薄膜式真空计

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薄膜式真空计相关的厂商

  • 合肥皖为真空科技有限公司
    真空仪器（氦质谱检漏仪）及真空设备（氦检漏系统）、充氦回收系统、气密性检漏仪、真空镀膜设备、纳米薄膜及各类电气控制系统、夹具、冲堵头、的组装生产、研发、销售及真空机组、检漏平台、流水线体、非标自动化设备维修移机保养改造。高纯氦气、真空阀门、真空泵、真空测量仪器仪表、压缩机、机电产品、润滑剂、密封耗材批发及零售。承包检漏工程、检漏方案设计实施、检漏仪租赁业务、检漏仪校准、、真空镀膜服务、工业自动化设备以及电子产品、及计算机软件的研究、开发、销售、技术服务、技术咨询、系统集成及自营和代理各类商品和技术的进出口业务。
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  • 上海年伟真空机械有限公司
    上海年伟真空机械有限公司专注检漏仪租赁、维修业务。联系电话：孔15000771018.客户花一笔很少的租赁费用，获得一段时间的检漏仪使用权，期间不必操心检漏仪的维修、维护工作，也无需额外雇佣操作人员。若是采购一台新品检漏仪，不仅前期投入大，后期检漏仪需要维保，需要专人看护，就算不用也是需要保养的，可能变成累赘。
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  • 泰州市爱德机电科技有限公司
    泰州市爱德机电科技有限公司：专业从事测控仪器、仪表、专用真空测试设备、真空应用系统研发和生产的高新技术企业，是中国真空学会会员单位，江苏省真空学会常务理事单位。公司产品历史悠久，自上世纪七十年代末即研制生产真空继电器、常规真空计等，三十多年来，紧跟时代步，科技领先，研制的真空测控仪表和专业真空测控设备不断更新换代，最新产品智能真空仪、高精度陶瓷薄膜真空计、精密电容型真空压力变送器、防爆型智能真空计等高科技产品已广泛应用于科研、军工、航空、航天、机械、冶金、化工、医药、食品、电子、电力、环保、高效农业等行业。主要产品系列：VR-208系列智能真空仪（高精度薄膜真空计系列）ZKY-2000系列真空测控仪ZKJ-9095系列真空压力继电器PS-210/310/510系列真空度传感器PBS-310/510系列真空度变送器VRK-760系列精密真空度开关量传感器VRG—200数字式真空机组(系统)电器控制柜VTF-209 系列食品工业真空度测试台V-TXT—a~d 真空技术教学实验装置VMS-209系列数字真空源（智能真空发生器）VPS-100A\D系列袖珍式数字真空计VTXL-208c真空泄漏率快速测定仪
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  • ChemTron MD52实验室薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统 400-675-6560
    实验室型薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统优莱博薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统是针对于常规蒸馏效果不佳的分离浓缩应用特别设计推出的。因其成膜蒸发，高真空度 ，连续操作等特点，特别适用于热敏性物料，易起泡物料，高粘度物料等的蒸馏和浓缩操作。 工作原理薄膜蒸发在被加热的蒸发器圆筒形内表面，一个旋转的刮膜系统将原料刮成均匀的薄膜。刮膜系统能够使液膜形成良好的湍流效果，优化传热和传质过程，从而能大大地提高蒸发效率。 原料中的低沸点组分在短时间内从液膜中蒸发出来。 物料在蒸发器内的停留时间非常短。蒸发出轻组分气体在外置冷凝器中冷凝。重相的浓缩物由蒸发器底部持续排出。在薄膜蒸发器中，能够处理高粘度的物料以及易于结晶的物料。薄膜蒸发器内操作压力可以低至 1mbar。薄膜蒸发的优点 连续的蒸馏过程 物料停留时间短 高蒸发率 由于操作压力低，因而所需的加 热温度低 可以处理高沸点、高粘度物料 薄膜蒸发器可以连接带有一定理论塔板数的精馏柱 蒸发器内壁不易结垢短程蒸馏 短程蒸发器是将薄膜蒸发器和冷凝器集成在一体的设备。轻组分的蒸汽在短程蒸发器内置冷凝器上冷凝。 蒸发面和冷凝面之间的路径非常短，因此，气相的压力降非常低。短程蒸馏的优点 连续的蒸馏过程 高湍流、高蒸发率：被刮成的膜始终保持高湍流的状态，增加了质量和热量的传递 停留时间短：降低了产品的热应力 一步蒸馏：无需循环 在蒸发器内壁上形成很薄的液膜：无静液面高度的影响 无产品结焦：在加热的蒸发器上由于薄膜的高湍流，使产品不会滞留在蒸发器表面 可进行高粘度产品的蒸馏：提供te殊设计的刮膜系统 操作压力低：ji低的操作压力可降低物质的沸点，zui低可达 0.001mbar（0.1Pa） 装置设计非常紧凑不同蒸馏方法的对比表不同蒸馏方法的对普通蒸馏薄膜蒸发短程 / 分子蒸馏物料被加热的时间非常长 ( 按小时计 )非常短 ( 数十秒 )非常短 ( 数十秒 )真空度一般 ( 几个到几十 mbar)很高 (1mbar)非常高 (0.001mbar)所需要的蒸发温度高比较低非常低热敏性物料的分离不适宜适宜非常适宜对于易于起泡的物料分离不适宜非常适宜适宜是否能够连续化蒸馏不能能能高粘度样品的浓缩或分离不适宜非常适宜适宜溶剂脱除效率一般非常好 ( 外冷凝器面积不受限制）好 TF40 薄膜蒸发或 MD52 分子蒸馏系统蒸馏主体（2 选 1）TF40 薄膜蒸发器主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 100-500rpm，蒸发面积 0.04 ㎡，蒸发能力 0.1-1.5L/h，冷凝面积 0.2 ㎡，zui大物料粘度 1000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢MD52 分子蒸馏仪主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 60-500rpm，蒸发面积 0.052 ㎡，蒸发能力 0.1-2L/h，冷凝面积 0.08 ㎡（分子蒸馏蒸气压低，效率高，无须太大冷凝面积），zui大物料粘度 5000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢蒸发器加热模块（4 选 1）ITHERM-B1 循环水浴zui高温度 100℃，加热功率 1.5KW，稳定性 ±0.05℃DD-BC4 循环油浴zui高温度 200℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MS-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MX-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 3KW，稳定性 ±0.01℃冷凝器冷却模块（2 选 1）CS3 冷却循环器-20 到 100℃，制冷功率 300W，带加热，流量 10L/minFL300 冷却循环器-20 到 40℃，制冷功率 300W，噪音更低，流量 15L/min真空模块（3 选 1）SXD.4 防腐蚀隔膜泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 20mbar耐腐蚀，低噪音冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.05mbar冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 油扩散泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.001mbar进料模块（2 选 1）500ml 进料器，针型阀控制流量针型阀S型回路结构在确保连续蒸馏情况下的系统真空同时，可以实现随时加料1000ml 进料罐 + 高精密齿轮泵 + 单向进料阀连续进料套件-出料模块（2 选 1）三分出料器 +250ml 收集瓶 2 个 +4000ml 收集瓶 1 个在不放散真空的条件下可收集两个条件的清晰馏份重组分及轻组分高精密齿轮泵连续出料套件出料速度连续可调，出料精度 0.1Hz 的 产品应用领域油脂及食品 从食用油和鱼油中分离游离脂肪酸 从食用油和鱼油中脱除杀虫剂 甾醇的精制 浓缩单甘酯 浓缩鱼油酯中的 EPA 和 DHA 浓缩生育酚 浓缩胡萝卜素 干燥卵磷脂 从羊毛脂中脱除杀虫剂 羊毛脂颜色改进石化产品 从原油的减压渣油中分离微晶蜡 精制人工合成的以及石化产品的蜡 煤化工 费托合成蜡不同牌号蜡的切割聚合物 纯化和浓缩聚合物的单体 纯化和浓缩聚合物 脱除聚合物中的溶剂和单体化学、农化、医药产品 1, 4 丁二醇（BDO）精制 聚四氢呋喃醚（PTMEG）精制 多聚甲醛的精制 乳酸的纯化与精制 己内酰胺的提纯与蒸馏 浓缩和提纯二聚脂肪酸 从有机硅和有机硅树脂中脱除挥发组分 浓缩杀虫剂、除菌剂、除草剂 浓缩和提纯甘油 分馏和脱除天然蜡中的低沸点组分 异氰酸酯预聚体中游离的脱除（如 HDI,MDI） 脱除溶剂 除臭和去除农药残留 羊毛脂颜色改进 丙烯酸及丙烯酸酯的精制 医药中间体的蒸馏与精制 中药提取物有效成分的提纯 da麻二酚 (CBD) 的提纯香精和香料 提纯烟草提取物 烟用精油的提纯 脱除萜烯和浓缩精油 纯化香精香料中的芳香物质 浓缩柠檬香料 浓缩胡椒和辣椒提取物回收再循环 回收与精制废润滑油、刹车油、甘油和变压器油 回收和处理制药过程母液 回收有机中间体
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    厂商： 优莱博技术（北京）有限公司
    品牌： ChemTron
    型号： MD52/TF40
    价格： 30万 - 50万元
  • MKS722A-14618/30Torr电容薄膜真空计
    二手MKS电容薄膜真空计提供检测报告，零点和满度已调整，误差千分之二
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    厂商： 浙江科蕴电子科技有限公司
    品牌： MKS
    型号： MKS722A-14618/30Torr
    价格： 面议
  • 伯东公司德国普发Pfeiffer模拟型真空计 400-860-5168转0727
    伯东公司授权代理德国普发 Pfeiffer ModuLine 真空计产品优点： 1. ModulLine 真空计结构坚固耐用2. 耐受射线以及电磁场3. ModulLine 真空计可应用于所有大型加速器传输仓4. ModulLine 真空计四种不同的介面（Profibus）5. 可供金属密封感测器型号6. 可自动从真空计到冷阴极感测器转换ModuLine 真空计产品规格：型号连接尺寸 DN测量范围mbar工作环境温度重量最大值最小值°CkgTPR 0101010008. 10-40 - +70°C0.14TPR 0171610008. 10-40 - +70°C0.6TPR 01816/4010008. 10-40 - +80°C0.6IKR 05025/405. 10-31. 10-90 - +80°C0.6IKR 060405. 10-31. 10-100 - +80°C0.6IKR 070405. 10-31. 10-110 - +80°C0.65 真空范围真空计选择粗略真空应力薄膜真空计（APR 250，APR 260，APR 265，APR 267等等）、电容薄膜真空计（CMR 361，CMR 362，CMR 271，CMR 272等等）中真空电容薄膜真空计（CMR 363，CMR 364，CMR 273，CMR 274等等）、皮拉尼（Pirani)真空计（PPT 100，TPR 280，TPR 281等等）高真空冷阴极离子真空计（IKR 251，IKR 261 IKR 270等等）、热阴极离子真空计（IMR 265，PBR 260等等）伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部叶女士联系
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    厂商： 伯东公司德国普发真空pfeiffer
    品牌： 普发真空/pfeiffer vacuum
    型号： ModuLine Gauge
    价格： 面议
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薄膜式真空计相关的资讯

  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (PlasmaSystem)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）
    时间： 2008-12-28
    作者： 艾泰克
  • 薄膜沉积工艺和设备简述
    薄膜沉积（Thin Film Deposition）是在基材上沉积一层纳米级的薄膜，再配合蚀刻和抛光等工艺的反复进行，就做出了很多堆叠起来的导电或绝缘层，而且每一层都具有设计好的线路图案。这样半导体元件和线路就被集成为具有复杂结构的芯片了。化学气相沉积(CVD)化学气相沉积(CVD)通过热分解和/或气体化合物的反应在衬底表面形成薄膜。CVD法可以制作的薄膜层材料包括碳化物、氮化物、硼化物、氧化物、硫化物、硒化物、碲化物，以及一些金属化合物、合金等。化学气相沉积是目前很重要的微观制造方法，因为它有如下的这些特点：1. 沉积物种类多: 可以沉积金属薄膜、非金属薄膜，也可以按要求制备多组分合金的薄膜，以及陶瓷或化合物层。2. CVD反应在常压或低真空进行，镀膜的绕射性好，对于形状复杂的表面或工件的深孔、细孔都能均匀镀覆。3. 能得到纯度高、致密性好、残余应力小、结晶良好的薄膜镀层。由于反应气体、反应产物和基材的相互扩散，可以得到附着力好的膜层，这对表面钝化、抗蚀及耐磨等表面增强膜是很重要的。4. 由于薄膜生长的温度比膜材料的熔点低得多，由此可以得到纯度高、结晶完全的膜层，这是有些半导体膜层所必须的。5. 利用调节沉积的参数，可以有效地控制覆层的化学成分、形貌、晶体结构和晶粒度等。6. 设备简单、操作维修方便。7. 反应温度太高，一般要850~ 1100℃下进行，许多基体材料都耐受不住CVD的高温。采用等离子或激光辅助技术可以降低沉积温度。化学气相沉积过程分为三个重要阶段：1、反应气体向基体表面扩散2、反应气体吸附于基体表面3、在基体表面发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面CVD的主要有下面几种反应过程：i). 多晶硅 PolysiliconSiH4 — Si + 2h2 (600℃)沉积速度 100 - 200 nm /min可添加磷(磷化氢)、硼(二硼烷)或砷气体。多晶硅也可以在沉积后用扩散气体掺杂。ii). 二氧化硅 DioxideSiH4 + O2→SiO2 + 2h2 (300 - 500℃)SiO2用作绝缘体或钝化层。通常添加磷是为了获得更好的电子流动性能。当硅在氧气中存在时，SiO2会热生长。氧气来自氧气或水蒸气。环境温度要求为900 ~ 1200℃。氧气和水都会通过现有的SiO2扩散，并与Si结合形成额外的SiO2。水(蒸汽)比氧气更容易扩散，因此使用蒸汽的生长速度要快得多。氧化物用于提供绝缘和钝化层，形成晶体管栅极。干氧用于形成栅极和薄氧化层。蒸汽被用来形成厚厚的氧化层。绝缘氧化层通常在1500nm左右，栅极层通常在200nm到500nm间。iii). 氮化硅 Siicon Nitride3SiH4 + 4NH3 — Si3N4 + 12H2(硅烷) (氨) (氮化物)化学气相沉积CVD 设备CVD反应器有三种基本类型:◈ 大气化学气相沉积(APCVD: Atmospheric pressure CVD)◈ 低压CVD (LPCVD:Low pressure CVD，LPCVD)◈ 超高真空化学气相沉积(UHVCVD: Ultrahigh vacuum CVD)◈ 激光化学气相沉积(LCVD: Laser CVD，)◈ 金属有机物化学气相沉积(MOCVD:Metal-organic CVD)◈ 等离子增强CVD (PECVD)物理气相沉积(PVD)在真空条件下，采用物理方法，将材料源（固体或液体） 表面材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积不仅可沉积金属膜、合金膜， 还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。物理气相沉积技术工艺过程无污染，耗材少。成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层 。物理气相沉积也有多种工艺方法：◈ 真空蒸度 Thin Film Vacuum Coating◈ 溅射镀膜 PVD-Sputtering◈ 离子镀膜 Ion-Coating
    时间： 2024-05-15
    作者： Jansky
  • 纳米薄膜材料制备技术新进展！——牛津大学也在用的薄膜沉积系统，有什么独特之处？
    一、纳米颗粒膜制备日前，由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成，可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜，很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入，不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向，需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下，纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸，颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下，Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布（厂家测试数据）不同颗粒密度样品（厂家测试数据）纳米颗粒制备技术特点：▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调；▪ 多可达3重金属，可共沉积，可制备纯/合金颗粒；▪ 材料范围广泛，包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性（类似于反应溅射）▪ 的纳米颗粒层厚度控制，从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向：▪ 生命科学和纳米医学： 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向：电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究：光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化：燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器：生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而，人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物，想要消除铅对环境的影响，而迄今为止，这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的，如果将它们结合起来，就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期，牛津大学的光电与光伏器件研究组的HenrySnaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙，可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合，使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比，无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题，由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长，因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统，通过真空蒸发三种不同的前驱体，研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性，使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后，XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后，表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点：▪ 蒸发设备：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射：直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性：可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备：二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制：触屏编程式全自动控制
    时间： 2022-06-08
    作者： QUANTUM量子科学
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  • 数字针阀在便携式真空计校准装置中的应用
    针对便携式真空计校准装置以实现真空计的现场校准，基于静态比对法校准技术，本文提出了一种采用微型数字针阀和上下游双向气体流量调控模式的技术方案，结合双通道高精度的真空度PID控制器，可在真空度精密控制的前提下解决现场校准和便携性问题。
  • 上海伯东德国普发Pfeiffer 热销款皮拉尼真空计 TPR 270 升级上市
    上海伯东德国 Pfeiffer 热销款皮拉尼真空计 TPR 270 全新升级上市,测量准确,反应迅速,简单好用的优点外，还具有以下升级优点：1）真空计延展测量范围：1,000 -1 to 10-4 hPa2）提高测量精度：± 10 %3）可靠性更高-从2004年上市以来主要应用于大批量 OEM4）皮拉尼真空计优越的热稳定性，更完美的设计外观Pfeiffer 德国普发皮拉尼真空计 TPR 270 与同款真空计 TPR 280 对比，测量范围更广，测量精度更高型号 接口 测量范围 工作温度 测量精度 极限压力 重量 TPR 270 DN 16 ISO-KFDN 16 CF-F 1X10-4 - 1000 hPa 80 °C ± 10 % 400 kPa 135g TPR 280 DN 16 ISO-KFDN 16 CF-R1/8" NPT8 VCR 5X10-4 - 1000 hPa 80 °C ± 15 % 1000 kPa 80g TPR 280 DN 16 ISO-KFDN 16 CF-R 5X10-4 - 1000 hPa 250°C ± 15 % 1000 kPa 130g TPR 281(抗腐蚀系列) DN 16 ISO-KFDN 16 CF-R 5X10-4 - 1000 hPa 80 °C/250°C ± 15 % 1000 kPa 80g Pfeiffer 德国普发皮拉尼真空计 TPR 系列测量范围从1000 hPa 到 5 10-4 hPa,设计紧凑,测量准确,反应迅速,简单好用,适合一般的真空应用, Pfeiffer德国普发皮拉尼真空计TPR 系列多种接口可选.* 全系列真空产品维修保养促销活动:活动期间所有维修保养产品免收检测费,定期做保养服务可有效延长产品使用寿命,减少企业生产成本!上海伯东销售维修德国普发 Pfeiffer全系列产品已有10余年,公司自 1995 年成立以来已累计为数千家客户提供销售维修服务,维修次数累计超过数万余次保证 100 ％ 德国普发 Pfeiffer 原厂维修保养料件和受德国 Pfeiffer 专业培训的工程师,并用 Pfeiffer 原装进口检测设备对维修后的产品做全方面的性能测试,保证维修质量,并在上海,台湾等地区设立维修保养中心.上海伯东凭借其专业的技术背景及良好的服务质量是中国地区多家大型企业和国家研究机构长期合作指定供应商.上海伯东主要经营产品:德国普发Pfeiffer涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵:应用于各种条件下的真空计，氦质谱检漏仪，质谱分析仪，以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源，美国HVA真空阀门，Polycold冷冻机等
  • 普发 Pfeiffer 真空计 维修校准服务
    上海伯东为普发真空计/真空规IKR TPR BPR 等各种系列提供维修/校准服务（根据 ISO/TS 3567 或DAkkS校准进行工厂校准）, 以确保真空测量的准确性.
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  • 谈谈薄膜真空计（3）

    谈谈薄膜真空计（3）

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/10/201110211922_325615_1608408_3.jpg学习和引进国外先进核心技术，,根据我国真空设备配套测控仪表的特点，研制出的陶瓷薄膜真空计，其测量精度和稳定性已经完全可以与进口产品相媲美了。根据国内设备的习惯，控制柜上数字面板表，还是经常使用的，采用专门设计的具有真空测控特点的精密二次仪器仪表，借籍于现代智能仪表技术的科技成果，有利于提供测量的精度、分辨率、稳定性和可靠性，增加智能化的自动控制功能，（可以配接任何一种模拟量、数字量的接口，比进口的薄膜真空计更灵活、更方便）实践证明，陶瓷薄膜真空计使用到真空冷冻干燥机、真空单晶炉、气氛真空炉、真空精馏设备、真空镀膜机等设备，做真空测量和自动控制，带来极大地方便和性能提高，可以快速升级为智能型的真空应用设备。当然，也可以用到实验室、计量室作为相应的真空段的0.1级标准器，陶瓷芯片的优异性能使其年稳定度达到0.1%以上。

  • 谈谈薄膜真空计（1）

    薄膜真空计是迄今为止唯一得到公认的可作为低真空测量（0.01--100Pa）工作副标准的一种真空仪器，也是我国唯一具有法定计量校准检定规程的一种真空度计量器具（校准参照规程：Q/WHJ46-1998标准型电容薄膜真空计校准规程）电容薄膜真空计是一种绝压、全压测量的真空计，原理是把加于电容薄膜上的压力变化产生膜片间距离的变化，即产生了电容的变化，再通过鉴频器把电容变化转换成为电流或电压的变化，组成为输出信号，所以，它的测量是直接反映了真空压力的变化值，而且只与压力有关，与气体成分无关，即：薄膜真空计是一种直接测量式的、全压型的真空计。而我们的真空设备的真空度测量控制常用的真空计往往是电阻计、热偶计等等间接测量的真空计，是一种热传导型的真空测量方法，简单一点来说，就是通过测量感受气体温度的方法来间接测量气体压强（真空度），是一种类似于大家很熟悉热电阻、热电偶的测量方法，。由于测量原理上的先天不足，这类真空计的测量精度、测量稳定度是很不好的。其测量误差一般比薄膜真空计大1~2个以上数量级（误差大于30%，行业标准是50%），尤其是在低真空段，误差更大，另外，使用过电阻计、热偶计的度知道，这些仪表测量前还需要零点、满度校正，怎么能够用于在线测量控制呢？另外，遇到氢气等小质量的气体就无法测量了，如果要测，也查表换算，到底真空度是多少？猜吧。不过，它确实也有它的优点的：制造容易、价格低廉，在许多的要求较低真空设备上还普遍使用着,……用过电阻计的都领教过它的烦心。许多人抱怨花了3、4千元买到进口的真空传感器也误差大、毛病多?就是因为老外的这个价位的产品还是老的热传导测量机理的真空传感器。所以选择真空计、真空传感器、首先要看看什么原理、什么类型的，而不是数字、智能，测量机理陈旧，再怎么数字、怎么智能，也于事无补的。未完待续

  • 谈谈薄膜真空计（2）

    现代真空应用技术的发展，涉及的应用范围越来越广泛、真空应用设备对仪器仪表的要求越来越高，特别是对测量精度、稳定性要求、以及自动控制性能要求也越来越高，这直接关系到真空设备的整体性能质量，关系到真空应用技术或应用工艺的应用效果，甚至于成功与否。在精细化工、真空冶炼、真空单晶炉、真空热处理、真空浸渍、真空冷冻干燥、真空绝缘处理、电真空器件、半导体材料生产、高特新材料、新能源设备等等行业中尤其特出。许多新设备、新工艺、新产品的开发之所以老是无法实现预想的技术指标和效果，往往就是因为真空测控仪表选型不当、其实际的测量控制精度无法达到设计要求所造成的。当然，薄膜真空计也不是没有缺点的，首先是价格高，国内一般是4-6千元，量限低的贵些；进口则1.6—2.5万元/只左右；其次，国内老式的薄膜规容易零漂，需要经常校正，要求高的经常校正。主要是技术陈旧，国内材料科学相对落后造成的，温度稳定性不好；还有一个量程跨度小，国内的不超过3个数量级。第三是国产规娇气，容易坏，有油污进去很难清洗，要用丙酮，清洗挽救13往往会报废，小量程的23会坏。所以，我们需要有一种具有国产价格、进口品质的、使用方便、经久耐用薄膜真空计。结合我国国情、学习国际先进的真空测量新技术，我们能够做得到的。分析国外的薄膜真空计与我们旧式国产产品的有什么不同呢？简单说一说，其核心技术一是陶瓷薄膜电容真空压力测量技术、二是现代智能仪表技术。首先是通过大规模厚膜电路（国内有些厂家还是20年前的007运放），将薄膜电容测量机构和传感器调理电路微型化，做在陶瓷基片上，另外，将智能仪表电路微型化，一次仪表和二次仪表合二为一，所以量程宽、精度高、体积小；（其典型代表如莱宝62x、英福康TCBG等等）。未完待续

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  • 麦氏真空表/麦氏真空计PM-4
    麦氏真空表/麦氏真空计由上海书培实验设备有限公司为您提供，产品型号齐全，质量优越，欢迎客户来电咨询选购。 麦氏真空表/麦氏真空计技术参数：手持式压力计测量范围：规定范围0-650（kPa）精确等级：±5最大工作压力：（650）MPa产品应用范围：产品常用于制冷、煤矿等行业。 麦氏真空表/麦氏真空计是用于测试压强。
    供应商： 上海书培实验设备有限公司
    品牌： 书培
    价格： 面议
  • 数字真空计
    数字真空计为皮拉尼式真空计，即电阻式真空计，并带有控制功能。 产品型号数字真空计技术参数1、输入电压：110V-220V2、测量范围：10-4torr-1000torr3、接口：1/8″NPT产品规格尺寸：?48.3mm×104.7mm注意事项在测量腔体真空度为10-4torr-10-3torr前，必须进行零点校准，否则显示真空度会有较大的偏差。
    供应商： 沈阳科晶自动化设备有限公司
    品牌： 沈阳科晶
    价格： 面议
  • Nalgene 6133 可修复式手动真空泵（带真空计），锌合金
    Nalgene 6133 可修复式手动真空泵（带真空计），锌合金?该款真空泵结实耐用，能轻松快速地达到并保持25 in.(635 mm) Hg 的真空状态。单手操作即可完成真空触发释放，食指轻触即可释放真空状态。可调节真空释放率。其泵送率为15 cc/ 冲程，排气口处的正压为15 psig(1.0 bar)。全空口压力为两次冲程后得到的测量数据。排气口上带有活动盖，真空触发释放时不会断开真空泵与管线的连接。机身由锌合金材料制成，经久耐用。使用工具箱（目录编号6133-1000）可轻松地拆开修理或更换内部零件。订货信息：Nalgene 6133 可修复式手动真空泵（带真空计），锌合金目录编号 6133-0010每盒数量1每箱数量4
    供应商： 北京豫维科技有限公司
    品牌： Nalgene
    价格： 面议
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