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底高纯错谱仪
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底高纯错谱仪相关的方案
AGC DID氦离子气相色谱分析仪在 He、Ne 提纯工艺中的应用高纯氖分析、高纯氦分析、氖中氦分析
随着社会的发展,特种气体不再是只局限于科研单位的研究对象,而是逐渐走向民用化、产业化,人们对特种气体的需求量也越来越大。而高纯的氦气、氖气作为特种气体中少有的几种惰性气体,不仅科研价值极高,而且应用的领域也越来越广泛。涉及到诸如电子、点光源、激光、超导、光导纤维、低温、等离子体显示器、航天及医疗等诸多领域。在氦气和氖气的提纯工艺中,需要使用到多台仪器设备来对主要的监测点进行监测,然后根据结果适时地调整工艺参数,最终生产出优质的高纯氦气和氖气。在氦气和氖气提纯时,在四个主要的监测点上选用了多台色谱分析仪来完成此项工作,此套设备中所采用的分析仪器均来自于爱尔兰AGC公司。1、粗He/Ne除氮后的N2含量分析2、粗He/Ne除氮系统后的He/Ne/H2/N2含量的分析 3、产品He的纯度分析4、产品Ne的纯度分析,包括氖中氦分析
Prodigy DC Arc直流电弧光谱仪测定高纯铂铑
高纯铂/铑标准品和样品可用Prodigy DC Arc光谱仪检测。所有样品均分析Ag, Al, As, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ir, Mg, Mn, Mo, Ni, Pb, Pd, Ru, Sb, Se, Si, Sn, Te, Ti, V, Zn 和Zr等元素。除非特殊情况,结果均以PPM为单位报告。
AGC 600DID氦离子气相色谱仪负压进样高纯砷烷、磷烷分析
本文主要介绍配置DID氦离子化检测器、样品管道采取负压方式进样分析磷烷的原理及方法,一次进样同时检测出高纯磷烷中的微量杂质H2、O2+Ar、N2、CH4、CO、CO2、SiH4、AsH3。并验证方法的可行性。
利曼Prodigy直流电弧光谱仪 (DC Arc) 测定高纯硅中的痕量元素
本文检测样品中的铝、硼、钙、铬、铜、铁、锰、镍、磷、钛和钒等,证明Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪测定高纯硅中痕量元素的能力。
含铜高纯净钢时效过程中铜偏聚区的演变
利用高分辨透射电镜研究了含铜高纯净钢时效过程中铜偏聚区的形貌与结构变化,在此基础上分析了含铜钢的时效强化机制。结果表明,含铜钢固溶态与时效初期铁素体基体存在铜原子偏聚区,随时效时间延长,在时效硬度峰处铜偏聚区演变为富铜的亚稳Fe-Cu颗粒,该富铜析出相与基体呈半共格关系,其周围与内部存在的高密度位错与层错构成位错运动的阻碍,这可能是导致含铜钢时效强化的主要原因。
手持激光诱导光谱仪在高纯铝检测方面的应用
星帆仪器专为高纯铝检测应用定制了特殊的手持激光诱导击穿光谱仪,采用高功率的微型化纳秒激光技术及化学计量学中先进的光谱去噪算法,可以对高纯铝中的微量元素进行精确定量分析,从而可以对高纯铝的纯度做出判别。
ARTUS 10全谱直读光谱仪在高纯金属检测中的应用
阿朗科技ARTUS 10全谱直读光谱仪作为精密尖端的检测设备,在高纯金属分析方面,有着超常的优势。它以超简的前处理要求、稳定的检测性能,超低的检出限、快速的分析速度,解决了各类传统高纯金属检测设备的应用痛点
带有脉冲放电氦离子检测器(PDD)的气相色谱仪在高纯氨气分析中的应用
介绍带有脉冲放电氦离子检测器的气相色谱仪检测高纯气体中的痕量杂质,并通过具体实例对高纯气体中杂质的定量分析时可能遇到的问题进行讨论。关键词 脉冲放电氦离子 高纯氨 痕量杂质 定量分析
谱育科技SUPEC 7000测定高纯钽中6种元素
SUPEC 7000测定高纯钽中6种金属元素含量,通过方法检出限、加标回收率、精密度验证仪器性能;实验结果表明:元素检出限在0.002~0.353 ?g/Kg之间,方法精密度(n=5)2.54%~6.77%之间,加标回收率91.6%~106.5%之间;该方法检出限低、重现性好、准确度高,满足高纯钽检测需求。
准确快速测定高纯氮气中的杂质含量
摘要: 简介了基于中心切割和脱氧法的HE50 型DID 氦离子化放电色谱仪的工作原理和工作条件等参数。武钢氧气公司从实际生产出发, 对色谱仪的气路流程进行了改进, 经过分析试验,建立了一套完整的分析方法。对高纯氮气中杂质含量的测量结果显示, 该分析方法可以满足生产需要, 从而达到准确、快速测量高纯氮气中杂质含量的目的。
天美赛里安气相在高纯气体的应用——高纯氢测定
本应用采用456i气相色谱仪多阀系统的PDHID测定高纯气体,符合标准GB/T 40045-2021与GB/T 3634.2的测试要求。
iCAP TQ三重四级杆ICPMS测定高纯氧 化镝中的15种稀土杂质
本文运用赛默飞iCAP TQ三重四级杆ICPMS 建立了一种直接测试高纯氧化镝中15种稀土杂质的方法。该方法简单快速,无需复杂的基体分离过程,利用iCAP TQ有效去除氧化镝基体多原子离子对165Ho和175Lu的干扰,适用于纯度为99.99%~99.9999%的高纯氧化镝中稀土杂质纯度分析。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Mg含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
气相色谱法分析高纯氦气中氖气等微量杂质
本文使用岛津GC-2014气相色谱仪结合甲烷转化炉、FID和PDHID检测器建立了高纯氦气中微量杂质的分析方法。采用两个吹扫六通阀自动进样,超纯氦气做载气表现出良好的重现性和检出限。氖气最低检出限可达0.10μ L/L,其余10种组分最低检出限均可达0.01μ L/L,完全满足GB/T 4844-2011对超纯氦杂质分析的需求。
高纯硅烷中痕量CO、CO2、H2O转化色谱分析
本文叙述高纯SiH4 中痕量杂质的转化色谱分析条件、装置及流程。通过弱极性有机担体柱有效地将PPM硅烷中级杂质与主组份分离。分离后的主组份经氢气氛下高温还原和电石转化生成烃类, 送高FID灵敏检测, 当进样量为1毫升, 记录仪为1毫伏(250毫米)时, 本试验所得灵敏度,CO.0.15vpm/min 。CH4 0.08vpm/, ,(样品直接送FDI检测灵敏度)。CO2.0.5vpm/min ,H2O 0.3vpm/min 同时,确定了较满意的分析操作参数, 提出了相应的分析流程。
气相色谱(BID检测器)测定高纯氦气中杂质
本文利用岛津GC-2010 Pro气相色谱仪,结合高灵敏度、通用型BID检测器建立了分析高纯氦气中杂质的方法。该方法采用带隔垫吹扫的六通阀进样,分析高纯氦气中微量H2、O2、N2、CH4、CO、CO2、C2H4、C2H6、C2H2,具有灵敏度高、稳定性强的特点。使用BID检测器方法检出限H2<1.0ppm,其他组分<0.5ppm;重复性好,RSD%≤ 2.0%;使用在线开关阀,连接好标气或者催化反应气,设定方法后,可实现无人值守,快速分析。
高纯绷烷中氢的低温气相色谱分析
高纯硼烷在半导体工艺中是重要的掺杂剂,它的纯度很大程度决定了半导体器件的质量。高纯硼烷的杂质分析一直是电子气的“老大难”。根据半导体工艺的要求,硼烷中的有害杂质主要是指氧、水、一氧化碳、二氧化碳和甲烷等,考虑到提纯方法和制造过程中系统泄漏而造成大气环境中 氧 和 水 对 硼 烷 的 污 染(氧 占 ,!S,水 占!O.S T ,S)。
利曼Prodigy直流电弧光谱仪 (DC Arc) 测定高纯硅中的硼和磷
本文使用Teledyne Leeman Labs Prodigy直流电弧光谱仪检测样品中的硼和磷元素,确立了最佳检测条件。
谱育科技ICP-OES法分析玻璃粉及高纯石英粉末中多种元素
谱育科技 EXPEC 6000电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)具备高灵敏度、低检出限、宽线性范围、多元素同时测定的特点,可解决上述困难,实现玻璃粉、高纯石英中Al、Na、K、Li、Cr、Fe、Mg、Ba、Ti、Ca、Mn、Mi、Cu、Mo 14种元素的分析。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中杂质元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Ca元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Fe元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Cu元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
福立高纯气体分析方案
在高纯气体行业或在煤化工、石油化工等行业,对气体纯度要求非常高,普通色谱检测器无法满足要求,本方案选用原装进口Valco公司高灵敏度的氦离子化(PDHID)检测器,采用中心切割与反吹技术,配置具有吹扫保护气路的进样切换阀和进口氦气纯化器,可以实现一次进样检测高纯气体中微量H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO、CO2杂质
莱伯泰科:离子色谱-膜去溶-ICP—MS法测定高纯钨粉中痕量金属杂质
摘要:灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用 02溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HN03洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,c0,Ni,cu,zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90% 一107%之间,检出限在0.0ol~0.5 gg/g之间。关键词:痕量元素;高纯钨粉;离子色谱;阳离子交换柱;膜去溶装置;电感耦合等离子体质谱
iCAP 7000 Series 测定高纯氧化钆中镱和镥
iCAP7000 ICPOES 水平观测灵敏度高,通过等离子条件选择,并选择合适的测定谱线并结合基体匹配可抑制了钆基体背景的干扰。在不采用过柱分离基体的情况,配合 ICPMS 测定,可以满足 4N和 5N 的高纯氧化钆中稀土杂质测定的要求。
纯化工艺精选|解决高细胞密度甜蜜的烦恼—絮凝技术
随着生物制药技术的发展,高细胞密度和高产物滴度的细胞培养已经成为一种趋势,这给传统下游澄清工艺带来了越来越大的负担,使得我们传统深层过滤器载量下降,整体纯化效率降低。
新型高纯氧分析进样器及其应用方案
在气体分析方法中,气相色谱法是应用最为广泛的技术方法,然而,气体中的氧和氩组份,在气相色谱分离中较难分开,往往是以氧和氩的总和(混合峰)表现出来,所以,在工业氢中氧、氩、氮的测定和电子工业用氧中的微量氩、氮的测定方法中都应用了脱氧柱技术,其中401脱氧剂在脱氧容量、脱氧深度(10-9级)及其可反复活化再生使用等优点,已被各气体分析标准方法中确定选用。但是,401脱氧柱的正常反复应用,必须对其进行100℃、200℃、300℃、400℃、450℃的长时间通氢活化处理,这就给分析工作带来不便,往往需要自己搭建一个气路控制系统和购置一个合适的高温炉来处理,而处理时必须将401脱氧柱从进样系统上拆装,在活化处理后的拆装过程中,难免脱氧剂要接触空气中的高浓度氧,就会造成活化好的脱氧柱的脱氧容量的损失。对于高纯氧分析,脱氧容量的减少,就会缩短活化周期和明显影响分析工作效率。为此,我们研发了新型的高纯氧分析进样器(专利技术)与科创GC8800H型气相色谱仪配套使用,实现了高效率工作分析高纯氧气体中的微量氩和氮。将双脱氧柱改为单脱氧柱,就可方便地实现工业氢中氧、氩、氮的测定。
高纯氩气中微量氮的(PDHID—GC)测定方法
:针对高纯氩气中存在着微量氮难以分析的问题,采用脉冲放电氦离子检测器气相色谱法(简称PDHID—Gc)测定氩气中微量氮。该方法采用六通阀进样,检测器温度250 cI二,高纯氦气做载气,氮浓度在5 p.mo1]mol一50 p~nol/mol时,标准曲线线性良好,测定了氩气中微量氮气体标准物质GBW 06309,结果与标准值基本一致,表明该方法操作简便、准确度高。关键词:气相色谱;氩
iCAP TQ ICPMS测定高纯稀土氧化铈中 镨、和钆杂质元素
高纯稀土通常是指纯度高于99.99%的稀土金属或其氧化物,具有特殊的物理化学性质, 在高科技领域和军工领域有着广泛的应用。高纯稀土材料中存在的其它稀土杂质元素常会对最终产品的功能产生影响,因此,必须严格控制高纯稀土的杂质。本实验采用iCAPTQ ICPMS测定纯度为99.99999%(6N,行业上通指稀土杂质元素含量)高纯氧化铈中的镨和钆元素杂质。
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