thickness Range）: 1 nm - 1.8 mm波长范围 （Wavelength Range）: 200 nm - 1700 nm精度 （Precision）: 0.01 nm or 0.01%稳定性 (Stability): 0.02 nm or 0.03%光斑大小 （Spot Size）: Depends on objective (4 um to 200 um. 2mm） 功能： 测量薄膜厚度、光学常数，反射率和透过率单层膜或多层膜叠加层； 适用于几乎所有透明，半透明，低吸收系数的薄膜测量，包括液态膜或空气层。测试条件： 平面或曲面可配XY平台实现全样品膜厚 mapping 可集成于以上测试平台 （ 三维轮廓仪，微纳米压痕/划痕仪，摩擦磨损仪等）

产品详情美国 D&S 发射率测量仪 AE1/RD1• 精确• 易操作• 快速测量• 价格实惠 美国D&S公司生产的AE1/RD1辐射率仪是专门针对测量物体的辐射率设计的，具有如下优点： 重复性: ± 0.01 操作简单: 探测器采用电加热设计，无须加热样品，也不需要测量温度。 快速测量：预热约30分钟，每1.5分钟测量一次发射率。 价格实惠: 相较于一些用比较法测量发射率的仪器便宜很多AE1/RD1辐射率仪测量材料的总半球发射率，测量仪仅对辐射热传输响应，并且输出电压和发射率成线性关系。D&S的标度数字电压表RD1是AE1辐射率仪读数器，RD1通过可调旋钮来设定电压读数和发射率标准体的电压一致，当AE1测量待测样品上时，RD1就能直接读出发射率。 把该仪器放在高发射率标准体（近似黑体）上，设定RD1来表示发射率标准参数；然后仪器就会根据这个标准，计算并直接读出RD1上该被测目标的发射率。 AE1测量样品最小直径为2.25英寸（5.7cm）。可选附件AE-AD1和AE-AD3探测头能使测量样品最小直径为1.0英（2.54cm），可以为圆柱形表面和几乎任何几何形状面需求的客户提供定制探头。对小直径圆柱形面样品测量，可以测量平行放置的多个样品。如需定制测量头，请来电垂询价格！ 发射率通过两个步骤获取：1.把辐射计放在高发射率标准体上，设定RD1来表示发射率；2.把辐射计放在待测样品上并直接读出RD1上的发射率。. 技术参数读数器: D&S 微型数字伏特计，型号RD1. 输出: 2.4 毫伏→在材料发射率为0.9，材料温度为25℃时 线性关系: 该测量仪输出和发射率成线性关系，小于±0.01 测量时间: 10 s 加热装置: 用来加热使标准体和待测样品温度一致。 样品温度: 最大130F。样品温度和标准体温度必须一致。. 漂移: 输出值可能随着外界环境的变化而改变，但是这些影响在本仪器这么短的检测时间内可以忽略。 标准体: 随机提供两个高发射率标准体和两个低发射率标准体。其中一套标准体可以用来测量时使用，另一套标准体备用并作为参比。电源: 通用交流电源适配器100-240V，50-60Hz，12V直流输出 AE1辐射率仪：包括辐射率仪、电源线、加热装置，两个高发射率标准体和两个低发射率标准体，技术手册及操作指南。可选配件: Model AE-AD1 - 测量直径最小可至1.5 inches(3.8 cm)的样品。 Model AE-AD3 - 测量直径最小可至1.0 inches(2.54 cm)的样品。Model AE-ADP - 测量适配器，端口内直径为1.5inches(3.8cm)，用来测量较小尺寸、低导热性、大曲率(2 inches)圆柱表面或者粗糙结构表面的样品材料Custom Adapters – 定制测量适配器，用来测量圆柱体表面或者其它形状设计表面Battery Pack – 为方便客户便携式操作，我们还提供锂电池电池版本，可给该测量仪连续供电12小时左右，有电池电量指示，可充电。 测量仪尺寸:

ET100 发射率测量仪采用积分球反射方法设计，内置积分球、红外光源、微型控制处理器等，采用电池供电、触摸屏显示，具有使用方便、准确性高等优点。进行测量时，只需将仪器对准物体表面，扣动扳机后，自动进行反射率测量，测量完成后，会在显示屏上显示测量结果，同时将测量的反射率数据自动存储在SD卡内，可供用户后续处理和分析数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。

产品用途AE1/RD1辐射率仪是专门针对测量物体的辐射率设计的，可用于建筑反隔热涂料、纺织等行业。产品优点重复性： ± 0.01操作简单：探测器采用电加热设计，无须加热样品，也不需要测量温度。快速测量：预热约30分钟，每1.5分钟测量一次发射率。价格实惠技术参数读数器D&S 微型数字伏特计，型号RD1输出 2.4 毫伏→在材料发射率为0.9，材料温度为25℃时线性关系 该测量仪输出和发射率成线性关系，小于±0.01测量时间10 s加热装置用来加热使标准体和待测样品温度一致。 样品温度130F。样品温度和标准体温度必须一致。漂移输出值可能随着外界环境的变化而改变，但是这些影响在本仪器这么短的检测时间内可以忽略。标准体 随机提供两个高发射率标准体和两个低发射率标准体。其中一套标准体可以用来测量时使用，另一套标准体备用并作为参比。电源通用交流电源适配器100-240V，50-60Hz，12V直流输出AE1辐射率仪包括辐射率仪、电源线、加热装置，两个高发射率标准体和两个低发射率标准体，技术手册及操作指南。AE1/RD1辐射率仪满足《JG_T 235-2014 建筑反射隔热涂料》JGJ/T287-2014《建筑反射隔热涂料节能检测标准》中对半球发射率的要求。AE1/RD1发射率仪测量材料的总半球发射率，测量仪仅对辐射热传输响应，并且输出电压和发射率成线性关系。D&S的标度数字电压表?RD1是AE1发射率仪读数器，RD1通过可调旋钮来设定电压读数和发射率标准体的电压一致，当AE1测量待测样品上时，RD1就能直接读出发射率。把该仪器放在高发射率标准体（近似黑体）上，设定RD1来表示发射率标准参数；然后仪器就会根据这个标准，计算并直接读出RD1上该被测目标的发射率。AE1测量样品最小直径为2.25英寸（5.7cm）。可选附件AE-AD1和AE-AD3探测头，能测量样?品的最小直径为1.0英寸（2.54cm）。还可以定制探头，测量圆柱形表面和几乎任何几何形状表面。对于小直径圆柱形面样品的测量，可以测量平行放置的多个样品。如需定制测量头，请来电垂询价格！发射率通过两个步骤获取：1、把辐射计放在高发射率标准体上，设定RD1来表示发射率；2、把辐射计放在待测样品上并直接读出RD1上的发射率。

重复性： ± 0.01操作简单：探测器采用电加热设计，无须加热样品，也不需要测量温度。快速测量：预热约30分钟，每1.5分钟测量一次发射率。价格实惠简要概述AE1/RD1发射率仪测量材料的总半球发射率，测量仪仅对辐射热传输响应，并且输出电压和发射率成线性关系。D&S的标度数字电压表?RD1是AE1发射率仪读数器，RD1通过可调旋钮来设定电压读数和发射率标准体的电压一致，当AE1测量待测样品上时，RD1就能直接读出发射率。把该仪器放在高发射率标准体（近似黑体）上，设定RD1来表示发射率标准参数；然后仪器就会根据这个标准，计算并直接读出RD1上该被测目标的发射率。AE1测量样品直径不小于2.25英寸（5.7cm）。可选附件AE-AD1和AE-AD3探测头，能测量样?品的直径不小于1.0英寸（2.54cm）。还可以定制探头，测量圆柱形表面和几乎任何几何形状表面。对于小直径圆柱形面样品的测量，可以测量平行放置的多个样品。如需定制测量头，请来电垂询价格！发射率通过两个步骤获取：1、把辐射计放在高发射率标准体上，设定RD1来表示发射率；2、把辐射计放在待测样品上并直接读出RD1上的发射率。技术参数读数器:D&S 微型数字伏特计，型号RD1输出:2.4 毫伏（当材料发射率为0.9，材料温度为25℃时）线性关系:该测量仪输出和发射率成线性关系，偏差小于±0.01测量时间:10 s样品温度:130℉。样品温度和标准体温度必?须一致漂移:输出值可能随着外界环境的变化而改变，但是这些影响在本仪器这么短的检测时间内可以忽略标准体:随机提供两个高发射率标准体和两个低发射率标准体。其中一套标准体可以用来测量时使用，另一套标准体备用并作为参考电源:通用交流电源适配器100-240V，50-60 Hz，12V直流输出AE1发射率仪：包括发射率仪、电源线、加热装置，两个高发射率标准体和两个低发射率标准体，技术手册及操作指南

便携式红外发射率测量仪ET100介绍 发射率测量仪ET100采用积分球反射方法设计，内置积分球、红外光源、微型控制处理器等，采用电池供电、触摸屏显示，具有使用方便、准确性高等优点。进行测量时，只需将仪器对准物体表面，扣动扳机后，自动进行反射率测量，测量完成后，会在显示屏上显示测量结果，同时将测量的反射率数据自动存储在SD卡内，可供用户后续处理和分析数据，测量一次的时间只需要7秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供NIST可溯源标定。 ET 100发射率测量仪可以测量20度和60度2个入射角，6个光谱波段的反射率和波段总发射率。ET 100发射率测量仪可以实现在实验室以及野外现场金确地测量和研究材料表面的光学特征——反射率、发射率等参数。 应用领域 n 航空工业n 涂层领域n 太阳能领域优化太阳能利用性能n 节能建筑n 光学材料质量控制 主要特点n 测量2个入射角、1.5~21μm之间6个非连续波段的反射系数n NIST标准n 快速、便携n 电池操作非常方便n 测量标准和60°入射角的定向热发射比n 计算半球热发射比

便携式红外发射率测量仪ET10型介绍 便携式发射率测量仪ET10可测量任何不透明材料的发射率；获得测量红外测温成像技术的重要参数 —--红外发射率。 当物体的物理化学性质没有发生变化时，不同温度下的反射率与波长是不变的，所以物质在 500°K 高温下的发射率数据可以由室温下测得的反射率数据计算出来，ET10 主要用于测量不透明样品的发射率。进行测量时，将仪器对准测量样品表面，按下扳机即可记录数据，测量一次的时间只需要 7 秒钟。随机配备镜面金质标样，并可提供 NIST 可溯源标定。 ET10 主要特点利用两个探测器同时测量 3~5、8~12 微米 2 个波段的发射系数对于不透明物体：Emissivity = 1- reflectance 软件简单易用，具有强大的测量和数据处理功能 液晶触摸屏 PDA 图文操作界面可同时提供十种设备运行信息 NIST 标准 快速、便携 电池操作非常方便 应 用为红外相机提供发射率参数 提高温度测量精度

中图仪器NS系列国产薄膜台阶高度测量仪采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能 NS系列国产薄膜台阶高度测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。NS系列国产薄膜台阶高度测量仪是一种常用的膜厚测量仪器，它是利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。如针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器 1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。NS系列台阶仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。典型应用部分技术指标型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

产品详情DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台： DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。全球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。探索者提供了薄膜工业中最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。DENTON 薄膜沉积平台• R & D• 批量生产• 在线生产• 蒸发• 溅射• PE-CVD DENTON 的区别你们的过程就是我们的过程。我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。• 我们的系统规模可以满足您的生产需求• 我们永远相信客户• 全球支持网络 在DENTON，我们关心你的成功• 工厂验收测试• 个性化培训• 远程、实时支持• CE / UL / CSA兼容系统 能溅射电、磁、复合材料。柔性阴极，调整到冲击角也可用。 强大的控制系统可在半手动模式或全自动模式与一个推动自动化，以减少系统停机时间。 Processpro升级提供:1.所有登顿真空产品的一致性控制。2.标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。3.源代码为您的程序，以便您可以自定义您的程序。4.网络功能使资源管理器网络上支持实时、远程支持和升级的节点。 灵活的室大小可容纳多达10英寸的衬底。 多个泵配置多种扩散、低温和涡轮泵配置可用于满足您的预算和工艺。后方或底部安装的泵提供方便的访问服务，根据您的工作场所的需要。典型的应用PE-CVD• 材料研究• 小批处理系统• 3 d对象• 覆盖各种材料 溅射• 材料研究• 产品质量控制和质量保证• 半导体失效分析• CD掌握• 纳米技术• 化合物半导体• oled 蒸发• 材料研究• 离子辅助沉积(IAD)• 医疗设备• 电信• CD掌握• 发射• 保护涂层选项：

CHY-C2A薄膜测厚仪 塑料薄膜厚度仪 包装薄膜厚度测量仪采用机械接触式测量方式，严格符合标准要求，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。CHY-C2A薄膜测厚仪 塑料薄膜厚度仪 包装薄膜厚度测量仪技术特征：严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择实时显示测量结果的最大值、最小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果系统由微电脑控制，搭配液晶显示器、菜单式界面和PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看标准的RS232接口，便于系统与电脑的外部连接和数据传输支持LystemTM实验室数据共享系统，统一管理试验结果和试验报告执行标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817CHY-C2A薄膜测厚仪 塑料薄膜厚度仪 包装薄膜厚度测量仪技术指标：负荷量程：0 ～ 2 mm（常规）　　　　　0 ～ 6 mm；12 mm （可选）分辨率：0.1 μm测量速度：10 次/min （可调）测量压力：17.5±1 KPa（薄膜）；50±1 KPa（纸张）接触面积：50 mm2（薄膜）；200 mm2（纸张）　　　　　注：薄膜、纸张任选一种；非标可定制电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz外形尺寸：461mm(L)×334mm(W)×357mm(H)净重：32kg仪器配置：标准配置：主机、标准量块一件选购件：专业软件、通信电缆、测量头、配重砝码、微型打印机以上信息由Labthink兰光 济南兰光机电技术有限公司发布！济南兰光，包装检测仪器优秀供应商，国际知名品牌，专业致力于为包装、食品、医药、日化、印刷、胶粘剂、汽车、石化、生物、建筑及新能源等领域提供行业咨询、产品销售、售后服务和风险控制。成立至今，公司秉承“以客户为中心”的服务理念，已为全球一万家科研机构、第三方检测机构以及企业品管部门提供了全面、专业、精准的包装产品质量控制解决方案。如欲了解更详细信息，欢迎致电0531-85068566垂询！

塑料薄膜厚度测量仪随着塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料的应用，食品保鲜膜等包装品也得到了大量应用。为了确保这些包装材料的厚度和品质，需要使用厚度测量仪器进行检测。本文将介绍一种厚度测量仪器的检测原理，该仪器采用机械接触式进行测量，能够准确地测量各种材料的厚度。 该厚度测量仪器由机械框架、测量头、驱动器、传感器和测量软件等组成。在测量过程中，测量头与被测材料接触，传感器会感知测量头与被测材料之间的距离，并将距离信号传输到测量软件中进行处理和计算。 该厚度测量仪器采用机械接触式进行测量，其检测原理是利用测量头与被测材料接触时，测量头受到被测材料的顶出力，该力会使测量头的位移发生变化。测量头位移的变化量与被测材料的厚度之间存在一定的关系，通过测量位移变化量就可以计算出被测材料的厚度。 具体来说，该厚度测量仪器在测量过程中，将测量头放置在被测材料的表面，并施加一定的压力，使测量头与被测材料紧密接触。当测量头向上移动时，由于被测材料顶出力的作用，测量头的位移将发生变化。该位移变化量通过传感器传输到测量软件中，测量软件根据位移变化量和机械框架的结构参数，计算出被测材料的厚度。 该厚度测量仪器能够准确地测量各种材料的厚度，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等。同时，该仪器还可以用于食品保鲜膜等包装材料的厚度检测。由于该仪器采用机械接触式进行测量，其具有以下优点： 1、测量精度高：由于测量头与被测材料直接接触，能够更准确地感知被测材料的厚度变化。2、稳定性好：由于机械结构比较稳定可靠，因此测量的重复性和准确性都比较高。3、适用范围广：可以用于不同材料的厚度检测，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料以及食品保鲜膜等。 技术参数 测量范围 0-2mm （其他量程可定制） 分辨率 0.1um 测量速度 10次/min（可调） 测量压力 17.5±1kPa（薄膜）；100±1kPa（纸张） 接触面积 50mm² （薄膜），200mm² （纸张） 注：薄膜、纸张任选一种 进样步矩 0 ～ 1300 mm(可调) 进样速度 0 ～ 120 mm/s(可调) 机器尺寸 450mm×340mm×390mm (长宽高) 重 量 23Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 80%,无凝露 试验环境 无震动，无电磁干扰 工作电源 220V 50Hz 塑料薄膜厚度测量仪 此为广告

德国Sentech自动扫描薄膜测量仪器SenSol SenSol是SENTECH光伏产品组合中的自动大面积扫描仪器。自动表征膜厚、薄层电阻、雾度、反射和透射的均匀性。使用SenSol，可以监测大型玻璃基板上的沉积过程的均匀性，从而可以显著减少仪器维护后重新开始生产的时间。 整体表面分析SenSol自动扫描系统是为薄膜测量设计的，在面板上的每个位置，特别是在边缘都可以进行测量。 TCO自动扫描TCO可以研究厚度的均匀性、薄层电阻、光谱分辨的雾度H(λ)、反射R(λ)和透射T(λ)。 工艺优化新的沉积工艺或清洗后的沉积设备的运行时间显著减少。 SenSol自动扫描仪器设计用于玻璃薄膜光伏制造中薄膜性能的质量控制的在线测量。大量的传感器可以集成到SenSol传感器平台中。这也允许特定的工艺监测，提供补偿工艺中出现的差异。 瑞士Oerlikon Solar公司是光伏薄膜测量设备的供应商，也是SENTECH的主要参考客户之一，通过SenSol的工艺监测确保了优异的生产效果。 SENTECH易于使用，面向配方的SenSol自动扫描软件为制造商主计算机提供了灵活和定制的接口，以及客户特定的薄膜测量结果的图形表示。

岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量轻轻一按即可实现测量！请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

F60 薄膜厚度测量仪生产环境的自动测绘Filmetrics F60-t 系列就像我们的 F50产品一样测绘薄膜厚度和折射率，但它增加了许多用于生产环境的功能。 这些功能包括凹槽自动检测、自动基准确定、全封闭测量平台、预装软件的工业计算机，以及升级到全自動化晶圆传输的机型。不同的 F60-t 仪器根据波长范围加以区分。 较短的波长 (例如， F60-t-UV) 一般用于测量较薄的薄膜，而较长的波长则可以用来测量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 选择Filmetrics的优势 桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件 附加特性 嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效存储，重现与绘制测试结果

MEJ 除静电离子棒通常使用在生产机器上，可以短距离电离，且没有移动机器部件干扰电离。Simco-Ion 防静电离子棒的性能与 MEB 型相同，除了 MEJ小的圆形尺寸，使其很容易适应狭小的空间，可以通过机器框架中的孔安装此防静电离子棒。MEJ是一种高效、通用的静电消除器，在许多行业有着广泛的应用。MEJ静电离子棒需要配合一个操作电源使用。 特点工作距离30 mm触摸发射器无电击感当一些发射器引起短路时（例如由于严重的污垢）静电离子棒可继续正常工作圆棒，可通过机架中的孔轻松安装 深圳市荣盛源科技有限公司 ( VSY-Technology Co.,Ltd )，成立于2009年。我们一直专注于电子/工业领域的静电控制，静电接地与在线监测与防护系统、静电驻极设备、除尘洁净设备及IML模内静电贴标的应用设计、研制和销售一体的供应商。二十年来紧跟现代工业生产的步伐并不断学习钻研和累积，非常了解现代各工业领域生产环节上所碰到的相关问题。在IML模内贴标、包装、电子组装、静电驻极等方面的非标设计和解决方案！我们将秉承务实、负责的经营理念为大家提供适合的服务和解决方案！电子应用：静电控制设备、无尘室洁净设备、除静电表面清洁机、净化环境工程解决方案；工业应用：静电控制设备、薄膜/片材表面洁净、印染涂布、纸品印刷除尘洁净系统、覆膜贴合、无纺布静电应用配套设计；包装应用： IML模内静电自动贴标、食品包装非标静电发射器的设计与解决方案；接地检测：人员与设备的静电在线检测和监控；防静电耗材：导电材料、导电毛刷、防静电袋、屏蔽袋。