离子体原射仪

产品说明、技术参数及配置ICP-3000电感耦合等离子体发射光谱仪是天瑞仪器公司经多年技术积累开发出的一款性能优异的全谱直读型光谱仪，用于测定不同物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量元素含量。自动化程度高，操作简便，稳定可靠。目前仪器广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。性能优势全自动化设计整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全、方便。蠕动泵蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节；通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。气体流量自动控制进样系统中，载气、等离子气、辅气均采用先进的质量流量控制器（MFC）来控制，具有流量连续可调、流量稳定等优点，确保了进样系统的稳定，为光源的稳定奠定了坚实的基础。稳定先进的全固态射频电源仪器采用的射频电源为天瑞仪器自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。快速准确的全自动匹配功能负载终端采用天瑞仪器自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点，确保了输出功率大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方便。先进的进样系统进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器、耐氢氟雾化器等，满足客户的各种需求；同时天瑞自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。独特精密的光学系统采用中阶梯光栅-棱镜交叉色散方式，专业的光学优化设计使得光通量大化的同时保证了优异的光谱分辨率；无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性；超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限；高效的氮气分布式吹扫光室配合高品质的光学元件保证了深紫外区特别是P、S、As等元素的测量。精准的波长定位智能精确的自动波长校准算法，无需进行额外的谱峰校正即可进行测量，保证准确测量的同时节约大量的标液和测量时间。性能优异的探测器采用大尺寸CID探测器，先进、成熟、稳定；大靶面尺寸，百万级像素；165-900nm范围连续覆盖，一次曝光，全谱显示；非破坏性读取(NDRO) 功能，改善了弱分析线的信噪比，提高了结果的准确性，并且数据采集与分析均优于CCD； 极佳的线性动态范围和与生俱来的抗溢出功能确保任意强弱的谱线可在一次曝光内测量并进行分析，同时为方法选择理想波长提供了灵活性（可选第二、第三或更次灵敏线来排除干扰）。超快的测试速度各分析谱线可以在曝光时间内设置任意合适的积分时段来实现测量的优化；可以一次曝光读出所有分析谱线的强度积分值加快分析速度；还可以指定谱线独立读出，读出时间不超过2ms。强大的软件分析功能软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正、去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。技术参数射频发生器技术指标输入电源：交流220V，电流20A输出功率：700~1600W调节精度：2W工作频率：27.12MHz频率稳定性：＜0.05%输出功率稳定性：＜0.1%匹配方式：自动匹配电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜0.5V/m进样装置技术指标输出工作线圈：内径25mm、3匝三同心石英炬管：外径20mm；根据中心通道大小有多种型号可选高效进口雾化器：同心型雾化器，外径6mm ；多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室，外径57.2mm蠕动泵：十二转子四通道，转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min氩气流量计和载气压力表规格：1.等离子气流量计（100~1000）L/h (1.6~16L/min)2.辅助气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)3.载气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)4.载气稳压阀（0.2MPa）5.冷却水：水温20~25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa分光器技术指标光栅：中阶梯光栅，52.67 lp/mm，64闪耀角，采用德国肖特公司热膨胀系数接近于零的Zerodur材料做基底，性能更出众棱镜：超纯康宁紫外熔融石英，在170nm处内透过率99.6%波长范围：165nm~900nm焦距：430mm数值孔径：F/8，超高的光通量保证仪器的检出限和灵敏度分辨率：0.0068nm@200nm杂散光：10000ppmCa 溶液在As189.042nm处的等效背景浓度2ppm光室：精密恒温，35±0.1℃分布式氮气吹扫，正常吹扫2L/min，快速吹扫4L/min检测装置技术指标检测器类型：电荷注入式检测器（CID）靶面尺寸：27.6mm×27.6mm，1024×1024寻址检测单元读取方式：非破坏性读取(NDRO) ，全幅读取（FF）和任意读取积分（RAI）线性动态范围：108波长响应范围：165nm~1000nm电子快门：单独设置各谱线的积分时间；可指定谱线独立读出，读出时间＜2ms量子效率：无任何镀膜，200nm紫外区可达35％以上检测器冷却：高效三级半导体制冷，制冷温度-45℃仪器技术指标观测方式：垂直观测液体含量：0.01ppm~几千ppm固体含量：0.001%~70%重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD0.5%稳定性：相对标准偏差RSD1% @2小时测试速度：单个谱线CID读出时间仅需2ms，一分钟内可实现所有元素的测量元素检出限（μg/L）：大部分元素1ppb~10ppb仪器尺寸：台式1300mm*840mm*740mm应用领域1.硅工业：磁性材料加工行业2.冶金工业：可分析对金属材料质量影响很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等杂质元素3.水质分析：可检测水质污染的八大重金属等元素4.地质、矿石分析：岩石样品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的测定5.石油化工和轻工领域的应用：测试原油中的30多种元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等6.医疗、卫生、农业环保、商品、食品质量检测

ICP-3000电感耦合等离子体发射光谱仪是天瑞仪器公司经多年技术积累开发出的一款性能优异的全谱直读型光谱仪，用于测定不同物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量元素含量。自动化程度高，操作简便，稳定可靠。目前仪器广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。性能优势全自动化设计整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全、方便。蠕动泵蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节；通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。气体流量自动控制进样系统中，载气、等离子气、辅气均采用先进的质量流量控制器（MFC）来控制，具有流量连续可调、流量稳定等优点，确保了进样系统的稳定，为光源的稳定奠定了坚实的基础。稳定先进的全固态射频电源仪器采用的射频电源为天瑞仪器自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。快速准确的全自动匹配功能负载终端采用天瑞仪器自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点，确保了输出功率大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方便。先进的进样系统进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器、耐氢氟雾化器等，满足客户的各种需求；同时天瑞自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。独特精密的光学系统采用中阶梯光栅-棱镜交叉色散方式，专业的光学优化设计使得光通量大化的同时保证了优异的光谱分辨率；无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性；超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限；高效的氮气分布式吹扫光室配合高品质的光学元件保证了深紫外区特别是P、S、As等元素的测量。精准的波长定位智能精确的自动波长校准算法，无需进行额外的谱峰校正即可进行测量，保证准确测量的同时节约大量的标液和测量时间。 性能优异的探测器采用大尺寸CID探测器，先进、成熟、稳定；大靶面尺寸，百万级像素；165-900nm范围连续覆盖，一次曝光，全谱显示；非破坏性读取(NDRO) 功能，改善了弱分析线的信噪比，提高了结果的准确性，并且数据采集与分析均优于CCD； 极佳的线性动态范围和与生俱来的抗溢出功能确保任意强弱的谱线可在一次曝光内测量并进行分析，同时为方法选择理想波长提供了灵活性（可选第二、第三或更次灵敏线来排除干扰）。超快的测试速度各分析谱线可以在曝光时间内设置任意合适的积分时段来实现测量的优化；可以一次曝光读出所有分析谱线的强度积分值加快分析速度；还可以指定谱线独立读出，读出时间不超过2ms。强大的软件分析功能软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正、去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。技术参数射频发生器技术指标输入电源：交流220V，电流20A输出功率：700~1600W调节精度：2W工作频率：27.12MHz频率稳定性：＜0.05% 输出功率稳定性：＜0.1%匹配方式：自动匹配电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜0.5V/m进样装置技术指标输出工作线圈：内径25mm、3匝三同心石英炬管：外径20mm；根据中心通道大小有多种型号可选高效进口雾化器：同心型雾化器，外径6mm ；多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室，外径57.2mm 蠕动泵：十二转子四通道，转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min氩气流量计和载气压力表规格：1.等离子气流量计（100~1000）L/h (1.6~16L/min) 2.辅助气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min) 3.载气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)4.载气稳压阀（0.2MPa）5.冷却水：水温20~25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa分光器技术指标光栅：中阶梯光栅，52.67 lp/mm，64闪耀角，采用德国肖特公司热膨胀系数接近于零的Zerodur材料做基底，性能更出众棱镜：超纯康宁紫外熔融石英，在170nm处内透过率99.6%波长范围：165nm~900nm焦距：430mm数值孔径：F/8，超高的光通量保证仪器的检出限和灵敏度分辨率：0.0068nm@200nm杂散光：10000ppmCa 溶液在As189.042nm处的等效背景浓度2ppm光室：精密恒温，35±0.1℃分布式氮气吹扫，正常吹扫2L/min，快速吹扫4L/min检测装置技术指标检测器类型：电荷注入式检测器（CID）靶面尺寸：27.6mm×27.6mm，1024×1024寻址检测单元读取方式：非破坏性读取(NDRO) ，全幅读取（FF）和任意读取积分（RAI）线性动态范围：108波长响应范围：165nm~1000nm电子快门：单独设置各谱线的积分时间；可指定谱线独立读出，读出时间＜2ms量子效率：无任何镀膜，200nm紫外区可达35％以上检测器冷却：高效三级半导体制冷，制冷温度-45℃仪器技术指标观测方式：垂直观测液体含量：0.01ppm~几千ppm固体含量：0.001%~70%重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD0.5%稳定性：相对标准偏差RSD1% @2小时测试速度：单个谱线CID读出时间仅需2ms，一分钟内可实现所有元素的测量元素检出限（μg/L）：大部分元素1ppb~10ppb仪器尺寸：台式1300mm*840mm*740mm应用领域1.硅工业：磁性材料加工行业2.冶金工业：可分析对金属材料质量影响很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等杂质元素3.水质分析：可检测水质污染的八大重金属等元素4.地质、矿石分析：岩石样品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的测定5.石油化工和轻工领域的应用：测试原油中的30多种元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等6.医疗、卫生、农业环保、商品、食品质量检测

溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀技术指标:离子能量25eV - 5keV总的离子束电流1mA (at 5kV with Argon)High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)电流密度120μA/cm2 at 100mm working distance离子束发散角Ion energy dependant (typically 15°)工作距离100 mm (typically)等离子体杯Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)气体进气口径CF-16 (1.33“OD)气体流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.激发模式微波放电等离子体 (无灯丝)安装口径CF-35 (2.75“OD)枪直径34mm (真空端)泄露阀需要气体质量流量计第二代等离子体源，可以提供离子源，原子源，离子/原子混合源原子源主要用途：制备氮化物， e.g. GaN, AlN, GaAsN, SiN etc.氢原子清洗，氢原子辅助MBE.制备氧化物， e.g. ZnO, Superconductors, Optical coatings, Dielectrics. 掺杂， e.g. ZnSe离子源用途:离子束辅助沉积(IBAD) for both UHV and HV processes溅射沉积，双离子束溅射，Sputter deposition and dual ion beam sputtering溅射清洗/表面科学中的样品表面处理，Sputter cleaning / surface preparation in surface science, MBE and HV sputter processes.原位刻蚀， e.g. Chlorine 技术参数：真空兼容性：完全UHV兼容可烘烤：200°C微波功率：最大250W，2.45GHz磁铁类型：永久稀土。可在不破坏真空的情况下进行烘烤安装：NW63CF（4.5“OD）真空长度：300mm（可定制长度）：真空直径最大值=57mm光束直径：源处约25mm（较窄的光束也容易产生）等离子杯：氧化铝孔径：氧化铝或氮化硼气体流速：0.01-100sccm，取决于所选孔径工作压力：约10-7托至5x10-3托，取决于孔径、泵和应用-请联系tectra讨论您的应用。提供差动泵选项工作距离：50mm-300mm。150mm（典型值）冷却：全水冷（包括磁控管）电源：微波炉电网供电**仅限离子源和混合源19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz主要特点：无灯丝适用于大多数气体，包括反应性气体，如氧气、氯气、氢气、氮气等。无微波调谐出厂设置，只需打开和关闭等离子。用户可配置提取光学器件设计为可快速方便地更换，允许用户自定义其来源，以适应样本大小、工作压力和电流密度的特定组合。易于更换的孔径使光束直径、气体负载和原子通量得以优化。简单烘烤制备新的可烘烤ECR磁体只需松开4个螺钉，即可进行简单的烘烤准备。磁体不需要移除，但仍位于封闭冷却回路的空气侧。因此，没有烧结材料暴露在真空中。Al2O3等离子区氧化铝等离子杯作为标准，具有更高的二次电子产量、更好的抗腐蚀性气体（如氧气）和理想的等离子打击能力从法兰（刀口侧）到外壳端，空气侧环境坡度的最小值仅为258mm