薄膜光泽度仪

带测量头，显示器和电源，在生产线上非接触式测量光泽，测量距离是10毫米。如需要可以提供内置标准板及防尘装置，可以提供电控的来回移动的测量头结构，节省成本又能改善产品质量。 　　镜面光泽： 70 - 100 光泽单位 　　中度光泽：30 - 70 光泽单位 　　低光泽：0 - 30 光泽单位 　　507-60° （主要测量木地板） 　　包括：测试头，测试距离10毫米（传感器） 　　适配器 　　3 -digit LED显示器 　　最大，最小，平均值的基准输入显示器 　　超出范围会有信号灯亮 　　时间延迟 0 - 3 s 为了防止监视器偏离时间值 　　507-45° /A（主要测量塑料薄片） 　　包括：自动校准测试头，测试距离10毫米 　　3 -digit LED显示器（自动校准） 　　最大，最小，平均值的基准输入显示器 　　RS232C 接口 　　外部LED显示屏 　　507-60° （主要用在电镀车间） 　　包括：测试头，测试距离10毫米（传感器） 　　3 -digit LED显示器 　　距离片为了保持距离 　　模拟输出 　　有20° , 45° , 60° , 75° 85° 可以选择

奥淇科化致力为科研单位打造一站式采购平台。 在库品规三十余万种，含盖玻璃、试剂、仪器、耗材配件等。 店铺未上架产品请联系客服。

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

用途：Munsell比色卡全光泽版包含了1600多个门赛尔高光泽的颜色，每个颜色都按照40个固定的色相排列，并且可以自由抽取，同时还新增了37个门赛尔的灰系列。被广泛的应用到鉴定土壤，岩石，含氢的土壤，考古学的标本以及自然界生物的颜色。农艺学家，生物学家，考古学家，地质学家，动物学家以及其他科学家利用此比色卡来评定标本的颜色。这套色卡包含了颜色名字的图表，土壤结构的图表以及面罩孔，方便对色。产地：美国

产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜，以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度：下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上，使用两种材料：聚酯（聚酯薄膜）和聚丙烯（商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”，例如以“lene”结尾的，通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜）。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料，聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体（例如水、聚乙二醇和高沸点油）。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析，因为它没有主要成分其中的污染。相比之下，聚酯薄膜含有不需要的磷和钙（3.5 µmMylar 对应于纯油（例如清洁白油）中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜，例如Hostaphan（带有硅污染的聚酯）或聚碳酸酯（不含污染，首选用于燃料分析）受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明，因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理，所得到样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频：http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

土壤样品杯膜、XRF測試用的麥拉膜材質、美国Premier样品膜TF-260#（SKY-260） permier新产品SKY-260: 裁剪更方便 catalong NoFilm TypeSKY-115TF-115SKY-125TF-125SKY-130TF-130SKY-135TF-135SKY-160TF-160SKY-240TF-240SKY-260TF-260 迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 本公司供应美国premier所有型号产品，欢迎采购， 卷：( 直径：3.0" (76mm)；91.4m卷/盒) 序号CAT.No薄膜材料厚 度1TF-260#Polypropylene膜6.0μ(0.24mil) 品名：XRF样品膜Sample Film 型号： CAT. NO TF-260# 品牌：美国Premier Lab (原装进口） 货期：现货 起订量：1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜：美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域，以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film）以其极低的（几乎不含）杂质和厚度均匀而严格生产，极好的柔韧性和抗化学腐蚀性，保证检测结果的可靠性和重现性，被广泛应用于XRF样品制备、检测过程，适用于各类X-ray光谱仪（XRF：WD-XRF、ED-XRF）。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测，适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点： 有卷状和片状，多种规格、尺寸、数量可供选择； 柔韧性强、方便、耐用； 的X-ray射线穿透性，适合各类XRF光谱仪； 的抗化学腐蚀性能，不溶于有机溶剂，不污染待测样品； （几乎不含）痕量杂质，特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF：日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录：美国Premier X-ray样品膜种类：（1）、Hostaphan膜；（2）、Kapton膜：聚酰亚胺膜，卡普顿膜；（3）、Mylar膜：聚酯薄膜，迈拉膜，麦拉膜；（4）、Polypropylene膜：聚丙烯膜。目录编号：CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-260 Polypropylene膜 6.0μ(0.24mil) 76mm x91.4m 1卷/盒 Polypropylene Rolls连续卷轴

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

X-RAY样品膜、XRF測試用的Prolene膜、XRF样品膜、ROHS测试膜、迈拉膜--美国Chemplex 416# 现货供应：XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。 品名：XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO：416产品信息：Prolene膜，卷轴，厚度4.0 μm，宽7.6cm x 长91.4m，1卷/盒品牌：美国Chemplex Industries.Inc.（原装进口）货期：现货起订量：1盒以上。 产品详细信息：Pre-Perforated Thin-Film Sampel SupportsPROLENE® FILMCAT. NO：416Gauge：0.00016”，4.0 μm；0.16mil，40,640ATypical Impurities，PPM：Ca, P, Fe, Zn, Cu, Zr, Ti, AlChemplex® INDUSTRIES，INC.ROLL：3” x 300’ (7.6cm x 91.4m)； Lot No：082176。 现货供应：XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

上海新诺 玛瑙研钵 天然A级玛瑙乳钵 研磨碗 研磨棒 研钵产品介绍：玛瑙乳钵主要适用于实验室内部对少量样本的研磨与分析实验仪器，用于研磨固体物质或进行粉末状固体的混合。玛瑙研钵适应于化验室、制药厂、化工实验室的研磨用，耐压强度高、耐酸碱。研磨后不会有任何乳钵本体物质混入被研磨物中。 玛瑙研钵技术特点：① 产品无裂痕、无杂质、抗耐磨性强。② 产品光泽度、抗腐蚀性强，可在酸性研磨材料中使用。③ 选用巴西进口原材料加工制成，纯度、硬度高。 玛瑙研钵化学组成：成分SiO2MgO/CaO/Mn2O3wt%97.262.74 玛瑙研钵物理性质：比重散重莫氏硬度弹性模量颜色2.65kg/dm31.5kg/L7.2-7.5〉70Gpa灰白或灰色

适用范围：薄膜、 纸张类材料试样的拉伸测试无接头：夹具体M6内 牙 平面夹片,可夹持试样宽度30mm,夹持厚度2mm.

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

中性密度(ND)层压滤光片薄膜高刚性和耐久性增透膜(AR)滤光片薄膜可减少眩光易于操作和安装中性密度(ND)层压滤光片薄膜采用柯达Wratten 2 中性密度(ND)层压滤光片制作而成，外加单面增透膜(AR)层压以提高刚性和耐久性，并使其更易于处理。本滤光片薄膜备有多种尺寸，并与我们的标准光学固定架和模组安装组件兼容。这种滤光片储藏在潮湿的环境中容易损坏，zui好不要长期存储在超过50摄氏度的环境温度中。注意： 光密度值和透射率值是指未经层压的滤光片薄膜。层压一般会更改光学密度（光密度），幅度少于±0.1 OD。查看曲线以了解具体性能数据。 中性密度(ND)层压滤光片薄膜的增透膜(AR)可减少眩光和反射率，且对整体光学密度的影响不大。一般上，Wratten滤光片较为脆弱，且难以处理，使安装和系统集成较为困难。但在滤光片薄膜的一面添加AR镀膜则能够提高刚性和耐久性，增加尺寸选择并使其更易于安装和进行系统集成。常用规格基底Laminated Wratten 2订购信息：直径 (mm)光密度 OD尺寸 (mm)透射率 (%)产品号12.50.1-80#84-00912.50.2-63#84-01012.50.3-50#84-01112.50.4 -40#84-01212.50.5-32 #84-01312.50.6-25#84-01412.50.7-20#84-01512.50.8-16#84-01612.50.9-13#84-01712.51-10#84-01812.52-1#84-01912.53-0.1#84-02012.54-0.01#84-021250.1-80#84-022250.2-63#84-023250.3-50#84-024250.4-40#84-02525 0.5-32#84-026250.6- 25#84-027250.7-20#84-028250.8-16#84-029250.9-13#84-030251-10#84-031252-1#84-032253-0.1#84-033254-0.01#84-034500.1-80#84-035 500.2-63#84-036500.3-50#84-037500.4-40#84-038500.5-32#84-039 500.6-25#84-040500.7 -20#84-041500.8-16 #84-042500.9-13#84-043501-10#84-044502-1#84-045503-0.1#84-046504-0.01#84-0470.1 50.0 x 50.080#84-0480.250.0 x 50.063#84-0490.350.0 x 50.050#84-0500.4 50.0 x 50.040#84-0510.550.0 x 50.032#84-052 0.650.0 x 50.025#84-0530.750.0 x 50.020#84-0540.850.0 x 50.016#84-0550.950.0 x 50.013#84-056150.0 x 50.010#84-057250.0 x 50.01#84-058350.0 x 50.00.1#84-059450.0 x 50.00.01#84-060

FEP薄膜FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；规格参考：品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 9、FEP系列产品：取样瓶、大口瓶、洗瓶、滴瓶、容量瓶、烧杯、离心管、离心瓶、移液管、吸管、分液漏斗、薄膜、透明管、消解管、消解瓶以及各种定制产品等。详情请来电咨询。 专注自然成！期待与您的合作！单位：南京瑞尼克科技开发有限公司

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

玛瑙研钵用途：　　球磨机配备产品,出厂的玛瑙罐有出口型AA级，国内型A级，国内型B级等三种质量等级体系。库存量几万套。特点：1，无杂质、无裂痕、光泽度优质、耐震动力强，经过实验证明，产品经过高速 度震动磨耗，无裂痕、无凹凸现象，2，本产品选用巴西及乌拉圭进口玛瑙石原材料加 工而成，颜色鲜明、硬度比国产料石高0.5~1。3，产品耐高温性，耐酸碱性强，可在酸性研磨介质中使用。

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的； 多孔氮化硅薄膜窗参数： 框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm； 窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm； 孔间距：4.5μm；孔排列：100x100； 详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

&bull 非常适用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 超快激光&bull 已针对在 45° 入射角时分离 S 偏振和 P 偏振进行了优化&bull 在 DWL 具有 1000:1 的高消光比通用规格入射角 (°):45 ±1涂层:Thin Film Dielectric消光比:1000:1基底:Fused Silica (Corning 7980)表面质量:10-5厚度 (mm):3.00 ±0.10平行度（弧分）:3有效孔径 (%):85传输波前，P-V (λ):λ/10 @ 633nm产品描述TECHSPEC® 超快薄膜偏振片运用薄膜镀膜技术，在 800 和 1030nm 处实现最佳性能。在入射角为 45° 时，这些偏振片上的离子束溅射 (IBS) 镀膜可对 s 偏振提供超过99.8% 的反射率，对 p 偏振提供超过 98% 的透射率。TECHSPEC 超快薄膜偏振片非常适合与超快激光源（例如 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器）搭配使用。若您的应用需要使用定制尺寸或镀膜规格的超快薄膜偏振片，请联系我们。注意：这些光学元件边缘上的箭头指向薄膜偏振片镀膜。技术数据订购信息DWL (nm)消光比表面质量Dia. (mm)CA (%)厚度 (mm)产品编码800 1000: 10-5 12.70 +0.00/-0.1085 3.00 ±0.1013-0541030 1000:110-5 12.70 +0.00/-0.10 85 3.00 ±0.1013-055800 1000:110-5 25.40 +0.00/-0.1085 3.00 ±0.1012-9931030 1000:110-5 25.40 +0.00/-0.1085 3.00 ±0.1012-992

FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 FEP材质其他产品FEP取样瓶、容量瓶、洗瓶、滴瓶、消解瓶、消解管、离心管、薄膜、移液管、透明管、烧杯、分液漏斗，其他实验室常用器皿耗材等等。

Chemplex样品薄膜、麦拉膜、迈拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品薄膜、CAT.NO：106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416麦拉膜、CAT.NO：426麦拉膜、3014麦拉膜、欢迎咨询 美国Chemplex 杯膜 XRF样品杯，又名X荧光光谱仪样品杯、XRF样品杯、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、高纯度聚脂测试杯，是应用于X荧光光谱仪XRF上的一次性量杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。 产品类型：XRF样品杯Sample Cups 品 牌：美国Chemplex型 号：所有型号（欢迎来电索取产品目录）产 地：美国 产品介绍： Chemplex XRF样品杯用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。 Chemplex独有的SpectroCertified? X荧光光谱仪（XRF）样本杯的质量始于一种特别配置的聚乙烯！ Chemplex样本杯由专为该应用配制的专用高密度聚乙烯注模制成。该材料的特点有：1、符合RoHS指令； 2、不含有可能影响X射线数据的“白化”因子；3、光滑，能够促进薄膜样本支撑窗口的光滑和稳固附着；4、耐热和抗辐射的物理性能特点；5、能抵抗与无法确定的样本材料物质接触时产生的化学污染； 6、低微量元素杂质。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。从产品研发和设计新概念，在内部生产，Chemplex工业公司是形成了样品制备方法的基础的重大贡献。样本杯的设计始于一个开发一种用于承装和处理X射线分析的液体和粉末状样本物质的方法的创意。 谱飞科技作为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！主要有：高纯度聚脂样品杯，铝制样品杯，样品薄膜等。 我们不仅提供各种尺寸和属性的XRF样本杯、样品薄膜，还能根据您的样品类型和仪器品牌/型号为您选择合适的样品杯、样品薄膜。 二、XRF样品杯尺寸、属性和仪器兼容性： 为了对样本杯与仪器提供的样本夹持设备（金属样本杯、旋转盘、滑动平台、固定台等）进行匹配，购买样本杯前请告知您使用的X荧光光谱仪品牌和型号，或请直接测量仪器样本夹持设备的内径、高度和孔径。 我们列出了各种类型的样本杯的属性以更好地服务于应用，有需要的客户请联系本公司。本公司免费为客户提供包括样品杯的式样、尺寸、价格、编号、适用仪器型号等信息的产品目录。 适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、 MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、Chemplex产品系列： 注册商标有：Chemplex、SpectroCertified、SpectroSulfur?、SpectroMicro?、TrimLessTM、ThermoPlasticTM、TrimLessTM、FunnelShapeTM等XRF样品杯。 四、产品系列：1000系列带有紧固套的单和双开口32和40mm薄膜支撑样品杯,和带有紧固盖和排气室的45mm样品杯 1300系列带有旋转咬合盖和咬合圈的双开口32和40mm样品杯 1400系列带有排气和小样品管的单开口32和40mm样品杯 1500系列带有多孔薄膜和咬合附件的双开口32和40mm样品杯 1545系列适用于样品表面水平和样品表面倾斜的XRF系统的样品杯 1700系列带有咬合排气和排气室的单开口32和40mm样品杯 1800系列带有排气装置和排气室的单开口32和40mm样品杯 1080,1085,1850系列带有排气装置和排气室的单和双开口47mm样品杯。 1、1000系列：TRIMLESS?套筒样本杯与SPECTROSULFUR?分析仪杯，TRIMLESS?套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L* 特长单开口端。4、1500系列：双开口端XRF样本杯。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。产品编号：1530 双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540 双开口端。5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1730 咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1830 ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2 双开口端。10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。产品编号：2132 、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形）样本杯技术。产品编号：3106、3110、3115、3120。更多信息咨询美同达科技

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com