扫描等离子体仪

Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束专为自动化冷冻电子断层扫描成像样品的制备而设计。用户可以稳定地在原位制备厚度约为 200nm 或更薄的冷冻薄片，同时避免产生镓 (Ga) 离子注入效应。与目前市场上的其他 cryo-FIB-SEM 系统相比，Arctis Cryo-PFIB 可显著提高样品制备通量。与冷冻透射电镜和断层成像工作流程直接相连通过自动上样系统，Thermo Scientific&trade Arctis&trade Cryo-PFIB 可自动上样、自动处理样品并且可存储多达 12 个冷冻样品。与任何配备自动上样器的冷冻透射电镜（如 Thermo Scientific Krios&trade 或 Glacios&trade ）直接联用，省去了在 FIB-SEM 和透射电镜之间的手动操作载网和转移的步骤。为了满足冷冻聚焦离子束电镜与透射电镜应用的低污染要求，Arctis Cryo-PFIB 还采用了全新的高真空样品仓和经过改进的冷却/保护功能。Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束电镜的主要特点与光学显微镜术关联以及在透射电镜中重新定位"机载"集成宽场荧光显微镜 (iFLM) 支持使用光束、离子束或电子束对同一样品区域进行观察。 特别设计的 TomoGrids 确保从最初的铣削到高分辨率透射电镜成像过程中，冷冻薄片能与断层扫描倾斜轴始终正确对齐。iFLM 关联系统能够在电子束和离子束的汇聚点处进行荧光成像。无需移动载物台即可在 iFLM 靶向和离子铣削之间进行切换。CompuStage的180° 的倾转功能使得可以对样品的顶部和底部表面进行成像，有利于观察较厚的样品。TomoGrids 是针对冷冻断层扫描工作流程而特别设计的，其上下2面均是平面。这2个面可防止载样到冷冻透射电镜时出现对齐错误，并始终确保薄片轴相对于透射电镜倾斜轴的正确朝向。 利用 TomoGrids，整个可用薄片区域都可用于数据采集。厚度一致的高质量薄片Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜可在多日内保持超洁净的工作环境，确保制备一致的高质量薄片。等离子体离子束源可在氙离子、氧离子和氩离子间进行切换，有利于制备表面质量出色的极薄薄片。等离子体聚焦离子束技术适用于液态金属离子源 (LMIS) 聚焦离子束系统尚未涉及的应用。例如，可利用三种离子束的不同铣削特性制备高质量样品，同时避免镓注入效应。系统外壳的设计考虑到了生物安全，生物安全等级较高的实验室（如生物安全三级实验室）可选用高温消毒解决方案。Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜的紧凑型样品室专为冷冻操作而设计。由于缩小了样品室体积，操作环境异常干净，最大限度减少水凝结的发生。通过编织套管冷却样品及专用冻存盒屏蔽样品，进一步提升了设计带来的清洁度，确保了可以进行多日批量样品制备的工作环境。 自动化高通量样品制备和冷冻断层扫描连接性自动上样器可实现多达 12 个网格（TomoGrids 或 AutoGrids）的自动上下样，方便转移到冷冻透射电镜，同时最大限度降低样品损坏和污染风险。通过新的基于网络的用户界面加载的载网将首先被成像和观察。 随后，选择薄片位置并定义铣削参数。铣削工作将自动运行。根据样品情况，等离子体源可实现高铣削速率，以实现对大体积材料的快速去除。自动上样系统为易损的冷冻薄片样品提供了受保护的环境。在很大程度上避免了可能会损坏或污染样品的危险手动操作样品步骤。 自动上样器卡槽被载入到与自动上样器对接的胶囊中，可在 Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜和 Krios 或 Glacios 冷冻透射电镜之间互换。

ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪产品介绍： ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪是公司经多年技术积累而开发的电感耦合等离子体发射光谱仪，用于测定各种物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量金属元素或非金属元素的含量，自动化程度高、操作简便、稳定可靠。 ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。工作环境：内容 适应范围贮存运输温度 15℃-25℃贮存运输相对湿度 ≤70％大气压 86-106 kPa电源适应能力 220±10v 50-60MHz工作湿度 ≤70％工作温度 15℃-30℃ 技术指标：固态电源技术指标电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，功率反馈闭环自动控制工作频率：27.12MHz±0.05%频率稳定性：＜0.1%输出功率：800W—1200W输出功率稳定性：＜0.3%电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜2V/m 进样系统技术指标输出工作线圈内径25mm矩管，三同心型，外径20mm的石英矩管同轴型喷雾器外径6mm双筒形雾室外径34mm 氩气流量计规格和载气压力表规格1.等离子气流量计（100-1000）L/h (1.6-16L/min)2.辅助气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)3.载气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)4.载气稳压阀（0-0.4MPa）5.冷却循环水：水温20-25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa 单色器技术指标光路：Czerny-Turner焦距：1000mm光栅规格：离子刻蚀全息光栅，刻线密度3600线/mm(可选用刻线密度2400线/mm)线色散率倒数：0.26nm/mm分辨率：≤0.007nm(3600刻线）. ≤0.015nm(2400刻线）扫描波长范围：3600线/mm扫描波长范围：190—500nm 2400线/mm扫描波长范围：190—800nm步进电机驱动最小步距:0.0006 nm出射狭缝：12μm入射狭缝：10μm 光电转换器技术指标光电倍增管规格：R293或R298光电倍增管负高压：0-1000V稳定性＜0.05% 整机技术指标：扫描波长范围：195nm～500nm（3600L/mm光栅）195nm～800nm（2400L/mm 光栅）重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD≤1.5％稳定性：相对标准偏差RSD≤2％

一、产品概述：扫描电镜等离子清洗机是一款专为扫描电子显微镜（SEM）样品准备而设计的高效清洗设备。该机利用等离子体技术，通过活性气体的激发，去除样品表面的有机污染物和微尘，确保样品在显微观察中的清洁和高质量成像。扫描电镜等离子清洗机具有快速、均匀的清洗效果，并能够处理各种材料，包括金属、陶瓷和聚合物等。其自动化控制系统使得操作简单便捷，广泛应用于材料科学、纳米技术和生物医学等领域，为研究人员提供可靠的样品处理解决方案。CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程等离子清洗源设计，清洗快速、高效、低轰击损伤，主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。二、设备用途/原理：设备用途扫描电镜等离子清洗机主要用于准备扫描电子显微镜（SEM）样品，去除样品表面的有机污染物、微尘和其他杂质。它广泛应用于材料科学、纳米技术和生物医学等研究领域，以确保样品在显微观察中的清洁和高质量成像。工作原理 该设备通过等离子体技术进行清洗。首先，等离子清洗机将特定的气体（如氧气或氩气）引入反应室，并通过高频电源激发气体形成等离子体。等离子体中的活性粒子与样品表面的污染物反应，分解并去除这些杂质。该过程能够快速且均匀地清洗各种材料，确保样品表面达到所需的清洁度，从而提高扫描电子显微镜的成像质量和分析准确性。三、主要技术指标：产品型号CIF-SEM法兰接口KF40（CF40）工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-150W可调，远程等离子源，自动匹配器气体控制标配单路质量流量计（MFC）可选双路。50毫升/分，自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制皮拉尼真空计，测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min质量保证二年质保，终身维护四、产品特点1.远程等离子清洗源 2.清洗快速、高效 3.低轰击损伤

ICP3600型全自动发射光谱仪是由射频发生器、试样引入系统、扫描分光器、光电转换、计算控制系统和分析操作软件组成。它的分析过程是：射频发生器产生的高频功率通过感应工作线圈加到三同心石英炬管上，在石英炬管的外层通入氩气并引入电火花使之电离形成氩等离子体，这种氩等离子体的温度可达6000K～8000K。待测水溶液试样通过喷雾器形成的气溶胶进入石英炬管中心通道，受到高温激发后，以光的形式放出特征谱线，通过透镜进入扫描分光器，分光器将待测元素的特征谱线光强，准确定位于出口狭缝处，光电倍增管将该谱线光强转变成光电流，再经电路处理和模数变换后，进入计算机进行数据处理，最后由打印机打出分析结果。由于仪器的稳定性好，测量范围宽，检出限低，因此广泛地应用于稀土分析、环境保护、水质检测、合金材料、建筑材料、医药卫生等科学领域作元素定量分析。

产品说明：电感耦合等离子体(Inductive coupled plasma以下简称ICP)自60年代中期研制成功以来与原子发射光谱仪器(Atomic Emission Spectrometer以下简称AES)相结合，以它优越的激发性能，良好的精密度，宽广的动态范围，极低的检出限以及多元素同时快速测定等优点，已蓬勃发展为无机成分分析的重要手段，并广泛应用于地质矿产、冶金机械、石油化工、医药卫生、食品饮料、农业土壤、商检环保、科研教学等各个科技领域，而顺序扫描型ICP－AES仪器以其灵活、方便、价格低廉等优点成为分析仪器市场上一枝独秀，深受用户欢迎。我公司是我国最早开发研制成功ICP－AES光谱仪的厂家，数次迭代研发ICP6800-1电感耦合等离子体发射光谱仪，该产品在继承原产品诸多优点基础上，对原产品的软件、光学系统、电路系统等进行了大量的改进，是国内目前较为先进的产品。技术参数：1 、 主单色器Czerny-Turner装置 1.1 焦距1000mm。 1.2全息离子刻蚀闪耀光栅：刻线2400条或3600条或4320条/mm。 1.3 闪耀波长250nm。 1.4 波长范围：（180～800）nm(采用3600条/mm光栅时，长波只能达到450nm)。 1.5 色散率倒数：0.4nm/mm(2400条/mm光栅)、0.24nm/mm(3600条/mm光栅)。 1.6 入射和出射狭缝：20μm 2 、 高频发生器 2.1 频率（40.68±2） MHz,工作线圈内径25mm，三匝。 2.2 功率（0.6～1.5）kW，自激振荡式。2.3 电源：AC220V,30A,50Hz，单相交流电源。2.4 接地电阻≤10Ω，选用扁铜带与0.5m2的铜板焊接在一起深埋地下2m 以上，单独直接接地。 2.5 输出功率稳定性0.2%。 2.6 电磁场泄漏：距机箱30cm处测辐射强度，电场10V/m，磁场0.2A/m，远小于国家规定指标。 3 、 炬管、气路及进样系统 3.1 三管同轴式整体吹制的石英炬管，内径(17～18)mm，切线方向引入冷却气和辅助气。 3.2 雾化室为Scott型双筒同轴雾化室。 3.3 雾化器为气动玻璃同轴式雾化器，耐高盐分。 3.4 冷却气(10～14)L/min 辅助气(0～3)L/min 压力0.25MPa。 3.5 载气(0～1.0)L/min,载气流量由高精度质量流量计来控制，载气压力（0.3～0.4）MPa。 3.6 所用氩气99.99%以上。 4 、 扫描机构 4.1 主单色器扫描步距0.001nm/步。 4.2 扫描速度40nm/s。 5 、 测光系统 5.1 测光采样时间（0.1～10）s之间任选，间隔0.01s。 5.2 光电倍增管响应范围(160～800)nm。 5.3 负高压(-100～-1200)V之间任选，间隔1V，稳定性0.02% 5.4 动态范围(5～6)个数量级。 5.5 测光方式：峰高或定位测光。 6 、 数据采集与处理系统 视窗式菜单、汉字显示、模块结构、人机对话、谱线轮廓扫描、分析方法编制、背景扣除、干扰校正、波长校正、定量分析、标准曲线、定性分析、数据统计处理、报告打印等功能。 7 、 尺寸和重量 尺寸：长X宽X高= 160cm ×65cm ×70cm 重量: 200kg配置说明：发射光谱仪主机，冷却循环水箱，发射光谱仪操作软件，联想计算机，联想激光打印机

仪器简介：Hiden EQP是一台结合质量和能量分析的仪器（Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics），用于分析等离子过程中阴、阳离子、中性粒子以及自由基。技术参数：应用： 蚀刻 / 沉积作用研究 离子植入 / 激光烧蚀 残余气体分析 / 泄漏检测 等离子体电感耦合，即在操作中遵从电极设定条件 通过视口、接地电极和驱动电极进行分析主要特点： 软件控制的离子汲取光学系统，以使等离子体扰动最小 45°静电扇区分析器，扫描能量增量 0.05 eV / 0.25eV FWHM 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 带差式泵的三级过滤四极杆，质量数范围至2500amu 高灵敏度 / 稳定的脉冲离子计数检测器，有7个数量级的动态范围 可调谐的离子源，用于电子附着选件的表观电势质谱分析 Penning规和互锁装置可提供过压保护 信号选通分辨率1μs，用于研究脉冲等离子体或能量、质量分布随时间的变化 1000eV 选配, 漂浮电压可选至10keV, Faraday 杯用于高密度等离子体 Mu-Metal, Radio-metal 屏蔽可选,高压操作可选 通过RS232、RS485或Ethernet LAN，控制软件MASsoft

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换清洗源，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗功能。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40（CF40)工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-150W可调，远程等离子源，自动匹配器气体控制标配单路质量流量计（MFC)可选双路。50毫分/分，自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制皮拉尼真空计，测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

1、主要配置及附件：以光电倍增管PMT检测器为基础的单道扫描电感耦合等离子体发射光谱仪，高频发生器，自动调谐，提供具有中英文操作界面的软件；专用自动温控循环冷却水系统；氩气导管；冷却水管；高灵敏度进样系统（高效进口雾化器加双筒型雾化室）。2、主要技术参数：台式,等离子体垂直观测系统。等离子体火焰可进行二维调整（由计算机控制），并利用“仪器诊断”功能，实时观察调整结果。精密度 ：优于国家检定规程A级标准稳定性 ：优于国家检定规程A级标准分辨率 ：在Mn257.610nm处，峰半高宽为≤0.008nm（3600线光栅）。≤0.015 nm（2400线光栅）。所有元素满足国标A级标准，部分元素如Ba检出限远低于国家A级标准谱线灵活性：可对分析元素的谱线进行定性、半定量和定量分析。拥有几千条谱线，可以根据需要与爱好选择适当的谱线，避开可能存在的干扰，为您提供更多的选择，更合理的推荐，让测试变得更加专业与准确。3、进样系统：炬管：一体式。根据中心通道大小有多种型号可选雾化器：高效进口雾化器，多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min蠕动泵转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）4、射频发生器和等离子体：类型：固态射频发生器，水冷，自动调谐，带有过载、过温各种安全保护。输出功率：800W~1600W，连续可调，调节精度为2W等离子气、辅气、载气开启与流量为软件控制，点火、灭火也均由软件控制。5、光学系统：光学稳定性：与进样系统设计在一个平台上，整个光学系统具有防震措施，一般的地面震动不影响其分析性能。同时仪器稳定脚垫再增加一套防震保护，起到二次防震的目的。温度稳定性：±0.1℃。最小步距为0.0004nm6、控制软件：软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，软件具有全中文，可根据需要选择切换。报告格式输出格式为pdf、excel，电子档或直接打印，且可以为中文模板。控制软件可以在中文版Windows 7下运行、XP下运行。软件带有自动进样器控制接口。分析谱线：具有谱线描迹功能、背景扣除功能 曲线拟合：测量方式有峰高、峰面积两种不同选择 分析参数：针对不同谱线选择不同积分时间、负高压、扫描步距、衰减值。分析参数：每条谱线测量时会自动进行实时波长校正，确保测量峰位准确。自动衰减：每条谱线都可以进行自动衰减。全自动安全保护功能，仪器通讯和控制采用控制卡，观测位置由软件控制并优化，具有控制蠕动泵转速功能。可以与天瑞AS100自动进样器联合使用，控制样品的切换、清洗、进样等过程。仪器诊断软件和网络通讯，数据再处理功能，自动生成测试报告。软件具有数据档案管理功能，支持数据的备份、恢复、删除，支持数据的文本格式输出。格式类可选，也可以打印输出。

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

Aurora Z10冷等离子体种子处理仪统提供“Activated Air”活性气体，就像雷击周围的空气一样，可以改善种子健康，提高整体植物产量。冷等离子体种子活化过程的核心优势是提高发芽的一致性和发芽率以及幼苗的生长速度，这反过来又提高了种植者的产量和产量。该系统是移动的，需要外部电源和互联网连接。系统通过云连接，远程机器监控易于掌控整个活化过程。特点：&minus CEA的先进种子健康系统，冷等离子体促进种子健康和作物产量&minus 仅使用空气和电力，不添加化学物质&minus 低工作功耗（200W）&minus 专为垂直农场和温室设计规格：样品仓：10L处理量：2升（1公斤）的种子10.4英寸触摸显示屏远程监控控制超低功耗小于200w重量：143Kg

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成 在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等） 未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

PlasmaQuant MS：(1)最节省的等离子体：获得稳定强劲的等离子体所消耗氩气量仅为常规仪器的一半；(2)专利的iCRC碰撞反应池：有效去除多原子分子干扰，不损失其它干扰元素灵敏度的前提下获得更好的碰撞反应效果；气体切换快速，无需额外维护；(3)ReflexION离子反射技术：3D聚焦离子反射镜获得无与伦比的灵敏度，其灵敏度达到同类产品的5倍以上；(4)高解析四极杆：3MHz的扫描速度，可获得完美的质谱分离；检测驻留时间低至50μs；(5)数字和模拟双重检测器：既可在脉冲技术模式下提供11个数量级的线性动态范围，亦可在双模模式下实现；(6)强性能优异的真空系统：冷开机5min即可达到做样标准，真空度可达10-9τ；双分子涡轮泵，一般负载低于50%，使用寿命更长。这些技术的采用让PlasmaQuant MS在灵敏度、线性范围、检出限、稳定性等方面更上一个新台阶。其还可配备洁净室组件、样品导入系统、自动进样器等配件，可灵活、快速实现普通灵敏度模式和高灵敏度模式之间的切换，满足日常分析和研究级的各种应用。

EM-KLEEN电镜腔室清洁等离子体表面处理仪（电镜真空腔室等离子清洁仪；远程等离子清洁仪）美国PIE出品的EM-KLEEN电镜腔室清洁等离子体表面处理仪，广泛用于SEM扫描电镜,FIB聚焦离子束双束电镜,TEM透射电镜,XPS_X射线光电子能谱分析仪,ALD原子层沉积系统,CD-SEM, EBR, EBI, EUVL和其它高真空系统，可同时清洁真空腔室和样品！污染物对电子显微镜SEM/TEM和其它高真空系统产生的影响润滑剂、真空脂、泵油样品中的高分子聚合物，或未经处理的空气都会把碳氢污染物引到真空系统中。低蒸汽压下高分子重污染物会凝聚在样品表面和腔室壁上，而使用普通气体吹扫方法很难把碳氢污染物清除。电子和高能光子(EUV, X-ray)能够分解存在于真空系统中或样品上的碳氢污染物。碳氢化合物的分解产物沉积在被观测的样品表面或电子光学部件上。这种碳氢污染沉积会降低EUV的镜面反射率，降低SEM图像对比度和分辨率，造成错误的表面分析结果，沉积在光阑或其它电子组件的不导电碳氢污染物甚至会造成电子束位置或聚焦缓慢漂移。在ALD系统中，样品表面的碳氢污染物还会降低薄膜的界面匹配质量。远程等离子清洁的原理远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。技术特点：快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。不需减速或关闭涡轮分子泵低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专用多级气体过滤技术，SEMI-KLEEN能够满足用户最苛刻的颗粒污染清除要求可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用拥有等离子强度传感器可实时监测等离子状态，用户对等离子状态一目了然基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器，无需手动调节针阀直观的触摸屏操作，可定义60条清洗程序方案拥有智能安全操作模式和专家控制模式；SmartScheduleTM定时装置，通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统低电磁干扰设计，安静的待机模式

描述电感耦合等离子体 (ICP) 光学发射光谱法 (OES) 是对液体和固体样品中的痕量元素进行分析和定量的公认的强大技术。进样系统：iCAP™ 7200 ICP-OES 等离子体光谱仪出厂时已设定分析就绪的进样参数，所以用户不再需要优化泵速度、等离子体射频功率和气体流速。一个 3 通道、12 转子的蠕动泵，带有独特的排液监测传感器，提供顺畅、低噪音的信号和安全的操作插入式炬管座和接头方便安装/拆卸组合式进样系统易于重组和维护增强基质耐受 (EMT)炬管设计改善了高基质样品的操作光学排液监测传感器可监测来自雾化室的排液情况，在发现不正常排液的情况下可自动熄灭等离子体炬焰，从而节约样品、气体和电力提供一系列的 CETAC 自动进样器，从而能够优化 iCAP 7200 ICP-OES 进行自动化、无人照看的分析等离子体和射频发生器：双向（垂直和水平）等离子体观测光学系统：光学系统的低吹扫气体流量有助于减少运行费用高光传输效率的光学设计可提供优异的灵敏度高分辨率中阶梯光谱仪通过减少光谱重叠提高检测准确度具有热切断设计的恒温控制多色器增强了长期稳定性，可在不再进行校准的情况下延长分析运行检测器：电荷注入装置 (CID) 检测器： CID-86可以在 175 到 847 nm 范围内自由连续选择波长具备抗邻近像素晕光效应的功能，减少了复杂样品基质引起的假阳性结果非破坏性读取和随机存取的集成改善了信背比和检测限

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物 　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。 用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理 可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件 通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知 金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

PerkinElmer Elan9000等离子体质谱仪 介绍： 电子耦合等离子体质谱仪 Elan 9000 ICP-Mass Spectrometer世界上台商品化ICP-MS ELAN250以后的第六代产品主机内置40MHz自激式射频发生器， 功率稳定，适用于各种类型的无机样品和有机样品分析。PlasmaLokTM专利ICP-MS接口技术,完全消除接口处的二次电弧放电，保证等离子体稳定，延长采样锥寿命。AutoLensTM离子透镜偏压自动化选择技术，采用整体化离子透镜设计,可以在运行中根据不各同元表质荷比选择各自的离子透镜偏压，并与四极杆扫描电压同步变化,提高输送效率。全新设计的镀金陶瓷四极杆滤质器,稳定性好，敏度高，用户可根据需要调整分辨率。SimulScanTM同步扫描技术,采用ETP双层多阶电子倍增器，自动识别并分别选用模拟和脉冲技术同时测量未知样品中高浓度离子和低浓度离子。由于仪器有极高的稳定性,测量采用Peak Hopping即单点跳峰技术，大大缩短了出时间，提高分析速度。进样系统还可选配自动进样器( AS )、激光固体进样器(LS )、流动注射进样(FIAS)等。【谱质分析检测技术（上海）有限公司】谱质分析检测技术（上海）有限公司是位于国内二手分析仪器行业领头狮，二手分析仪器租赁，公司由原厂致力于产品研发的工程师、为客户提供技术支持与销售服务的市场人员和商业 人士组成。在国内二手分析仪器领域不断为用户提供着世界上主流仪器 与服务。 专注于生物、化学、 环境、农残、第三方检测、实验室等行业分析仪器。主要从事 品牌安捷伦、Waters、岛津、PE、Thermo赛默飞、热电等二手色谱、质谱和光谱等设备的翻新、销售和售后。 提供多种分析仪器，包括：液相色谱仪、气相色谱仪、单四级杆质谱仪、三重四级杆质谱仪、离子肼质谱仪、飞行时间质谱仪、液质联用仪、气质联用仪、原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、生命科学仪器、核磁共振波谱仪、色谱耗材配件、顶空进样器、气相色谱/质谱仪、液相色谱/质谱仪等分析仪器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等联用仪。 经营品牌有Agilent（安捷伦）、Waters（沃特世）、Thermo（赛默飞）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃尔默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（岛津）等品牌仪器，力求达到您的不同需求。关于谱质的服务： 1.仪器经过工程师维修测试，具备可以与新机相的性能状态，使您的科学实验流畅运行！ 2.二手仪器价格让您不为实验室建设资费不足而烦恼，节省出的经费则可以投入重要的实验项目！ 3.原厂的售后技术服务标准为您解决后顾之忧，团队为您的仪器提供长期维修支持！ 4. 仪器库存，无论是液相色谱、气相色谱、液质联用、气质联用以及仪器的维修配件，均能现货供应！【谱质分析检测技术（上海）有限公司】联系人：李先生联系地址：上海市嘉定区金园四路501号东锦国际大厦14F

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主要特点：特点：表面等离子体共振仪已成为分子结合相互作用研究最受欢迎的工具，包括 DNA,蛋白质和药物研究,尤其适合于亲和力测量及定量浓度分析。此仪器有两个通道，用于提高通量或建立参比。如果需要更高灵敏度，参比通道是一种有效的方法,因为它可降低由于热量，机械及电子所带来的噪音。CP-SPR仪使用了一种创新式的光学技术，可提供小于0.1mDeg（rms）的低噪音基线及可达1ms/point的接受速度以用于研究快速结合相互作用。CP-SPR使用复杂的隔离技术以提高稳定性且可以进行大小多种尺寸分子分析。CP-SPR具备可开口光学传感区的独特设计,可提供无可比拟的灵活性并可促进创造性的研究。CP-SPR结构紧凑，占用操作台空间小。易用软件可提供精准的实时控制和基于windowsXP/VISTA的强大数据分析功能。CP- SPR通过USB连接到电脑上(电脑不包括在本机内)。使用内置的安装和培训DVD教你如何使用仪器。DVD中包含了仪器使用方法的每一个步骤：启动，样品准备，数据采集，数据分析，清洗，维护。它将让这款仪器成为您快速获得所需数据的可靠工具。备注：本仪器需同74900-55注射泵配套使用。 注射泵必须具备，但不包括在本产品内，需要单独订购。主机配置包括：5个Au膜传感器，一个250微升进样注射器，2个10毫升样品注射器，2个废液瓶，高级控制及数据分析软件包，安装培训DVD。订购指南 型号 描述 电源 CP-SPR 200 表面等离子体共振仪 240伏交流 50赫兹7490055 纳升级双通道注射泵其他备件及配件请联系北京中科科尔仪器有限公司

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，应用领域 接合技术 小批量生产加工 医疗和牙科技术 实验室的研发设备 原型和样品模型制造 生产流程的开发和优化 微生物、微流体以及食品生产 优势 可替换模块功率密度非常高 压电直接放电控制 小体积紧凑型便捷 气体分子的激发是高效而安全的 注重产品的可用性以及界面友好性 潜在用途精细清洁 杀菌消毒和祛除异味提高材料表面润湿性各种基础材料表面的活化加工处理 优化黏合、喷漆、印刷以及涂层处理工艺 塑料、玻璃、陶瓷、金属、半导体、天然纤维以及复合材料的表面加工处理技术参数供电电源：110-240伏 / 50-60 赫兹交流电功耗：18 瓦重量：110 克产品组成：手持式设备带电源线，集成风扇音量：45 分贝等离子体温度：不超过 50 摄氏度加工处理速度：5 平方厘米/秒加工处理距离：2 – 10 毫米加工处理宽度：5 – 29 毫米过程控制：秒表、定时器、节拍器