氧化硅比量仪

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氧化硅比量仪相关的厂商

  • 宜兴精刚陶瓷科技有限公司成立于2012年,座落于中国江苏宜兴。我们拥有国外先进高科技技术和进口设备,是一家集研发、设计、生产特种陶瓷材料产品的专业性高科技企业。主要产品有:99氧化铝、氧化锆、碳化硅、氮化硅、ZTA特种陶瓷的结构件、高温耐火陶瓷管、棒、密封件、研磨件、基板、刀具以及各种异形件。产品具有高强度、高硬度、耐高温、耐磨损、耐腐蚀及绝缘等特性,是逐渐代替金属材料的新一代环保材料。 公司主专业生产95~99.9氧化铝结构陶瓷以及氧化锆陶瓷、氮化硅特种精密陶瓷,ZTA、堇青石等陶瓷材料产品 电热电器行业用各种规格材质的耐热、耐磨、耐电压、酸碱性陶瓷件。高铝质、刚玉质、碳化硅质,莫来石质耐高温陶瓷。普瓷、钛瓷,、高频瓷,75,85,95,99氧化铝陶瓷(管、棒、条、板、片、等陶瓷件),氧化铝刚玉管、电炉管.高温特种瓷件、耐火材料制品。  本公司拥有先进的生产加工设备,以及科研人员和技术人员,可根据客户图纸生产、加工、研发各类陶瓷异形件。产品尺寸精度高,性能稳定。
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  • 哈尔滨特博科技(Tebo Technology Co., Ltd. )有限公司,是一家专业生产和代理、经销现代化电子材料、仪器、设备的公司,我们致力于把国内外先进的科学仪器和设备引入到国内的科学研究及工业应用领域。特博同时代理国外诸多著名厂商的分析测试仪器与设备,为国内广大用户提供专业化的技术咨询及售后服务。所代理的产品均代表了当今世界的一流水平.特博公司专业提供硅片加工服务,可按客户要求加工2",3",4",5",6",8",12"各种晶向和厚度的硅片。主要产品:1)Entegris晶圆盒系列  2)低温真空泵,干泵  3)无尘服/布/纸/粘尘垫  4)热蒸发/电子束蒸发系统   5)晶圆全检仪      6)磁控溅射系统 7)脉冲激光沉积PLD系统  8)离子辅助沉积IBD系统     9)等离子刻蚀机,去胶机 10)离子束刻蚀IBE系统     11)罗门哈斯抛光系列产品 12)MKS全系列产品    13) 硅片,氧化层硅,SOI绝缘硅,氮化硅层硅片,硅外延片  砷化镓衬底GaAs,磷化铟衬底InP,锗片Ge14) 砷化镓外延片,氮化镓外延片,氮化铝基片,锑化镓GaSb15)高纯纳米材料纳米氧化铜CuO,纳米氧化铁Fe2O3,纳米氧化钇Y2O3,纳米氧化镧La2O3,纳米氧化铈CeO2,纳米氧化铋Bi2O3纳米氧化锑Sb2O3,纳米氧化铟In2O3,纳米氧化铁Fe3O4纳米氧化锌ZnO,纳米氧化铝Al2O3,纳米氧化镁MgO,纳米氧化硅SiO2,纳米氧化钛TiO2,纳米氧化锆ZrO2纳米氢氧化铝Al(OH)3,纳米碳黑/炭黑(白碳黑),纳米氮化钛TiN,纳米氮化铝AlN,纳米氮化硅SiN,纳米碳化硅SiC,纳米碳化锆ZrC,纳米碳化钛TiC,纳米碳化硼B4C,纳米硅粉Si,纳米氮化锆ZrN,纳米钯粉,纳米铜粉,纳米铝粉,纳米铁粉,纳米钨粉,纳米银粉,纳米镁粉,纳米钼粉,纳米钽粉,纳米锌粉,纳米ATO粉,纳米银浆,碳纳米管,纳米碳纤维,一氧化硅粉SiO16)美国高性价比:天平/PH计/水分测定仪17) 美国真空热压炉、烧结炉、热等静压炉等18) 法国离子注入机
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  • 山西新晟科学仪器有限公司是一家专业从事实验室智能仪器生产销售的公司。注册地位于革命英雄老区,红色沃土的山西省吕梁市。公司自主研发生产的ZHXS-01型全自动智慧称量仪可针对粉末样品及XRF熔片法专用进行高精度自动称量。ZHXS-01型全自动智慧称量仪在个实验室应用中大大降低了人员工作强度,大幅提高了工作效率。独创的高精度自动称量技术在用户处反复使用与验证,得到一致认可与好评。称量精度与速度均达到国内外一流领先水平。公司有一支强大的科研技术队伍和先进的生产设备,保证了产品始终走在同行的前列!公司以科技创新,用户至上为宗旨,时刻关注市场发展趋势和用户需求,不断创新、提升产品品质,以更优质的产品和服务回报用户!
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氧化硅比量仪相关的仪器

  • Orion 8030cX 二氧化硅分析仪Thermo ScientificTM Orion 8030cX 在线二氧化硅分析仪根据杂多钼蓝比色法原理自动测量二氧化硅浓度,准确、可靠且重现性好。Orion 8030cX 二氧化硅分析仪采用最先进的专利工业设计,具有直观的触摸屏用户界面和抗干扰测量过程,可用于各种应用,以满足过程控制要求。该分析仪作为Thermo ScientificTM Orion 8000 系列分析仪平台的一部分同一界面适用于多个参数。Orion 8030cX 分析仪性能优越可靠,设置简单,只需少量维护。市场电力石油和天然气工业净水化学半导体纸浆和造纸应用脱矿质剂锅炉RO出水混床出水概述二氧化硅是用于检测、控制和尽量减少涡轮机、换热器和锅炉结垢的一种关键度量。在线实时测量活性二氧化硅可尽量降低因结垢而产生的维修/更换成本,实现安全高效的长期运行,这款在线二氧化硅分析仪可用于对二氧化硅超标的生产用水的去除或回收进行即时或自动的决策。连续实时二氧化硅监测可快速通知离子交换树脂的RO穿透或饱和情况,从而使系统效率最大化,尽量减少维修停机时间。Orion 8030cX 在线二氧化硅分析仪可配置为在二氧化硅峰值出现时发送警告/警报或测量数据来警告用户,触发纠正措施,防止下游出现问题。优点1. 8030cX二氧化硅分析仪具有一流的准确度、检测限和可靠性,可满足过程控制和监测要求。2. 自动量程切换功能(0-5000 μg/L)可在整个量程内确保数据有效性和准确度。3. 专利流路系统设计和优化化学试剂可确保较低的LOD,并减少磷酸盐干扰。4. 先进软件功能包括自动校准、自动验证、按设定时间间隔自动测量、自动清洁、警告、警报和系统诊断功能。这些自动功能可减少手动干预和维护需求。5. 由于试剂消耗量少,维护需求低,因此运行成本较低。只需每100天更换一次试剂。6. 直观图形触摸屏界面非常容易理解,与智能手机操作类似。7. 该分析仪紧凑、稳健,已在各种发电厂和工业超纯水厂中成功进行案例研究。8. 外壳防护等级达IP65,关键部件经全面测试且寿命较长,可确保长期稳定运行。订购信息
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  • 使用 Thermo Scientific&trade Orion&trade 8030cX 二氧化硅分析仪自信地进行二氧化硅分析。Orion 8030cX 旨在提供准确、毫不费力的的水分析,专门用于在线测量活性二氧化硅。Orion 8030cX 采用先进的比色技术,可提供卓越的精度、更高的生产力和更强的耐用性。Orion 8030cX 支持超纯水和工艺用水应用,可方便地提供精确、可靠、值得信赖的测量结果。释放各种可能性,获享快速、自信决策的自由。结果可靠低检测限 (0.5 ppb)准确度高(在 0-500 ppb 范围内,≤1 ppb 或 1%)已获专利的液体输送和定量系统减少的磷酸盐干扰 低廉的拥有成本可连续运行100天(在含有 2L 试剂且测量频率为15分钟的情况下)试剂用量少(每次测量需 200 μL)分开的化学废液收集(减低了处置费用) 易于使用自动校准自动确认与验证带直观界面的彩色触摸屏 最长运行时间自动清洁预定式的测量警报通知系统报警系统(附带故障排除指南)经 IP65 认证(防溅/防尘)市场在以下产业监测超纯水、软化水、去离子水、锅炉水和蒸汽冷凝水中的二氧化硅:发电石油与天然气化工生产半导体制造纸浆与纸张应用监测和控制超纯水和工业工艺用水中的二氧化硅含量,以便:防止二氧化硅在涡轮叶片、热交换器、锅炉等部件上积聚减少昂贵且耗时的清洁程序识别反渗透 (RO) 分解和离子交换树脂饱和最大限度地提高蒸汽通道的热效率通过降低涡轮机振动的可能性来保障工厂关键设备的正常功能
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  • 产品概述FSI-12全自动游离二氧化硅前处理仪,可自动添加焦磷酸、精准控温消解、自动过滤清洗,实验全程无需人员值守,保护人员健康。仪器符合国家职业卫生标准GBZ/T 192.4-2007,适用于工作场所空气粉尘中游离二氧化硅含量的测定。 产品特点 智能软件控制 无需人员值守 ◇仪器内置方法,可自动制备焦磷酸◇一键式操作,全过程无需人工干预高通量进样器 高效循环运行◇多通道进样,提高样品处理效率◇多功能样品架,可循环加样持续运行精准控温消解 结果准确可靠◇双感温控探头,各通道独立控温,控温更准确◇搅拌速度可调节,防止局部过热引发胶化新型过滤系统 实验高效安全◇新型漏斗设计,过滤速度提高一倍◇新型液位监测系统,防止滤液溢满 应用领域疾控、电力、煤炭
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氧化硅比量仪相关的资讯

  • 百特参加全国二氧化硅技术交流会,助力产业转型再发展
    二氧化硅材料领域正处于产业转型的快速发展期,这个传统支柱行业,如今仍在峥嵘发展、求新求变。新兴领域的快速增长,创新产品的出现,不断引领市场风潮,各领域的企业及专家学者们通过对传统技术优化、传统应用升级,以及新技术、新应用的创新突破,推动着二氧化硅产业迸发出新的生命力。7月9-10日,丹东百特参加了由粉体圈在湖南长沙举办的“2021年全国二氧化硅材料技术创新与高端应用交流会”。在本次会议中,丹东百特产品总监宁辉博士做了《光散射技术在氧化硅材料表征中的应用》的报告。宁博士在报告中分别介绍了针对不同颗粒大小和理化指标的几种常用检测方法,及相应的技术原理、检测特点和适用情况,着重讲解了zeta电位对悬浮液体系的影响和用电泳光散射法检测zeta电位的检测原理。宁博士专业的报告赢得现场阵阵热烈的掌声。在仪器展示区,丹东百特展出了Bettersize2600激光粒度分布仪和BeNano 90 Zeta纳米粒度及Zeta电位分析仪。Bettesize2600激光粒度分布仪采用正反傅里叶技术,量程达到0.02-2600μm,高精度的数据采集与处理系统使测试结果达到同类进口仪器水平,它还具有一键式SOP智能化操作,十分钟就可以学会操作流程。BeNano 90 Zeta是丹东百特历时多年研究,凝聚校企科研力量,全新打造的新一代纳米粒度及Zeta电位分析仪。它集成了动态光散射、静态光散射和电泳光散射三种技术于一体,既能测量颗粒的粒度和Zeta电位,又能测量聚合物的分子量。作为表征纳米颗粒的高端光学测量仪器,BeNano 90 Zeta在药物及药物释放体系、生命科学和生物制药、油漆油墨和涂料、食品和饮料、纳米材料以及学术领域中有广泛的用途,其应用范围涵盖多肽、抗原、抗体、脂质体、水凝胶、微乳液、乳液、高分子溶液、蛋白质样品、纳米金属/非金属颗粒等等。综合各方表现,BeNano 90 Zeta可以堪称是一款“精确,智能,值得信赖”的全新纳米粒度及Zeta电位分析仪。经过26年持续创新和诚信经营,丹东百特发展成为业界知名的粒度粒形仪器和技术提供商。百特稳扎稳打,砥砺前行,凭借高端的品质和完善的服务在粒度测试仪器行业深耕细作。截止2020年,百特仪器的国内外市场保有量超过20000台,是世界粒度粒形仪器市场保有量最多的品牌之一,并斩获各种国内外专业级认证,其中包含71项专利,21项软件著作权,ISO9001,CE和FDA 21 CFR Par11等等。未来百特将继续为新老客户提供更加优质的产品和服务,为实现“打造精品仪器,争创国际品牌”的目标奋发前行。
  • 岛津XRD应对游离氧化硅的解决方案
    1、认识游离二氧化硅游离二氧化硅是指没有与金属或金属氧化物结合而呈游离状态的二氧化硅。职业卫生领域所称的“游离二氧化硅”是专指结晶型二氧化硅。《作业场所中空气中粉 尘测定方法》(GB5748-85)中明确说明“游离二氧化硅指结晶型的二氧化硅”。 游离二氧化硅按晶体结构分为结晶型(crystalline)、隐晶型(crypto crystalline)和无定型(amorphous)三种。结晶二氧化硅的硅氧四面体排列规则,如石英、鳞石英,存在于石英石、花岗岩或夹杂于其他矿物内的硅石;隐晶型二氧化硅的硅氧四面体排列不规则,主要有玛瑙、火石和石英玻璃;无定型二氧化硅主要存在于硅藻土、硅胶和蛋白石、石英熔炼产生的二氧化硅蒸气和在空气中凝结的气溶胶中。 2、游离二氧化硅与矽肺的关系生产过程中因长期吸入含有游离SiO2粉尘达到一定量, 会引起以肺部组织纤维化为主的疾病,即矽肺病。是尘肺中进展速度快、严重并且常见和影响面广的一种职业病。游离二氧化硅粉尘---矽尘, 以石英为代表,其包含的游离SiO2含量可高达99%。不同晶体结构致肺纤维化能力大小为:结晶型隐晶型无定型;另外,石英有多种晶体结构, 如:鳞石英、α-石英、方英石、β-石英等,其致纤维化作用能力的大小为:鳞石英方石英石英柯石英超石英。 3、游离二氧化硅的测定方法目前中国和世界上多数国家都是以焦磷酸重量法作为分析粉尘中游离SiO2的基础方法,不过如果粉尘中含有无定型的二氧化硅,则无法使用焦磷酸检测粉尘中的游离二氧化硅(结晶二氧化硅)含量,而只能通过红外分光光度法和X射线衍射法来确定其中的游离二氧化硅的含量。红外分光光度法和X射线衍射法普遍适用于各种粉尘中游离二氧化硅(结晶二氧化硅)含量检测。这也是国际标准化组织(ISO)和美国国家职业安全卫生研究所(NIOSH)采用红外分光光度法、X射线衍射法测定分成中游离二氧化硅的原因。 部分XRD仪器相关的标准如下:4、岛津XRD应对方案岛津的X射线衍射仪XRD-6100/XRD-7000,秉承日本工匠精神,做工精良,操作简便,本质安全,维护成本低。针对游离氧化硅分析,可以提供专用的数据分析软件及环境样品台,非常适用于疾控预防中心、职业病防治中心、安全生产研究院等单位,完成游离氧化硅相关的测试项目。 参考文献:1. 桑圣凯,周文正等,粉尘中游离二氧化硅的几点思考,中国卫生产业,2017,09,1842. 中华人民共和国卫生部,GB5748-85 作业场所中空气中粉尘测定方法[S],北京:人民卫生出版社,19853. 孙贵范,职业卫生与职业医学[M],7 版,北京:人民卫生出版社,2012,173
  • Nanologica 新一代纳米孔二氧化硅微球新品即将发布
    Nanologica 已经启动了该公司用于高效制备液相色谱的纳米孔二氧化硅微球NLAB Saga® 的一系列发布活动。 作为发布会的一部分,Nanologica 将参加春季在印度、美国和欧洲举行的多个会议。Andreas Bhagwani做大会报告路演的第一站:Purify' 22-Chromatography Purification Conclave。 4月7日, Nanologica参加了在印度海德拉巴举行的色谱纯化会议,Nanologica 的首席执行官 Andreas Bhagwani 受大会邀约就目前制药工业的大趋势和色谱对其产生的基本影响发表了他的看法,Nanologica 的色谱高级副总裁 Katarina Alenäs 就Nanologica即将发布的新品 - 用于多肽纯化的新一代纳米孔二氧化硅微球NLAB Saga® ,做了详细的介绍。5 月,Nanologica还将参加在美国举行的两个会议,TIDES 和 PREP2022,以及6月在慕尼黑举行的 Analytica。

氧化硅比量仪相关的方案

氧化硅比量仪相关的资料

氧化硅比量仪相关的试剂

氧化硅比量仪相关的论坛

  • 【分享】二氧化硅的测定

    二氧化硅量的测定 硅钼黄比色法1.方法提要试样以碳酸钠一过氧化钠熔融分解,然后在pH1. 5的盐酸介质中,硅与钼酸按生成可溶性硅钼杂多酸黄色络合物,与模仿色阶比较,借此测得二氧化硅的含量。主要化学反应方程式如下:SiO2+Na2CO3——NaSiO2+C02H4SiO4. 2H20+12HM004——H8〔Si(M o2O7)6〕+12H2O本方法适用于钨矿、钼矿、锡矿、铋矿等试样中二氧化硅量的测定。测定范围:0.1一10.00%.2.试剂无水碳酸钠。过氧化钠。盐酸(1+1)、(1+S)。酚酞(1%酒精溶液)。钼酸按(10%);.称取10。克钼酸按铵((NH4)6MO7O24.4H2O〕溶解于温水中,冷却后再用水稀释至1000毫升。铬酸钾溶液称取1:2600克予先在106一110℃干燥过的铬酸钾,溶解于0.5%硼酸溶液中,移入10。。毫升容量瓶中,再用同浓度的硼酸溶液稀释至刻度,摇匀。此溶液1毫升相当0':200毫克二氧化硅。3.分析步骤称取0.1000克试样(随试样做试剂空白),置于予先盛有1克无水碳酸钠的30毫升银坩埚中,摇散试样,加2克过氧化钠,置于800.℃马福炉中熔融至红色透明均匀状态①,取出,稍冷,置于予先盛有50毫升热水的250毫升塑料杯中浸取熔块,一用水洗净坩埚,冷却至室一温s移入10。毫升容量瓶中,以水稀释至刻度。再将试液倒回塑料杯中,摇匀。用慢速定量滤纸干过滤。移取5. 00 - 10-00毫升试液置于50毫升比色管中,加1滴1%酚酞指示剂,用盐酸(1+5)中和至红色消褪,,并过量6毫升②,加水至溶液约40毫升,加5毫升10%钥酸按溶液,再用水稀释至50毫升刻度,摇匀。20分钟后与二氧化硅标准在390nm下比色,测其二氧化硅量。二氧化硅模仿色阶配备:移取0.00,• 0.20,0.40,0.60,0.80,1.00,1.20,1.40,1.60,1.80,2.00,2. 20, 2. 40, 2. 60, 2. 80, 3. 00, 3. 20, 3.40, 3.60, 3.80, 4. 00, 4. 20, 4. 40, 4. 60,4.80.5.00毫升每毫升相当0.200毫克二氧化硅的铬酸钾溶液,分别置于一组50毫升比色管中,用水稀释至刻度,摇匀。二氧化硅的百分含量按下式计算:SiO2(%)= ×100式中:r—试液与模仿色阶比较测得的二氧化硅量(微克); r。—试剂空白与模仿色阶比较测得的二氧化硅量(微克); V—试液总体积(毫升); V1—分取试液体积(毫升); w—称样量(克)4.允许差含二氧化硅量(%)允许差(%)≤3.000.253.01~5.000.305.01~7.000.407.00~10.000.505.注意事项①过氧化钠不宜加得太多,熔融时间不宜太长,否则银坩埚容量溶穿。②此方法不能消除砷、磷对二氧化硅测定的干扰.一般不做试剂空白。③锡精矿试样,加水至溶液约35毫升,用盐酸(1十1)至锡酸刚好溶解完全,并过量0.5毫升,再加钼酸铵。因锡的存在对二氧化硅的测定有干扰,锡精矿试样中二氧化硅量的测定结果仅可供参考.

氧化硅比量仪相关的耗材

  • 一氧化硅(SiO)支持膜
    一氧化硅(SiO)支持膜一种是载网上附纯一氧化硅膜, 膜厚约15-30nm。销售信息:货号产品名称规格SF200-Cu200 mesh50/boxSF300-Cu300 mesh50/boxSF400-Cu400 mesh50/boxSF200-Ni200 mesh50/boxSF300-Ni300 mesh50/boxSF400-Ni400 mesh50/box 另一种是载网上先镀上方华膜,方华膜上再稳定一层极薄的一氧化硅膜,一氧化硅膜较碳膜具有更高的亲水性。FSF200-Cu200 mesh50/boxFSF300-Cu300 mesh50/boxFSF400-Cu400 mesh50/boxFSF200-Ni200 mesh50/boxFSF300-Ni300 mesh50/boxFSF400-Ni400 mesh50/box
  • 一氧化硅A型/可去除方华膜
    网另一面含可去除的方华膜衬底。用溶液溶去方华膜时,保留下来的为纯一氧化硅膜。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯一氧化硅膜较含方华膜衬底的支持膜更为精细,制样时须更细心
  • 一氧化硅A型可去除方华膜
    网另一面含可去除的方华膜衬底。用溶液溶去方华膜时,保留下来的为纯一氧化硅膜。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯一氧化硅膜较含方华膜衬底的支持膜更为精细,制样时须更细心
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