底高纯储谱仪

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底高纯储谱仪相关的厂商

  • 高普科学GASPU ,是专业于高纯气体发生器和气体纯化设备研发制造的高新技术企业。2001年在苏州留学人员创业园,由德国CarboTech与苏州高纯气体研究所(高普前身)合作创建了苏州高普超纯气体技术有限公司(CarboTech公司的前身为BergbauForschung公司,是PSA制氮工艺以及用PSA制氮工艺从混合气体中制造氮的碳分子筛的发明者)。 自2003年高普GASPU在苏州高新产业开发区投资建造了以生产PSA及膜分离制氮机、氮气、氢气发生及纯化设备的产业基地以来,公司在开发区已拥有10000平米标准化制氮机生产车间和2200平米的制氮机研发科技中心,总投资达3000万元。公司取得UKAS认证和中国船级社CCS认证。 高普科学为实验室和科研行业提供:PSA和膜分离氮气发生器、氢气发生器、零级空气发生器,以及氮气、氢气、氩气等各种气体纯化器。 我们的长期用户包含德国ATLAS、美国MaisonWorlyParsons,日本旭化成、日本德山化工、台湾foxconn富士康、摩托罗拉电子、中海油海上平台、中石油、英国BP天然气项目,、白俄明斯克天然气发电厂、伊拉克华事德电厂、孟加拉天燃气发电厂、2008年北京奥运会电力应急保障项目-太阳宫天然气发电厂选择了GASPU氮气系统。
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  • 400-860-5168转4780
    上海星可高纯溶剂有限公司(简称星可)成立于2005年,现位于上海化学工业区,为客户提供优秀品质的高纯溶剂产品和有机溶剂废液现场循环利用的技术服务。星可占地60亩,1.28万吨高纯溶剂产能,拥有多条生产线、中试线与灌装线,是亚洲重要的色谱溶剂生产基地。星可立足于自身技术创新团队,与华东理工大学、上海应用技术大学、上海化工研究院、同济大学等科研院所合作进行高纯溶剂的技术创新研发,于2015年被认定为高新技术企业,并通过了ISO9001、ISO14001管理体系认证。星可为客户提供LC-MS、梯度、色谱、农残、无水、制备级别的高纯溶剂产品,同时提供一站式有机溶剂废液现场循环利用的技术服务。客户涵盖国内外制药行业、科研分析检测机构、电子信息制造行业等领域,覆盖中国和海外市场。麦吉睿珀 (上海)生物科技有限公司 (简称麦吉睿珀) 是星可成立的一家子公司。麦吉睿珀推出的iMagiLab是一个致力于为客户提供优质色谱试剂及耗材的品牌。旗下集合高端的色谱试剂、色谱柱、针式过滤器等实验室产品,凭借优异的产品质量和全方位的技术服务,为实验室检验检测和医药研发等部门提供便捷的一站式采购平台。
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  • 400-860-5168转4265
    “苏州汇通色谱分离纯化有限公司”是一家以自主知识产权技术和产品为核心,具有独立研发能力的高技术企业,主要以药厂、生物制品企业、高纯度化学制品企业、质量鉴定单位、大学、科学研究机构和生物技术公司为目标客户,提供高效、高选择性制备色谱分离柱产品;高纯度产品色谱纯化工程设计以及高纯度产品纯化服务。与市场上现存公司相比,本公司拥有高科技(特殊设计)的专利分离介质,高纯度色谱纯化工程设计核心能力,已发展高通量、高选择性、高分离效率的模块式分离系列产品及配套的相应方法;公司除为企业提供高性能的色谱分离柱系统系列产品外,还可以直接为企业提供复杂样品体系的纯品,为企业“工程化”提供一条龙服务;既结合色谱分离专家的理论与实践,为客户发展复杂样品体系的分离、分析、纯化制备方法和有效的工具,同时为市场提供色谱纯度的试剂级产品。
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底高纯储谱仪相关的仪器

  • 【磐诺-高纯气体在线气相色谱仪】仪器采用吹扫阀技术、零死体积零泄漏技术、二维中心切割技术、高纯气体类分析专用色谱柱技术和脉冲氦离子化检测器(PDD)技术相结合进行高纯氦、高纯氢、高纯氮、高纯氩、高纯甲烷、高纯二氧化碳、高纯氧等在线检测。样品采集到定量环并置换干净后,切换进样阀,在载气的带动下样品进入色谱柱中分离并将主组分切割放空后依次进入PDD检测器检测得到。【仪器特点】(1)采用高纯气专用色谱柱技术,测量多种无机和有机杂质组分,符合国标要求;(2)仪器具有开机自检功能、断气保护功能、断电自动重启功能、自动标定功能和报警功能,保证系统安全和稳定性;(3)采用带吹扫保护的膜阀和零泄漏管道接头设计,系统漏率<1*10-8m3.pa.s-1;(4)PDD检测器具有专利技术和宽量程数字化输出,其中CH4检测限≤5ppb;(5)核心部件均使用国际知名品牌,可靠性高,使用寿命长。【应用领域】空分装置在线监测【技术参数】检测能力H2、Ar、O2、N2、CH4、CO、CO2、Kr、Xe等量程CH4(1ppb-1000ppm)检测器脉冲氦离子化检测器(PDD)检出限5ppb(CH4)重复性RSD≤3%分析周期10min功率电源<300W,220V AC/50Hz工作环境温度:(-10~50)℃,湿度:(10%~90%)RH气源要求载气:高纯氦(≥99.999%)?输出4-20mA、RS232/RS485、以太网尺寸19"标准机箱,5UA、测定成分测定组分检测气体H2Ar/O2N2CH4COCO2He是是是是是是H2否是是是是是O2是Ar是是是是Ar是否是是是是N2是是否是是是CO2是是是是是否Kr是是是是是是Xe是是是是是是B、测定范围测定成分测定范围H210ppb—100ppmAr/O210ppb—100ppmN215ppb—100ppmCH45ppb—100ppmCO25ppb—100ppmCO210ppb—100ppmKr10ppb—100ppmXe20ppb—100ppm
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  • 实验室低本底宽能高纯锗HPGE伽马γ能谱仪第一部分:高纯锗探测器 高锗探测器由于其无与伦比的优异分辨率,是核测量最精密和最先进的工具,在核物理 研究与核测量中具有不可替代的地位。 完整的高纯锗探测器的制造过程包括晶体制备、探测器结构设计、高性能低噪声前置放大 器设计、超高真空封装与生产成型、指标测试和稳定性考核等。经国家权威计量部门检定, 其关键 性能指标优异、稳定性良好。 高纯锗探测器的工作机理:高纯锗晶体的杂质浓度低至 1010 原子/cm3 量级,是世界上最纯 净的物质。高纯锗探测器表面 分别有 N+、P+电极,在该两种电极上加反向偏压后,由于高 纯锗晶体极低的杂质浓度,其内部将工作在全耗尽状态,此时伽马射线在其内部沉积能量产生 的载流子在电场的作用下被收集,形成的电流信号通过前置放大器被转换为与沉积能量成正比 的电压信号。 高纯锗探测器所采用的晶体外形为一圆柱体,在 其外表面为 N+电极,在其内部电极孔内部为 P+电极, 两种电极分别使用成熟的锂扩散、硼离子注入技术制 造。威视系列高性能 P 型同轴高纯锗探测器的 N+电 极约为 0.5mm 厚,P+电极约为 0.5μm 厚。 探测器的前置放大器可根据用户需求选用阻容反馈或脉冲反馈前放,性能优异,长期稳 定性好,除适配威视系列数字谱仪外,还可兼容市场上主流的谱仪产品。 威视系列高性能 P 型优化高纯锗探测器配置垂直冷指,并可根据用户需要配置“L 形”、 “U 形”、水平冷指等定制化设计,同时为用户在探测器封装与冷指材料上提供超低本底选项。为保证制冷效率,探测器舱室应保持严密的真空条件。P 型探测器的总体特性:能量响应范围:30keV 至 10MeV;相对探测效率 10% 至 80%; 可满足绝大部分样品测量应用和大部分研究测量应用的要求; 全面保证相对效率、分辨率、峰康比和峰形指标; 可配置普通阻抗反馈前放或适于高计数率的脉冲光反馈前放。 TKGEP-S 系列探测器型号与性能指标:型号晶体尺寸(mm)能量分辨率-FWHM(≤keV)峰形(≤)峰康比(≥)效率(≥)直径厚度@59.5keV@122keV@1.33MeVFW.1M/FWHMFW.02M/FWHMTKGEP-S1250300.700.801.81.92.73212%TKGEP-S3070300.700.851.81.92.74530%TKGEP-S4070400.750.901.852.02.84840%TKGEP-S5085300.850.951.852.03.05350%TKGEP-S6090300.901.01.902.03.05860%TKGEP-S7085500.951.11.952.03.06270%第二部分:谱仪(多道分析仪) 配套高纯锗探测器的一款新型数字化谱仪。其设计功能完善,其稳定性业已经实际使用验证。针对高效率探测器或高 计数率条件下对信号处理的要求,结合软件,谱仪在数字化极零调 节、死时间校正和弹道亏损校正方面做了具有相当先进性和独到 性的设计。 谱仪整体功能与特性:全数字化控制,保证人机交互灵活探测器回温情况下高压自动切断功能(shutdown)多种滤波模式,可根据特定环境配置滤波参数,具备低频噪声抑制功能具备门控数字化基线恢复,自动极零,零死时间校正,弹道亏损校正等完 整先进功能最大数据通过率大于 100kcps,对高计数率样品能获得准确的测量结果支持 USB3.0 接口谱仪特征功能: 基础参数显示:系统的电源开启状态,高压开启状态,高压目标值,高压升降过程 动态显示。全数字化自动高压加载:用户根据探测器参数选定高压后,系统自动按指定的速率 和目标值进行高压加载,直到满足探测器要求。异常处理功能:当系统意外掉电,设备自动启动 UPS 功能,并按异常处理逻辑,进 行高压缓降,以保护探测器安全。抑制电荷收集时间效应功能:基于 FPGA 的硬件算法,利用快通道梯形脉宽来统计 电荷收集的方法简单实用高效。 具体参数指标: 系统非线性:积分非线性:≤ 0.01%;微分非线性:≤±0.28最大通过率:成形时间设置为上升时间 500ns,平顶时间 500ns时,系统等效的死时间约为 2.79μs,此时,最大脉冲通过率将达到 130Kcps。粗调增益::由计算机选定为 1,2,4,8细调增益:由计算机设定为 0.45 至 1.00尺寸与重量:376D X 242W X 116 H mm, 2.2KG工作条件:0 C 到 50 C(包括 LCD 显示)。操作系统:Windows 7/ Windows10。显示/接口:320 240 像素(pixel) 有机发光半导体(OLCD)系统状态信息。220V市电接入端子,USB3.0接口。高压输出接口,探测器电源接口,探测器信号输入端子。第三部分:液氮回凝制冷器 采用低振动长寿命脉冲管制冷机,运行寿命长于 10 年; 25L 液氮容器,不断电条件下可连续工作两年以上; 对探测器分辨率无影响; 可匹配垂直、水平与弯头型冷指; 液晶显示屏实时显示液氮水平、制冷机运行状态等信息; 可选购基于无线技术的遥控器,远程控制制冷系统或显示运行状态; 配有自动式液氮填充接口,可自动加注液氮; 在制冷维系时长为 48 小时前发出提示与报警; 外形尺寸:64.5cm 高 x 45.6cm 直径(不含探测器); 功耗:运行时小于 150W,启动时最大 250W; 工作环境:0 - 35℃,相对湿度 20%至 80%(无冷凝); 噪声:1m 处小于 60 分贝。第四部分:伽马谱软件包 研制开发一套完整的实验室高纯锗伽马谱仪,除了高纯锗探测器这一核心部件之外,还需要在与其配套的制冷器、谱仪和分析软件上下足十分的功夫。 历经十年的反复磋磨与雕琢,目前这款即将商品化的TKGammaWiz软件包已具备完整而 强大的功能。 它是一个完整的软件包,只需一次安装,用户即可实现如下功能: 系统的参数设置与硬件控制,包括增益细调、启动数字化稳谱、调节高压、显示实 时间/活时间和脉冲宽度、 系统的能量与效率刻度。初始化安装时,软件会提示用户进行参数设置与能量/效 率刻度。 能谱获取与显示。具有多路谱图同步获取功能。 谱分析与活度计算。多种寻峰方法与峰面积计算方法、多种本底算法、完善的各种校正功能,以期得到最小的不确定度。 分析结果报告与质量保证。完整的数据报告会给出每一次测量的条件与结果,以保 证随时可以回溯。 它具有如下鲜明的个性化功用与特点: 设计有可切换的操作员(operator)与专家(expert)两种使用权限,以保证系统 与数据安全可靠。 独特的能谱采集回放功能。设计用于当数据超出设置的限值、或不确定度较高时, 从源头上予以确认或诊断。 对具备”批处理”条件的样品,可定制流程化的“一键分析”。 具体参数与特性: 刻度:支持能量、峰形、效率刻度,可人工刻度,也可载入存储的数据文件。效率曲线可 载入自主研发的无源效率刻度软件产生的效率刻度文件,并支持三种拟合方法:单一函数多 项式拟合、插值法、带“拐点”(Knee)的多项式拟合。 寻峰:支持 Mariscotti 法寻峰,可自动或手动完成寻峰。 本底确定方法:自动确定法、SNIP剥谱法、峰侵蚀法等。软件会自动选定最佳方法。 分析用核素库: 软件包含默认的 2000 个核素的衰变纲图与相应的伽马射线能量数据, 用 户可在此基础上进一步编辑并生成自己的自定义子库。软件核素库支持对核素名称、质量、 能量的查询,和对母子核的编辑。 核素识别的方法: 软件默认使用基于库寻峰的核素识别方法,具体执行程序如下: 使用广义二阶差分方法初步寻峰,根据寻峰结果对核素库进行筛选。用峰侵蚀方法分析全谱本底,扣除本底后,在库峰位所在能量点用最小二乘法进行峰拟合作为寻峰结果。 分析后的首选核素将会直接标注在谱上,方便查看。 谱分析中的校正:母子核衰变校正;样品集与谱获取期间的衰变校正。 MDA 计算:Currie 算法,后续可扩展 ORTEC MDA 等 18 种算法。分析结果报告:报告主要包括能谱信息、刻度、分析设置、分析峰、分析核素几个部分内容,支持 pdf、rpt、doc 三种格式。 界面:默认 office 风格,可自行切换。一图展示能谱、寻峰、核素识别结果等内容,并 可根据指定核素计算显示其余能量峰的高度。适应的操作系统:Windows7/810 32/64 位操作系统。第五部分:实验室无源效率刻度软件 蒙特卡罗程序包:基于 Geant4 软件程序包,能够准确模拟光子与物质相作用的整个过程。 探测器类型:支持同轴型、面型、井型三种类型探测器。 能量范围:10keV-7000keV; 刻度角度:支持任意角度刻度。探测效率:支持真实物理级别的级联符合校正,通过自研能量沉积算法获取探测效率。 常见容器库:内置 9 种常见的容器库,支持圆柱、圆盘、烧杯、马林杯、U 型杯、盒子、球 型、点源、横向圆柱等对称型样品模型。 材料库工具:内置 40 余种常见材料,允许用户自定义材料。 3D 视觉及几何校验:提供快速 3D 视觉及更精细的几何模型定义,提供完整的几何模型校验。 输入参数敏感性分析:提供输入参数敏感性分析工具,方便用户定位影响效率刻度的参数项。 自表征校正工具:允许用户自主完成探测器表征,无需返厂,确保刻度的准确性。 效率刻度拟合公式:允许用户通过拟合公式计算不同能量对应的探测效率。 刻度结果报表:支持完整刻度结果数据的报表预览及打印。 适应的操作系统:Windows7/8/10 64 位操作系统。第六部分:铅室1.标准铅室 TKLBS-G2 是一款顶开门压杆式低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环 境本底对探测过程的干扰,提高测量的准确性。具体参数: 外层材料:1cm 低碳钢;中层材料:10cm 低本底铅 4π 方向屏蔽;内层材料:3 mm 无氧铜;结构:压杆式顶部平移开门设计; 承重桌材料:低碳钢;占地面积:65cm x 65cm;内腔尺寸:Φ310mm x 409mm;重量:大于 1.1 吨; 铅室说明:分三个型号,TKLBS-G1,TKLBS-G2,和TKLBS-U,TKLBS为low background shelid低本底屏蔽的缩写,G1代表Grad1等级1,使用铅材料厚度为10cm,本底保 证<3.0cps,常规值<2.8cps;G2代表Grad1等级2,使用铅材料厚度为15cm,本 底保证<2.0cps,常规值<1.6cps;U代表Ultra超级,使用铅材料厚度为15cm, 同时使用液氮挥发气体赶走铅室内腔空气,使之降低空气中氡的影响,本底保证<1.0cps。按照约定俗称,以上本底均针对40%效率高纯锗探测器。2.超低本底铅室 TKULBS-G 是一款顶开门压杆式超低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环境本底 对探测过程的干扰,提高测量的准确性。本底指标:本底指标:在正常放射性环境下 50keV 至 3MeV 范围内保证值小于 1.2cps(40%效率), 典型值约 1cps 左右。具体参数: 高度 682.1 mm (26.9 in.); 直径 558.8 mm (22.0 in.); 内腔: 直径 228.6 mm (9 in.); 深度:355.6 mm (14 in.);最外层:9.5 mm (3/8 in.) 厚的低碳钢; 屏蔽层: 152 mm (6 in.)厚的低本底铅; 内衬:1 mm 厚的锡与 1.5mm 厚的无氧铜 重量: 1625 Kg 喷漆: 浅灰色环氧漆 桌子高度:68.5-765 .5cm 高度可调可选超低本底内衬:2.5cm 厚的 25Bq/kg 的超低本底铅。
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  • 高纯锗γ能谱仪 400-860-5168转3524
    高纯锗γ伽马能谱仪第一部分:高纯锗探测器 高锗探测器由于其无与伦比的优异分辨率,是核测量最精密和最先进的工具,在核物理 研究与核测量中具有不可替代的地位。 完整的高纯锗探测器的制造过程包括晶体制备、探测器结构设计、高性能低噪声前置放大 器设计、超高真空封装与生产成型、指标测试和稳定性考核等。经国家权威计量部门检定, 其关键 性能指标优异、稳定性良好。 高纯锗探测器的工作机理:高纯锗晶体的杂质浓度低至 1010 原子/cm3 量级,是世界上最纯 净的物质。高纯锗探测器表面 分别有 N+、P+电极,在该两种电极上加反向偏压后,由于高 纯锗晶体极低的杂质浓度,其内部将工作在全耗尽状态,此时伽马射线在其内部沉积能量产生 的载流子在电场的作用下被收集,形成的电流信号通过前置放大器被转换为与沉积能量成正比 的电压信号。 高纯锗探测器所采用的晶体外形为一圆柱体,在 其外表面为 N+电极,在其内部电极孔内部为 P+电极, 两种电极分别使用成熟的锂扩散、硼离子注入技术制 造。威视系列高性能 P 型同轴高纯锗探测器的 N+电 极约为 0.5mm 厚,P+电极约为 0.5μm 厚。 探测器的前置放大器可根据用户需求选用阻容反馈或脉冲反馈前放,性能优异,长期稳 定性好,除适配威视系列数字谱仪外,还可兼容市场上主流的谱仪产品。 威视系列高性能 P 型优化高纯锗探测器配置垂直冷指,并可根据用户需要配置“L 形”、 “U 形”、水平冷指等定制化设计,同时为用户在探测器封装与冷指材料上提供超低本底选项。为保证制冷效率,探测器舱室应保持严密的真空条件。P 型探测器的总体特性:能量响应范围:30keV 至 10MeV;相对探测效率 10% 至 80%; 可满足绝大部分样品测量应用和大部分研究测量应用的要求; 全面保证相对效率、分辨率、峰康比和峰形指标; 可配置普通阻抗反馈前放或适于高计数率的脉冲光反馈前放。 TKGEP-S 系列探测器型号与性能指标:型号晶体尺寸(mm)能量分辨率-FWHM(≤keV)峰形(≤)峰康比(≥)效率(≥)直径厚度@59.5keV@122keV@1.33MeVFW.1M/FWHMFW.02M/FWHMTKGEP-S1250300.700.801.81.92.73212%TKGEP-S3070300.700.851.81.92.74530%TKGEP-S4070400.750.901.852.02.84840%TKGEP-S5085300.850.951.852.03.05350%TKGEP-S6090300.901.01.902.03.05860%TKGEP-S7085500.951.11.952.03.06270%第二部分:谱仪(多道分析仪) 配套高纯锗探测器的一款新型数字化谱仪。其设计功能完善,其稳定性业已经实际使用验证。针对高效率探测器或高 计数率条件下对信号处理的要求,结合软件,谱仪在数字化极零调 节、死时间校正和弹道亏损校正方面做了具有相当先进性和独到 性的设计。 谱仪整体功能与特性:全数字化控制,保证人机交互灵活探测器回温情况下高压自动切断功能(shutdown)多种滤波模式,可根据特定环境配置滤波参数,具备低频噪声抑制功能具备门控数字化基线恢复,自动极零,零死时间校正,弹道亏损校正等完 整先进功能最大数据通过率大于 100kcps,对高计数率样品能获得准确的测量结果支持 USB3.0 接口谱仪特征功能: 基础参数显示:系统的电源开启状态,高压开启状态,高压目标值,高压升降过程 动态显示。全数字化自动高压加载:用户根据探测器参数选定高压后,系统自动按指定的速率 和目标值进行高压加载,直到满足探测器要求。异常处理功能:当系统意外掉电,设备自动启动 UPS 功能,并按异常处理逻辑,进 行高压缓降,以保护探测器安全。抑制电荷收集时间效应功能:基于 FPGA 的硬件算法,利用快通道梯形脉宽来统计 电荷收集的方法简单实用高效。 具体参数指标: 系统非线性:积分非线性:≤ 0.01%;微分非线性:≤±0.28最大通过率:成形时间设置为上升时间 500ns,平顶时间 500ns时,系统等效的死时间约为 2.79μs,此时,最大脉冲通过率将达到 130Kcps。粗调增益::由计算机选定为 1,2,4,8细调增益:由计算机设定为 0.45 至 1.00尺寸与重量:376D X 242W X 116 H mm, 2.2KG工作条件:0 C 到 50 C(包括 LCD 显示)。操作系统:Windows 7/ Windows10。显示/接口:320 240 像素(pixel) 有机发光半导体(OLCD)系统状态信息。220V市电接入端子,USB3.0接口。高压输出接口,探测器电源接口,探测器信号输入端子。第三部分:液氮回凝制冷器 采用低振动长寿命脉冲管制冷机,运行寿命长于 10 年; 25L 液氮容器,不断电条件下可连续工作两年以上; 对探测器分辨率无影响; 可匹配垂直、水平与弯头型冷指; 液晶显示屏实时显示液氮水平、制冷机运行状态等信息; 可选购基于无线技术的遥控器,远程控制制冷系统或显示运行状态; 配有自动式液氮填充接口,可自动加注液氮; 在制冷维系时长为 48 小时前发出提示与报警; 外形尺寸:64.5cm 高 x 45.6cm 直径(不含探测器); 功耗:运行时小于 150W,启动时最大 250W; 工作环境:0 - 35℃,相对湿度 20%至 80%(无冷凝); 噪声:1m 处小于 60 分贝。第四部分:伽马谱软件包 研制开发一套完整的实验室高纯锗伽马谱仪,除了高纯锗探测器这一核心部件之外,还需要在与其配套的制冷器、谱仪和分析软件上下足十分的功夫。 历经十年的反复磋磨与雕琢,目前这款即将商品化的TKGammaWiz软件包已具备完整而 强大的功能。 它是一个完整的软件包,只需一次安装,用户即可实现如下功能: 系统的参数设置与硬件控制,包括增益细调、启动数字化稳谱、调节高压、显示实 时间/活时间和脉冲宽度、 系统的能量与效率刻度。初始化安装时,软件会提示用户进行参数设置与能量/效 率刻度。 能谱获取与显示。具有多路谱图同步获取功能。 谱分析与活度计算。多种寻峰方法与峰面积计算方法、多种本底算法、完善的各种校正功能,以期得到最小的不确定度。 分析结果报告与质量保证。完整的数据报告会给出每一次测量的条件与结果,以保 证随时可以回溯。 它具有如下鲜明的个性化功用与特点: 设计有可切换的操作员(operator)与专家(expert)两种使用权限,以保证系统 与数据安全可靠。 独特的能谱采集回放功能。设计用于当数据超出设置的限值、或不确定度较高时, 从源头上予以确认或诊断。 对具备”批处理”条件的样品,可定制流程化的“一键分析”。 具体参数与特性: 刻度:支持能量、峰形、效率刻度,可人工刻度,也可载入存储的数据文件。效率曲线可 载入自主研发的无源效率刻度软件产生的效率刻度文件,并支持三种拟合方法:单一函数多 项式拟合、插值法、带“拐点”(Knee)的多项式拟合。 寻峰:支持 Mariscotti 法寻峰,可自动或手动完成寻峰。 本底确定方法:自动确定法、SNIP剥谱法、峰侵蚀法等。软件会自动选定最佳方法。 分析用核素库: 软件包含默认的 2000 个核素的衰变纲图与相应的伽马射线能量数据, 用 户可在此基础上进一步编辑并生成自己的自定义子库。软件核素库支持对核素名称、质量、 能量的查询,和对母子核的编辑。 核素识别的方法: 软件默认使用基于库寻峰的核素识别方法,具体执行程序如下: 使用广义二阶差分方法初步寻峰,根据寻峰结果对核素库进行筛选。用峰侵蚀方法分析全谱本底,扣除本底后,在库峰位所在能量点用最小二乘法进行峰拟合作为寻峰结果。 分析后的首选核素将会直接标注在谱上,方便查看。 谱分析中的校正:母子核衰变校正;样品集与谱获取期间的衰变校正。 MDA 计算:Currie 算法,后续可扩展 ORTEC MDA 等 18 种算法。分析结果报告:报告主要包括能谱信息、刻度、分析设置、分析峰、分析核素几个部分内容,支持 pdf、rpt、doc 三种格式。 界面:默认 office 风格,可自行切换。一图展示能谱、寻峰、核素识别结果等内容,并 可根据指定核素计算显示其余能量峰的高度。适应的操作系统:Windows7/810 32/64 位操作系统。第五部分:实验室无源效率刻度软件 蒙特卡罗程序包:基于 Geant4 软件程序包,能够准确模拟光子与物质相作用的整个过程。 探测器类型:支持同轴型、面型、井型三种类型探测器。 能量范围:10keV-7000keV; 刻度角度:支持任意角度刻度。探测效率:支持真实物理级别的级联符合校正,通过自研能量沉积算法获取探测效率。 常见容器库:内置 9 种常见的容器库,支持圆柱、圆盘、烧杯、马林杯、U 型杯、盒子、球 型、点源、横向圆柱等对称型样品模型。 材料库工具:内置 40 余种常见材料,允许用户自定义材料。 3D 视觉及几何校验:提供快速 3D 视觉及更精细的几何模型定义,提供完整的几何模型校验。 输入参数敏感性分析:提供输入参数敏感性分析工具,方便用户定位影响效率刻度的参数项。 自表征校正工具:允许用户自主完成探测器表征,无需返厂,确保刻度的准确性。 效率刻度拟合公式:允许用户通过拟合公式计算不同能量对应的探测效率。 刻度结果报表:支持完整刻度结果数据的报表预览及打印。 适应的操作系统:Windows7/8/10 64 位操作系统。第六部分:铅室1.标准铅室 TKLBS-G2 是一款顶开门压杆式低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环 境本底对探测过程的干扰,提高测量的准确性。具体参数: 外层材料:1cm 低碳钢;中层材料:10cm 低本底铅 4π 方向屏蔽;内层材料:3 mm 无氧铜;结构:压杆式顶部平移开门设计; 承重桌材料:低碳钢;占地面积:65cm x 65cm;内腔尺寸:Φ310mm x 409mm;重量:大于 1.1 吨; 铅室说明:分三个型号,TKLBS-G1,TKLBS-G2,和TKLBS-U,TKLBS为low background shelid低本底屏蔽的缩写,G1代表Grad1等级1,使用铅材料厚度为10cm,本底保 证<3.0cps,常规值<2.8cps;G2代表Grad1等级2,使用铅材料厚度为15cm,本 底保证<2.0cps,常规值<1.6cps;U代表Ultra超级,使用铅材料厚度为15cm, 同时使用液氮挥发气体赶走铅室内腔空气,使之降低空气中氡的影响,本底保证<1.0cps。按照约定俗称,以上本底均针对40%效率高纯锗探测器。2.超低本底铅室 TKULBS-G 是一款顶开门压杆式超低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环境本底 对探测过程的干扰,提高测量的准确性。本底指标:本底指标:在正常放射性环境下 50keV 至 3MeV 范围内保证值小于 1.2cps(40%效率), 典型值约 1cps 左右。具体参数: 高度 682.1 mm (26.9 in.); 直径 558.8 mm (22.0 in.); 内腔: 直径 228.6 mm (9 in.); 深度:355.6 mm (14 in.);最外层:9.5 mm (3/8 in.) 厚的低碳钢; 屏蔽层: 152 mm (6 in.)厚的低本底铅; 内衬:1 mm 厚的锡与 1.5mm 厚的无氧铜 重量: 1625 Kg 喷漆: 浅灰色环氧漆 桌子高度:68.5-765 .5cm 高度可调可选超低本底内衬:2.5cm 厚的 25Bq/kg 的超低本底铅。
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  • 【转载】Prodigy直流电弧光谱仪在高纯铜痕量元素检测中的应用研究

    光谱仪采用最新的大面积程序化L-PAD检测器.147(2)4-611-1310-90Se203。电弧激发台所带的斯托伍德气室可采用各种质子流量计控制的气体来降低CN键所造成的干扰,未采用斯托伍德气室。940nm处校准曲线,另外还可能在消解过程中带入污染,具有6个数量级以上的动态范围Prodigy直流电弧采用了固态的。772(2)4-611-1310-90Fe259,元素浓度如表2所示。068nm处的波长采集窗口图1所示为标样中1ppm的Ag在328,激发源所采用的微处理器可自动控制激发电流和持续时间。最早的一些依靠照相版检测技术的仪器甚至沿用至今,980nm处的校准曲线,Te。时序分析等功能,如果采用直流电弧技术,984(2)1-312-1410-90Bi306。020,因为固态检测器技术具有更快的分析能力,因此可同时作为两组元素的内标元素,020,同时。0Zn0,样品电极和上电极的的直径分别为1/4"和1/8",Sb。图4Fe在259。分析参数样品电极和上电极可直接从BayCarbon公司购买。直流电弧光谱技术在众多固体材料的检测中具有许多其他技术难以企及的优势.10.我们归入第一组元素。而对于后烧蚀出的元素我们归入第二组,Ni。需要较长的时间,对于所有样品的分析均采用铜为内标元素,仪器采用800mm焦距光学系统和百万像素大面积程序化固态检测器(L-PAD),010.050.并且可以永久地记录样品的全谱信息.同时由于没有经过溶液稀释.并且在整个激发过程中随着电极及样品的消耗需要不断调整.表3ElementWavelength(nm)LeftBackgroundPositionRightBackgroundPositionIntegrationPeriod(s)Ag328.分析波峰的缺省位值为7.050.772nm和Se在203.281(2)610-1210-90Zn481.所有的分析元素均被分成了两组.但信息的处理同样是繁琐和令人望而生畏的.其后.图5和图6分别为Bi在306.10.As.则可以实现纯铜固体样品的直接分析.所有的样品在空气中激发.从而可以获得更好的检出限.并在电弧激发的前10秒进行积分.61.对于第二组元素.940nm处的校准曲线.对于先烧蚀出的元素.确保仪器具有最佳的稳定性.单元素多谱线可选.是现有同类仪器中检测器面积最大的.这些优点使得Prodigy波长范围达到175-1100nm的连续覆盖.在单次激发过程中可采用多种不同气体.光电倍增管技术同样存在缺陷.03.通过这些扫描图.10,本文主要探讨了Prodigy直流电弧光谱仪对于高纯铜中痕量元素的分析能力,其中,Sn,51,一旦电弧形成,该检测器有效面积为28×28mm,在电弧激发的后80秒进行积分,可为不同元素选择最佳积分时间以获取最大的信噪比。860(2)3-413-1510-90纯铜中各元素的典型校准曲线如图4-6所示,除此之外。检测器还具有防溢出功能并且可以进行随机读取和非破坏性数据读取。无需样品消解过程,激发过程的电流控制程序如表1所列表1StepTime(s)103223341149011实验部分校准标样高纯铜从CopperSpec公司购买并直接使用。高纯铜中痕量元素检测如果采用常规消解方法来分析的话无疑具有很大的挑战性,图250ppm的Fe、Ni标样的时序分析扫描图图350ppm的Bi、Pb、Sn、Zn标样的时序分析扫描图如表3所示,而基体元素铜则在整个分析过程均匀激发,018,分析波峰的位值位于像素阵列的中央。纯铜电弧激发技术特点直流电弧技术主要利用了分析物中不同组分的挥发特性而依次将感兴趣的组分烧蚀出来进行分析,根据扫描图谱,我们对一块50ppm含量的校准标样进行了时序分析扫描。从而极大提高的样品分析的速度,053(2)4-611-1310-90Cu310。宽度为3,首先消解过程非常复杂,980(2)3-510-1210-90Sn283。03,不同元素或组分的挥发特性可通过时序分析功能所获取的扫描图来进行判断,305(2)5-611-1310-90Sb231,并相应设置了不同的积分时间,010。020,实验仪器本文采用Prodigy直流电弧光谱仪作为实验设备,Bi。从而极大地减少了电极的消耗和样品分析时间,06,010。8601-313-150-10Cu310。两个电极间的间距为4mm,51,0Pb0。068(2)3-51310-90As234。这些仪器永久地记录了样品的谱图照片,图11ppm的Ag在328。Prodigy对于高纯铜中的各种杂质元素具有极佳的分析灵敏度及准确度,068nm处的波长采集窗口,0823-511-130-10Pb283,表2ElementStd1(ppm)Std2(ppm)Std3(ppm)Std4(ppm)Std5Ag。其中图4所示为Fe在259,更为重要的是,稀释过程使得部分元素的含量远低于仪器的检出限。并且每种气体单独控制,对于所有分析元素的波长选择及背景校正点已在表3中列出,我们将分析元素归类为两种不同的积分时间。以维持4mm的间距。烧蚀出的元素在电弧中继续激发并发射出特征谱线,9405-611-130-10Ni305,仪器在一次激发过程中可同时进行信号采集和背景校正,83,10。同时还具有实时背景校正,04,810。并且提高样品激发速率,Prodigy采用一个3×15的像素阵列读取,050,03。05,在消解过程中,固态检测器阵列的引入极大地冲击了传统的基于PMT检测器的直流电弧光谱系统。电流稳定的激发源,51。斯托伍德气室的气体流量同样通过微处理器来控制。

  • 【共享】气相色谱仪在纯气与高纯气分析中的应用

    超纯气、高纯气的分析测试是痕量分析学科的一个分支。它是研究气体纯度分析与其中痕量杂质测定的一门范围较窄但具有现实意义的专业学科。随着我国经济的高速发展,对高纯气不仅在数量上、质量上、种类上都不断提出新的要求,而且对相应的国家标准、检测理论、方法与检测仪器的研究、研制与生产都提出了更高的要求。先进的检测仪器不仅能指导生产工艺的控制与改革,还能确保产品质量、避免生产厂家与使用单位的纠纷。 “超纯气体”一词是在1964年全国超纯气体测试年会上定义的,即凡气体纯度达5个“9”( 99.999%)以上,总杂质为10x10-6V/V(即10ppm)以下的气体皆属“超纯气体范畴。但五十年的发展已经改变了这一定义;已经把5个“9”气体称为高纯气,而称6个“9”以上纯度气体才为超纯气。纯度大于99%以上的气体纯度分析都采用扣除杂质的差减法计算,因而气体纯度分析实际是对气体中微量或痕量的杂质气体检测。因其检测方法很多,本文不全面论述,仅对[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱仪[/url]检测杂质气体的现状作一小结,并对某些概念上的认识提出看法。水分也是一种杂质气体,而且是极为特殊的、又无处不在的气体杂质,因检测手段特殊,本文也不予论述。 一、 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]分析纯气的现状 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]分析纯气中杂质因其具有各种优越性而不可替代。如同时可检测多个组分,分析时间短,操作简便,分析技术灵活多变,价格低,能自动化检测与计算机控制等优点,因而其产品受到广大用户的欢迎。例如我公司的“氩气纯度分析仪” 、“液氧中痕量总烃分析仪”等产品投入市场后得到用户的肯定和青睐,替代进口并供不应求。在纯气分析方面的国家标准已有一定数量上已经采用了[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]法。但现状仍与国际上有较大的差距。 1、技术研究与创新方面 从发表论文上看,在上世纪八十—九十年代国内出现过研究分析痕量杂质气体的繁荣时代。但近十年来新的检测方法、技术与仪器、检测器研究进展缓慢、创新乏力、论文发表数量减少,无长期统一规划和稳定的投入,专业研究与分析队伍不断壮大,同时又有待素质提高。至今还无一本“高纯气体分析技术”的专著问世。2、“国家标准”反应技术落后 总体看有关高纯气的“国家标准”中,其中分析方法与国际水平比较明显落后,仪器化水平低,其中有一部分才能与之水平相近。还有些“标准”仍采用比色法为主,检测方法不能仪器化。例如在“医用氧标准”(GB8982—1998)中反应出的问题最为集中。在标准的“技术指标”中除氧含量指标(≥99.5%)外,杂质含量无任何数据,都是“按规定方法试验合格”。而所有的规定方法都是化学吸收法或比色法。分析结果只有“合格”与“不合格”,无数据记录。这对指导厂家生产是不利的。至今多数厂家不具备全面按“规定”抽检的技术与条件。使用单位(医院与相关研究单位)更难投入组建分析人员与条件。有的厂家只是向科研单位送检一次、检验合格后再不对该项检测。 二、 检测器与检测技术 1、 检测器目前用于纯气中杂质气体分析的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]检测器有如下几种。⑴热传导池检测器(TCD) 该检测器的最好指标可以达到ppm级检测。与变温浓缩法配合可以检测到ppb级,例如高纯氢气,超纯氢的检测可以测到0.1ppb(0.1x10-9V/V)级。[4、6、12、20] ⑵气敏检测器 在检测高纯氮气的国家标准(GB/T8980—1996)中用此检测器可以检测到此0.1ppm杂质氢气。⑶氢火焰离子化检测器(FID) 国家标准(GB/T8984.1—3—1997)气体中一氧化碳、二氧化碳和碳烃化合物的测定是利用火焰离子化法转化后,直接测定,可检测最小浓度0.1ppm。配合变温浓缩可测到1 ppb。⑷改性离子检测器(M—ArID)[10,14] 将氩离子化检测器改性后可以检测高纯氩中的氢、氧、氮、甲烷、一氧化碳和二氧化碳杂质气,最小检测浓度可到0.1ppm。⑸氦离子化检测器(HeID)[3,16] 该检测器大多使用检测高纯氦气中杂质气体,直接检测可到1ppb [3,16] 。也有与切换技术配合检测其它高纯气中杂质气[15]。⑹电子捕获检测器(ECD) 该检测器可以检测高纯氮气、氩气、一氧化碳等气中的痕量氧(ppb级)。另外还有氧化锆检测器[17]、离子迁移检测器等。2、检测技术 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]法分析气体杂质采用的检测技术有变温浓缩法、柱中转化法、柱切换法和流程变化法等。 ⑴变温浓缩法 变温吸附浓缩法是将一定量的样品气中杂质气低温吸附在样管中吸附剂上,解冻加热进样的方法。因而实际进样量大大大于样管体积(102~104倍),杂质气就从ppb级变成ppm级分析[1,4]。用此法要求底气不被冷冻、吸附或沸点高于杂质气,如用于浓缩氢中杂质、氧中的烃类等。附变温吸附浓缩法外,还有化学反应浓缩法与特殊浓缩法,它们使用在特种气体的检测。⑵柱中转化法 柱中转化法是样品进样后、在色谱分离柱前或后,经过一个催化剂或化学反应管(可以控制一定温度)。其中某杂质气参加反应,变成另一种气体被检测。如一氧化碳与二氧化碳在火焰离子化检测器上无响应,但经镍催化剂(有氢气参加)后变成甲烷气就响应了,并能检测到0.1ppm。与浓缩配合可检测到ppb。[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]分析微量水时也采用此法。微量水与柱中碳化钙(Ca2C)反应生成乙炔,用火焰离子化检测能到小于1ppm的水分。 ⑶柱切换法[2,7] 该法又称多维色谱法。它是利有阀或“无阀”切换将主成分(底气)大部分切去后,余下杂质气体再经二次分离后检测[2]。如采用高灵敏度的氦离子化检测器检测氧中杂质,氢气和氖气中杂质气 [15] 。⑷流程变化法 利用色谱柱的串联、并联达到分离杂质气,也能与上述三种方法联合使用达到分离检测多种杂质气的目的。检测器也能串联、并联使用,但需满足串并的检测器都使用同一种载气。以上技术大都对常规气体的检测,而对更多的特种高纯气应采用特殊的技术 [21—28] 。

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