半导体封装是半导体产业链的重要组成部分。半导体制造工艺的进步也在推动封装企业不断追求技术革新,持续加大研发投资。在半导体产业强势发展下,半导体行业对半导体封装设备的质量、技术参数、稳定性等有严苛的要求,因此其中涉及的检测技术至关重要。 基于此,仪器信息网将于[color=#0070c0][b]2022年4月28日[/b][/color]举办[b]”半导体封装检测技术与应用“主题网络研讨会[/b],邀请业内专家进行精彩报告分享,旨在为广大半导体封装行业用户、检测人员和相关学者提供一个线上近距离交流平台。[b]会议日程:[/b][list][*][size=16px][back=#ededf3][/back]09:30 高灵敏cmos EBSD技术在封装行业的应用——马岚(牛津仪器应用工程师)[/size][*][size=16px][back=#ededf3][/back]10:00 1200V碳化硅功率模块封装与应用——田鸿昌(陕西半导体先导中心总经理)[/size][*][size=16px][back=#ededf3][/back]11:00 面向感存算一体化应用的先进封装技术浅探——王刚(中国电子科技集团公司第五十八研究所 高级工程师)[/size][*][size=16px][back=#ededf3][/back]13:30 可靠性评估的功率循环测试技术——邓二平(华北电力大学 讲师)[/size][*][size=16px][back=#ededf3][/back]14:00 封装材料高温高湿可靠性检测新方法及应用——石琳琳(英国SMS仪器公司 市场与应用工程师)[/size][*][size=16px][back=#ededf3][/back]15:30 芯片封装及表面贴装后失效根因的追溯与分析——张兮(胜科纳米(苏州)股份有限公司 副总经理)[/size][/list](更多精彩详见报名页面)[b][size=18px][color=#ff0000]点击链接报名参会:[/color][/size][/b][url]https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/bdtfc20220428/[/url]
1月3日消息,博纳半导体设备(浙江)有限公司(以下简称「博纳半导体」)获得数千万元A轮融资,资方为宁波梓禾和嘉善经开同芯创业投资,独木资本将为项目的后续融资提供财务顾问服务。资金将用于生产基地建设,技术团队建设以及完善公司管理体系。「博纳半导体」创始人兼CEO刘亮表示,当摩尔定律发展到极致,晶圆也在越做越薄——在先进封装应用中,晶圆厚度一般小于100μm,晶圆减薄技术是封装技术工序中最重要的工艺之一。「博纳半导体」创始人兼CEO刘亮表示,临时键合和解键合流程此前多用日本设备,但日本厂商往往有不平等条约,比如需要采用其指定的材料、为不少额外类目的付费等等,并且交付周期和价格也更长,国产设备相比之下,优势则高下立现。据介绍,目前「博纳半导体」已经推出了临时键合、临时解键合设备、临时解键合清洗一体机在内的三款设备,公司已建设完整的打样试验线,为客户提供一体化,完整工艺段的服务。相比国外设备,「博纳半导体」产品造价是国外同等产品的一半左右。并且,这些机器的零部件中有超过85%为该公司自主研发,更加自主可控,也可配合下游客户的具体需求。目前,「博纳半导体」的商业化进展快速,已经与国内先进封装龙头企业长电科技及关联企业交付数台整机设备、并且实现量产。团队方面,「博纳半导体」创始人兼CEO刘亮有着超过 15 年的先进封装、晶圆制造设备开发经验,团队拥有自主知识产权、全国首创的临时解键合清洗一体机产业化技术。领投方梓禾资本创始人郑昕表示,「博纳半导体」公司产品具备较大的先进性,处于国内领先地位。公司设备相较进口设备具有性价比高、设备重量轻体积小等优势,并符合国家战略发展方向;临时键合/解键合设备在先进封装、化合物半导体、MicroLED等领域均具有较大应用场景;「博纳半导体」发展思路清晰,在围绕晶圆临时键合/解键合工艺进行前后端机台研发,未来发展前景可期。[来源:投资界][align=right][/align]
超声波扫描显微镜(C-SAM)主要使用于封装内部结构的分析,因为它能提供IC封装因水气或热能所造成破坏分析,例如裂缝、空洞和脱层。C-SAM内部造影原理为电能经由聚焦转换镜产生超声波触击在待测物品上,将声波在不同接口上反射或穿透讯号接收后影像处理,再以影像及讯号加以分析。C-SAM可以在不需破坏封装的情况下探测到脱层、空洞和裂缝,且拥有类似X-Ray的穿透功能,并可以找出问题发生的位置和提供接口数据。主要应用范围:· 晶元面处脱层· 锡球、晶元、或填胶中之裂缝· 晶元倾斜· 各种可能之孔洞(晶元接合面、锡球、填胶…等) · 覆晶构装之分析C-SAM的主要特性: 非破坏性、无损伤检测内部结构 可分层扫描、多层扫描 实施、直观的图像及分析 缺陷的测量及百分比的计算 可显示材料内部的三维图像 对人体是没有伤害的 可检测各种缺陷(裂纹、分层、夹杂物、附着物、空洞、孔洞、晶界边界等)C-SAM的主要应用领域: 半导体电子行业:半导体晶圆片、封装器件、红外器件、光电传感器件、SMT贴片器件、MEMS等 ;材料行业:复合材料、镀膜、电镀、注塑、合金、超导材料、陶瓷、金属焊接、摩擦界面等; 生物医学:活体细胞动态研究、骨骼、血管的研究等;
问题描述:半导体集成电路芯片封装指的是什么?解答:[font=宋体][color=black]集成电路封装是半导体开发的最后一个阶段,不仅起着物理包裹、固定、密封、保护芯片和增强电热性能的作用,而且还是芯片内部世界与外部电路沟通的桥梁。封装是将载板技术、芯片封装体、元器件等全部要素按照设备整机的要求进行连接装配,以实现芯片的多方面功能并满足整机和系统的适应性。[/color][/font][align=center][font='Times New Roman','serif'][color=black][img=,386,224]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/07/202207041430104834_1301_3389662_3.jpg!w385x224.jpg[/img][/color][/font][/align][align=center][font=宋体][color=black]芯片封装示意图[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]*[/color][/font][font=宋体][color=black]引自[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][5] p12[/color][/font][/align]以上内容来自仪器信息网《[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url]实战宝典》
由于使用场所禁止易燃易爆气体,所以不能选用FID检测器。但是TCD的灵敏性距检测要求略低,因此打算采用半导体检测器。请各位前辈指点1、2,帮忙推荐几种性能比较稳定的半导体检测器。
heller2156MK7回流焊炉是HELLER公司的一款高端产品,其内置热监控功能可以有效提升生产效率;氮气使用量少于100ppm,同时配备Energy Management System,可减少氮气消耗40%以上。该设备使用寿命长、维护成本低,并且采用12英寸宽加热器模块,具有优异的均温性能。在半导体先进封装行业中,稳定并兼容洁净室环境的回流焊工艺对于球固定至关重要。而HELLER的MK7系列回流焊机正好满足这些要求,并且已在北美、韩国、台湾和东南亚等地区广泛应用。[img=,690,387]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306130858312664_4672_5802683_3.jpg!w690x387.jpg[/img]Heller公司还为半导体先进封装球固定行业提供了完整的解决方案。他们专门针对该领域开发了一套系统,包括粘接材料、加工设备以及相应技术支持。这使得用户可以更加便捷地实现高质量、高效率以及低成本的生产过程。总之,heller2156MK7回流焊炉是半导体先进封装行业中蕞佳的选择之一。除了其高效、稳定和环保等优点外,HELLER公司还提供完整的技术支持和解决方案,帮助用户更好地完成生产任务。[b]苏州仁恩机电科技有限公司[/b]始终坚持高品质、创新和技术引领的发展战略,致力于为客户提供更好的产品和服务。如果您需要任何heller回流焊的帮助或咨询,请随时联系我们。
各位大神好! 小弟刚转到半导体行业做化学检测,之前工作无半导体行业测试经验,现在所测的化学品杂质含量极低,不稀释进样的话色谱柱超载,稀释的话又低于离子色谱检出限,导致实验室的ICS1100无法满足测试需求,还请各位帮忙是否有办法解决。 所测化学品:盐酸、硫酸、硝酸、双氧水、磷酸、氢氟酸等; 所测离子含量:小于200ppb; 设备:ICS-1100。
现有一位客户要求检测其公司里的半导体金属粉里的化学成分,具体为:铁,铜,铬,镍.样品采用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法,请问有人知道采用什么样的前处理方法吗?急求~希望高手帮我解决这个问题~(如果将金属粉酸化成溶液有什么具体的操作方法吗?)
听说半导体材料新的检测标准出台了,哪位同仁有电子版的能分享吗?有SEMI标准更好!xnhhsdgm@163.com
最近在研究变压器油色谱装置,看论坛上的检测器一般是TCD和FID,不知一般的半导体气敏传感器能否作为检测器?
本人急需半导体材料检测的SEMI标准,中英文版的都可以,那位同仁有啊?期待分享!谢谢!xnhhsdgm@163.com
4月17日,日本财务省公布的统计数据显示,因汽车以及半导体等电子零部件出口增长,带动了日本今年3月份出口额同比增长7.3%至94,696亿日元,连续第4个月呈现增长,创下历史新高,并实现3,665亿日元贸易顺差额(2023年4月为逆差7,508亿日元),也是近3个月来首度出现贸易顺差。据路透社报道称,市场原先预期日本3月贸易顺差额为2,999亿日元,日本财务省公布的顺差额高于市场预期。[align=center][img=f75e1e4515b32e22904c76acc4fac2d2.jpg,500,402]https://img1.17img.cn/17img/images/202404/uepic/68ed7740-f00c-466d-8727-70c41706e938.jpg[/img][/align]从日本对各区域的贸易动向来看,3月份日本对美国的出口额较去年同月增加8.5%至18,199亿日元,连续第30个月呈现增长、出口额创下历年同月历史新高纪录;对美国进口额增加3.7%至10732亿日元,连续第3个月呈现增长,进口额创历年同月历史新高。日本当月对美国贸易顺差额较去年同月大增16.3%至7,467亿日元,为连续第14个月增加。3月份日本对中国大陆的贸易逆差额为765亿日元,连续第36个月陷入逆差。日本于3月对中国的出口额大增12.6%至17,475亿日元,连续第4个月增长,出口额创下历年同月历史新高纪录;对中国的进口额同比减少13.9%至18,240亿日元,3个月来第2度陷入萎缩。3月日本对欧盟(EU)的出口额成长3.0%至9,027亿日元(连续第4个月增加),逆差额为900亿日元,连续第2个月陷入逆差。3月日本对亚洲(不含中国)的出口额增加6.6%至50,055亿日元(连4个月增加),顺差额为8,699亿日元,连续第2个月呈现顺差。从具体的出口产品品类来看,今年3月份,日本汽车出口金额同比增加7.1%、半导体等电子零件出口金额同比增长11.3%、船舶出口金额同比大幅增长36.0%。其中,3月份日本对中国的半导体等制造设备出口额较去年同比暴增82.4%。[color=#000000]基于此,[/color][color=#000000]仪器信息网联合电子工业出版社于[/color][b]5月9-10日[/b][color=#000000]组织召开[/color][b]第三届“半导体工艺及封装检测新技术”[/b][color=#000000]主题网络研讨会。会议旨在邀请领域内专家围绕半导体产业常用的工艺与封装检测技术,从各种半导体制造工艺及封装检测技术等方面带来精彩报告,依托成熟的网络会议平台,为半导体产业从事研发、教学、生产的工作人员提供一个突破时间地域限制的免费学习、交流平台,让大家足不出户便能聆听到精彩的报告,[b]点击下方图片[/b]即可报名参加。[/color][url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/semicon2024/][img=b645d5bb-fd92-4891-a14e-28e0db3dde1e.png]https://img1.17img.cn/17img/images/202404/uepic/8e9fd03d-ed71-460c-b3c3-275ed57bc9cf.jpg[/img][/url][来源:芯智讯][align=right][/align]
半导体材料检测用超净间在洁净度、温度湿度、振动方面都有严格要求,但不知道在哪可以找到相关标准?
[size=3]中国国家半导体光电产品检测实验室落户广东江门[/size] 中新社江门6月4日电 记者4日从江门出入境检验检疫局获悉,日前,中国国家质检总局下发文件,正式批准江门市筹建“国家半导体光电产品检测重点实验室”。 为支持江门市发展新兴产业,推动绿色(半导体)光源产业上规模、上层次,江门出入境检验检疫局申报的“国家半导体光电产品检测重点实验室”项目,日前得到国家质检总局正式批准筹建。 据江门出入境检验检疫局介绍,近年来,由于节能环保等“低碳”要求,包括LED(发光二极管)照明在内的半导体光电产业的技术创新和产业发展突飞猛进。世界发达国家高度重视LED测试方法及标准研究,争相建立相关的标准体系,而在中国国内还基本处于空白。
力标精密设备有限公司产品广泛用于半导体封装测试,LED封装测试,摄像头模组测试,光通领域,电子器件,目前已成为一流测力设备制造商搜索复制
大家好,请问变压器专用色谱柱配合半导体检测器TGS813使用时,色谱峰为什么分不开,理论上半导体检测器的灵敏度要高于TCD检测器,但测试结果却不然,色谱柱配合离线色谱仪的TCD检测器使用时,色谱峰的分离效果很好,请大家帮我分析一下是什么原因,是那个环节出问题了,是不是与进样方式有关系呢,是不是进样速度不够快呢?
半导体芯片失效分析实验室汇总随着半导体技术的发展,芯片已经成为现代电子产品中不可缺少的部分。然而,芯片在长时间运行后可能会出现失效或故障,这将导致电子产品无法正常使用。为了解决这个问题,半导体芯片失效分析实验室应运而生。半导体芯片失效分析实验室是一种专门用于分析芯片故障原因和找出解决方案的实验室。它主要由多种设备和技术组成,包括光学显微镜、扫描电子显微镜、离子注入系统、穿透电子显微镜、电子束刻蚀机等。半导体芯片失效分析实验室可以用于以下方面的分析:1.失效分析如果芯片出现了故障,失效分析可以用来找出导致问题的原因。分析的过程通常包括对芯片进行非常规测试,如X射线衍射、扫描探针显微镜和热分析等,以找出故障根源,如堆积缺陷、擦除缺陷、漏电等。2.质量控制半导体芯片失效分析实验室也可以用于质量控制,以确保每个芯片都符合准确的规格和标准。质量控制分析通常包括对芯片进行成品检验,如外观检查、电性能测量和可靠性测试等。半导体芯片失效分析实验室汇总1.北京软件产品质量检测检验中心芯片失效分析实验室(简称:北软检测)成立于2002 年7月。北软芯片失效分析实验室可以进行全流程的失效分析,可靠性测试,安全验证等。主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测(2D X-ray,3D X-ray)、超声波扫描显微就(SAT)、缺陷切割观察系统(FIB系统)、体式显微镜、金相显微镜、研磨台(定点研磨,非定点研磨,封装研磨)、激光黑胶层取出系统(自动decap,laser decap)、自动曲线追踪仪(IV)、切割制样模块、扫描电镜(SEM)、能谱成分分析(EDX)、交变温湿度试验箱、高温储存试验、低温存储试验、温湿度存储试验等。通讯地址:北京市海淀区东北旺西路8号中关村软件园3A楼联系人:赵工?2.南京微电子技术研究所半导体芯片失效分析实验室南京微电子技术研究所半导体芯片失效分析实验室是国内最早成立的芯片失效分析实验室之一。实验室配备有先进的设备和技术,可对芯片的物理结构、器件参数、芯片性能、线路连接等方面进行全面的分析和测试。3.上海半导体研究所失效分析实验室上海半导体研究所失效分析实验室成立于2005年,是一家具备IC生产能力的高新技术企业。实验室在芯片失效分析领域积累了丰富的经验和成果,并不断引入先进的设备和技术,为客户提供高水平的技术支持和服务。4.北京中科微电子有限公司失效分析实验室北京中科微电子有限公司是一家专业从事半导体封装测试与分析的公司。实验室配备有一批优秀的专业技术人员和一流的设备,能够为客户提供全面、高效的失效分析服务。5.惠州半导体失效分析中心惠州半导体失效分析中心是惠州市政府支持的创新创业平台,依托留学海归、国内外知名院校科研机构等优势资源,致力于半导体失效分析领域的研发和服务。6.中国电子科技集团公司第十四研究所该实验室成立于20世纪80年代,针对集成电路芯片的失效问题,建立了先进的实验室设备和完整的芯片失效分析技术流程。这些技术流程包括非常规样品处理、样品制备、分析测试和故障分析定位等。该实验室能够对各种类型的芯片进行失效分析,如DRAM、NOR FLASH、SRAM、Flip Chip等。7.中国电子科技集团公司第五十五研究所该实验室成立于20世纪90年代,主要研究领域是空间电子电路可靠性和失效分析。在芯片失效分析方面,该实验室研究了很多芯片失效的根本原因和解决办法。例如,该实验室率先提出了在高温下检测集成电路失效的方法,推出了系列失效分析和故障定位技术。8.中国航天科工集团有限公司第六十所该实验室成立于20世纪90年代初期,由中国第一位半导体芯片设计师胡启恒教授领导,主要研究集成电路的失效分析和检测。该实验室在失效分析方面的主要技术包括侵入式和非侵入式技术、信号分析、快速失效分析以及优化分析等。此外,该实验室还开创了集成电路失效分析的新技术领域。9.南京微米尺度材料分析与应用国家级实验室该实验室拥有完整的半导体芯片失效分析实验平台及技术团队,能够进行芯片性能评估、芯片分析、缺陷定位和失效机理研究等多方面的工作,可为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务。10.北京微电子所半导体芯片失效分析实验室该实验室依托于北京微电子所,能够利用所拥有的半导体芯片分析技术和完善的实验平台,提供专业的半导体芯片失效分析服务,包括芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。11.武汉微纳电子制造国家工程研究中心半导体芯片失效分析实验室武汉微纳电子制造国家工程研究中心依托于华中科技大学,其半导体芯片失效分析实验室拥有全套高端的半导体芯片失效分析仪器,为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务,涉及芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。12.上海微电子设备有限公司半导体芯片失效分析实验室该实验室作为上海微电子设备有限公司的技术支持,结合上海微电子设备有限公司的芯片检测与分析设备,可为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务,包括芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。以上仅是部分中国半导体芯片失效分析实验室,随着技术的不断更新和进步,相信未来将会涌现更多实验室,并且实验室之间也将进行更多的协作与交流,加速半导体芯片失效分析技术的发展和普及。国内较为知名的半导体芯片失效分析实验室还有中芯国际、台积电、联芯科技等。这些实验室拥有一流的实验设备和技术人才,可以开展多种类型的半导体芯片失效分析工作,并为客户提供专业的技术支持和服务。此外,在国际上也有多家著名的半导体芯片失效分析实验室,如SiliconExpert、IEEE Components Partitioning and Analysis Center等。这些实验室不仅具备高水平的技术装备和技术人才,还通过与多家知名公司合作,积累了丰富的经验和数据资源。同时,这些实验室还开展了大量的研究工作,不断推动半导体芯片失效分析领域的发展。总之,半导体芯片失效分析实验室在提高半导体芯片可靠性方面起着至关重要的作用。希望通过本文的介绍,可以帮助大家了解半导体芯片失效分析实验室的相关情况,为半导体芯片失效分析工作提供参考和支持。[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/05/202305240713065889_2888_3233403_3.png[/img]
[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=152866]关于半导体检测分析设备[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url]的日常维护[/url]摘要:介绍了半导体检测设备ICP—MS在半导体3-业中的发展及几个重要组成部件的功用,着重介绍了该设备各主要部件的维护。
半导体器件芯片内部失效分析 超声波扫描显微镜(扫描频率最高可以达到2G). 其主要是针对半导体器件 ,芯片,材料内部的失效分析.其可以检查到:1.材料内部的晶格结构,杂质颗粒.夹杂物.沉淀物.2. 内部裂纹. 3.分层缺陷.4.空洞,气泡,空隙http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1002.gif请点激链接:半导体器件芯片失效分析 芯片内部分层,孔洞气泡失效分析C-SAM的叫法很多有,扫描声波显微镜或声扫描显微镜或扫描声学显微镜或超声波扫描显微镜(Scanning acoustic microscope)总概c-sam(sat)测试。XRAY 与C-SAM区别XRAY:X射线可以穿过塑封料并对包封内部的金属部件成像,因此,它特别适用于评价由流动诱导应力引起的引线变形 在电路测试中,引线断裂的结果是开路,而引线交叉或引线压在芯片焊盘的边缘上或芯片的金属布线上,则表现为短路。X射线分析也评估气泡的产生和位置,塑封料中那些直径大于1毫米的大空洞,很容易探测到. 而小于1毫米的小气泡空洞,分层.就非常难检测到.用X射线检测芯片焊盘的位移较为困难,因为焊盘位移相对于原来的位置来说更多的是倾斜而不是平移,所以,在用X射线分析时必须从侧面穿过较厚的塑封料来检测。检测芯片焊盘位移更好的方法是用剖面法,这已是破坏性分析了。C-SAM:由于超声波具有不用拆除组件外部封装之非破坏性检测能力,根据其对空气的灵敏度非常强的特性.故C-SAM可以有效的检出IC构装中因水气或热能所造成的破坏如﹕脱层、气孔及裂缝…等。 超声波在行经介质时,若遇到不同密度或弹性系数之物质时,即会产生反射回波。而此种反射回波强度会因材料密度不同而有所差异.C-SAM即最利用此特性来检出材料内部的缺陷并依所接收之讯号变化将之成像。因此,只要被检测的IC上表面或内部芯片构装材料的接口有脱层、气孔、裂缝…等缺陷时,即可由C-SAM影像得知缺陷之相对位置C-SAM服务超声波扫描显微镜(C-SAM)主要使用于封装内部结构的分析,因为它能提供IC封装因水气或热能所造成破坏分析,例如裂缝、空洞和脱层。C-SAM内部造影原理为电能经由聚焦转换镜产生超声波触击在待测物品上,将声波在不同接口上反射或穿透讯号接收后影像处理,再以影像及讯号加以分析。C-SAM可以在不需破坏封装的情况下探测到脱层、空洞和裂缝,且拥有类似X-Ray的穿透功能,并可以找出问题发生的位置和提供接口数据。主要应用范围:· 晶元面处脱层· 锡球、晶元、或填胶中之裂缝· 晶元倾斜· 各种可能之孔洞(晶元接合面、锡球、填胶…等)· 覆晶构装之分析C-SAM的主要特性: 非破坏性、无损伤检测内部结构 可分层扫描、多层扫描 实施、直观的图像及分析 缺陷的测量及百分比的计算 可显示材料内部的三维图像 对人体是没有伤害的 可检测各种缺陷(裂纹、分层、夹杂物、附着物、空洞、孔洞、晶界边界等)C-SAM的主要应用领域: 半导体电子行业:半导体晶圆片、封装器件、红外器件、光电传感器件、SMT贴片器件、MEMS等; 材料行业:复合材料、镀膜、电镀、注塑、合金、超导材料、陶瓷、金属焊接、摩擦界面等; 生物医学:活体细胞动态研究、骨骼、血管的研究等;
[color=#000000]3月20日-22日,全球规模最大、规格最高的半导体业界盛会SEMICON China 2024在上海新国际博览中心举办。展会现场,TESCAN与代理商亚科电子共同亮相N2馆,展示了其卓越的半导体封装失效分析解决方案和整片晶圆无损检测方案。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202404/uepic/2cb54c88-0bd5-42d2-8350-3bcb08bf7e5d.jpg[/img][/align][color=#000000]对于[b]先进半导体封装失效分析的解决方案[/b],TESCAN带来了无损检测和破坏性分析的两类方案选项。[/color][b][color=#000000]无损检测方面[/color][/b][color=#000000],TESCAN推出了三款Micro-CT型号,具有不同的空间分辨率和适用范围,创新之处分别在于可以实现复杂的原位实验、全球唯一搭载能谱CT的高通量、多尺度micro-CT设备、以及同时实现亚微米空间分辨率和秒级时间分辨率的设备。[/color][b][color=#000000]破坏性分析方面[/color][/b][color=#000000],TESCAN引入了激光切割与等离子体FIB-SEM(PFIB)截面加工相结合的大体积工作流程,等离子FIB-SEM(PFIB)半导体器件的高质量平面逐层去层等创新技术。[/color][b][color=#000000]在整片晶圆无损检测方案方面[/color][/b][color=#000000],TESCAN提供了针对最大12寸晶圆的整片无损检测方案,通过特殊的超大样品室设计,可以适用于12英寸(300 mm)晶圆的缺陷检测和FIB样品制备,解决了以往晶圆裂片方式无法进行整片晶圆表征的问题。[/color][color=#000000]展会期间,仪器信息网就解决方案、竞争优势、行业发展趋势等话题采访了泰思肯贸易(上海)有限公司亚太区总裁李荣光。[/color][color=#0070c0][b]以下是现场采访视频:[/b][/color][color=#ff6428][/color][align=center][img]https://5-img.bokecc.com/comimage/D9180EE599D5BD46/2024-04-07/439274DE87C0D59DF3342D97BB1D6DF8-1.jpg[/img][/align][back=url(&][/back][font=Arial, Helvetica, sans-serif][size=12px][color=#ffffff]00:00[/color][/size][/font][font=Arial, Helvetica, sans-serif][size=12px][color=#ffffff]/[/color][/size][/font][font=Arial, Helvetica, sans-serif][size=12px][color=#ffffff]03:35[/color][/size][/font][back=url(&]B[/back][font=web][size=24px][color=#ffffff]T[/color][/size][/font][size=12px][color=#dddddd][back=rgba(51, 51, 51, 0.5)]高清[/back][/color][/size][size=12px][color=#dddddd][back=rgba(51, 51, 51, 0.5)]正常[/back][/color][/size][来源:仪器信息网] 未经授权不得转载[align=right][/align]
我们现在要搞一个LED半导体照明的检测中心,将来还要有能力出具检测报告。实验室,目前有5人,不是简单的实验室操作人员,而是将来实验室管理的负责人,问题是:我们现在不知道,要拿到哪些上岗证或者说是从业证?要具体的名称。谢谢
半导体气体传感器是利用半导体气敏元件作为敏感元件的气体传感器,是最常见的气体传感器,广泛应用于家庭和工厂的可燃气体泄露检测装置,适用于甲烷、液化气、氢气等的检测。 分类 对于半导体气体传感器,按照半导体与气体的相互作用是在其表面还是在其内部,可分为表面控制型和体控制型两种;按照半导体变化的物理性质,又可分为电阻型和非电阻型两种。电阻型半导体气体传感器是利用半导体接触气体时其阻值的改变来检测气体的成分或浓度;而非电阻型半导体气体传感器则是根据对气体的吸附和反应,使半导体的某些特性发生变化对气体进行直接或间接检测。
由于美国调整芯片出口规则,中国对芯片国产化的重视程度越来越高,并定下了2025年将芯片自给率提高到70%的目标,国内半导体行业也掀起了投资热潮。近年来,随着国家的对于集成电路产业的重视以及资本的支持,国内的集成电路产业发展迅速,但是与国外仍有不小的差距,特别是在上游的半导体材料等领域,更是差距巨大。不过,随着国内半导体制造的崛起,也推动了半导体材料的国产化进程。虽然目前各大主要品类的半导体材料领域均有国内企业涉足,但整体对外依存度仍在 60%以上,特别是大尺寸半导体硅片、光刻胶、电子特气等材料更为依赖进口,进口替代空间巨大。除技术难题外,还有一个阻绊我们半导体制造的崛起的难题:在芯片制程中要使用到极高毒性,腐蚀性及易燃性气体、液体和大量可燃性塑材。在目前工艺技术较为先进的半导体晶圆代工厂的制造过程中,全部工艺步骤超过450道,其中大约要使用50种不同种类的气体。一般把气体分为大宗气体和特种气体两种。大宗气体一般是指集中供应且用量较大的气体,特种气体主要有各种掺杂用气体、外延用气体、离子注入用气体、刻蚀用气体以及其他广为各种制程设备所使用的惰性气体等。如沉积工艺中作为所用的NH3氨气、O2氧气等,光刻时常用的H2氢气等,刻蚀时常用的HCL氯化氢、Cl2氯气、F2氟气等。热处理时常用的O2氧气和H2氢气等。腔室清洗时常用的卤化物HCI氯化氢、Cl2氯气、HF氟化氢、HBr溴化氢和O2氧气等以及离子注入法作为n型硅片离子注入磷源、砷源的PH 3磷化氢和AsH3砷化氢等。从以上的应用可以看出,气体在半导体晶圆代工厂有着非常重要的作用。因为各种气体的特性不同,所以要设计出不同的气体来满足各种不同制程的需求。[url=http://news.isweek.cn/wp-content/uploads/2022/07/QQ图片20220714171055.png][img=QQ图片20220714171055,401,300]http://news.isweek.cn/wp-content/uploads/2022/07/QQ图片20220714171055-401x300.png[/img][/url]半导体制造业所使用的特种气体一般按其使用时的特性,[b][b]可分为易燃性气体、毒性气体、腐蚀性气体、惰性气体和氧化性气体五大类。[/b][/b]隋性气体本身一般不会直接对人体产生伤害,在气体传输过程中,相对于安全上的要求不如以下其他气体严格。惰性气体具有窒息特性,不开阔空间下发生少量泄漏不会使人窒息而造成工伤事故;易燃性气体一般指可发生自燃、易燃的可燃气体。当环境温度达到一定时,PH3等气体也会产生自燃。可燃易燃气体都有一定的着火燃烧爆炸范围,即上限、下限值。此范围越大的气体起爆炸燃烧危险性就越高,属于易燃气体有H2,NH3,PH3, 等等;毒性气体是指在半导体制造行业中使用的气体很多都是对人体有害、有毒的。如PH3、NH3、HCL、CL2、AsH3、CO等气体在工作环境中的允许浓度极微,因此在贮存、输送以及使用的过程中都要求特别的小心。一般都应该采取特定的技术措施来控制使用这些气体;腐蚀性气体通常同时也兼有较强的毒性。腐蚀性气体在干燥状态下一般不易侵蚀金属,但在遇到水的环境下就显示出很强的腐蚀性,如HCl, HF, 等;氧化性气体有较强的氧化性,一般同时具有其他特性,如毒性或腐蚀性等。属于这类的气体有ClF3 ,Cl2,NF3等。半导体制造业被美国(FMS)组织列为”极高风险”的行业。主要是因为它在制程中要使用到极高毒性,腐蚀性及易燃性气体、液体和大量可燃性塑材,再加上无尘室的密闭作业环境及回风系统,所有这些因素都大大增加了半导体厂房的风险。作为半导体晶圆代工厂气体的使用者,每一位工作人员都应该在使用前对各种危险气体的安全数据加以了解,并且应该知道如何应对这些气体外泄时的紧急处理程序。一般来讲,我们将有三重保障来防范万一有意外发生的危险气体外泄进入到工作环境中。一个是特种气体的气瓶以及全部经过正负压测漏的气体输送管路;第二个是持续不断的排气抽风系统(Exhaust),管路节点如气瓶柜、VMB、工作台等均具有很强排气抽风系统,以确保每一管路节点外围都处于负压环境。若发生微量的有毒气体的泄漏,排气抽风系统将第一时间抽出。另外一个很重要的是:根据现行国家标准[b][b]《特种气体系统工程技术规范》GB50646-2011[/b][/b]和[b][b]《有毒气体检测报警仪技术条件及检验方法》HG23006[/b][/b]中的有关规定,同时结合半导体工厂使用气体检测装置产品的快速响应要求作出检测报警响应时间规定。要求处于抽风口或环境点安装[b][b]毒性气体侦测器[/b][/b]及系统,若发生任何有毒气体的泄漏将会被气体侦测系统所侦测到,这个控制系统将根据气体外泄对人体危害的大小来确定整个气体输送系统的相关互锁动作,严重时紧急关闭上游所有气源,同时会驱动中央控制室和现场的相关报警系统LAU,甚至会驱动全厂的自动语音广播系统通知立即疏散,要求相关人员迅速撤离报警区域。因此只要工程技术人员严格按照所制定的标准作业程序操作,所有这些安全装置都将确保人员不会有安全上的顾虑。[b][b]工采网提供监测[/b][/b]一氧化碳CO、氨气NH3、氧气O2、氯化氢HCL、氯气CL2、氟化氢HF、磷化氢PH3和氢气H2等有毒有害/易燃易爆气体传感器,是针对半导体制造业毒气监测应用的专业级传感器产品,传感器寿命长,可长时间稳定持续监测,可大大降低半导体制造业毒气监测成本,实现大范围安装应用,为半导体制造业毒气监测提供了切实可行的安全生产监测解决方案。具体产品如下:[url=http://news.isweek.cn/wp-content/uploads/2022/07/QQ图片20220714171413.png][img=QQ图片20220714171413,756,222]http://news.isweek.cn/wp-content/uploads/2022/07/QQ图片20220714171413.png[/img][/url]
荏原株式会社宣布,已开发出2种环保型无汞臭氧监测仪。该公司开发、设计、制造和维护正确使用臭氧所需的臭氧监测仪,以及结合了预处理系统和臭氧监测仪的臭氧浓度测量设备,以便在各种条件下进行精确测量。 它被用于许多领域,例如供水和污水处理设施的先进处理工艺以及半导体工厂的制造工艺。 为了应对社会对环境的日益关注,新开发的产品组的特点是采用UV-LED作为光源,在实现无汞使用的同时,实现高精度测量。第一类新产品是EG-3100系列,这是一款用于水和污水处理设施的高精度臭氧监测仪,它不含汞,并采用公司独特的发光校正技术,实现了与低压汞灯相同的精度。 除了提供涵盖水净化过程中臭氧处理中所有气体测量点的产品阵容外,该公司还实现了高精度和高分辨率,因此可以应用于研发应用。第二种是EG-690,这是一款用于半导体制造工艺的在线臭氧监测仪,与EG-3100系列一样,不含汞,并达到与低压汞灯产品相同的精度。 此外,它具有占地面积小的特点,可以在线安装在半导体制造工艺(生产线)的臭氧气体管道中,适用于设备嵌入。EG-3100 系列和 EG-690 的订单计划于 2024 年 4 月开始。[来源:仪器信息网译] 未经授权不得转载[align=right][/align]
Heller PCO-700真空压力烤箱是一种槁端的电子元器件封装设备,具有多项优良特性。该设备占地面积小,手动操作方便,蕞大工作压力可达8bar,蕞高工作温度为200℃。用户可以根据需要选择使用氮气、洁净室或真空功能。这款半导体芯片压力烤箱设备广泛应用于封装胶注入、晶片粘接、晶圆压合和薄膜胶带粘合等领域。其中,在电子封装领域中应用较为广泛的是Underfill固化和Die Attach固化技术。[img=,690,847]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307211129403027_1076_5802683_3.jpg!w690x847.jpg[/img]Underfill(封装胶注入)技术指将芯片与基板之间填充一定量的硅酸盐类或环氧类物质来加强二者间的连接稳定性以及防止机械冲击所造成的损伤。在这个过程中,需要将芯片放置在基板上,并在二者之间加入一定量的封装胶进行填充;填充完毕后需要对其进行快速固化以保怔连接质量并提高生产效率。Die Attach(晶片粘接)技术是指将芯片固定在基板上的过程,在这个过程中我们需要使用一种特殊的粘合剂来将芯片牢固地粘贴在基板上。与传统手工操作相比,使用Heller PCO-700半导体芯片压力烤箱可以大幅提高产品生产效率和减少人员误差。[img=,690,706]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307211129507334_1934_5802683_3.jpg!w690x706.jpg[/img]HELLER企业是一家专业从事电子制造设备开发、销售和服务于一体的企业。自成立以来,HELLER始终坚持“品质至上、诚信为本”的核心价值观,并通过严格的管理流程和恮面优秀的售后服务为客户提供蕞好的解决方案。HELLER公司拥有超过55年在电子行业领域的经验和强大实力。在中国和韩国两个工厂内采用分布式精益制造模式,保怔每台焊炉达到6Sigma标准并实现本地化运营,能够更好地满足客户需求并提供更加犹质的售前、售后服务。[img=,690,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307211130093302_7745_5802683_3.jpg!w690x517.jpg[/img]HELLER公司还注重与客户之间直接沟通,定期拜访客户并聆听他们宝贵的意见,以不断改进产品和服务。因此,在电子封装行业中,HELLER品牌的设备备受客户青睐,并取得了良好的口碑。Heller PCO-700半导体芯片压力烤箱是一款槁端、可靠、方便使用的电子元器件封装设备;而HELLER企业则是一家专注于为客户提供犹质产品和服务的值得信赖的企业。相信在未来,这两者都会持续发展壮大,并为行业带来更多创新性解决方案。您正在寻找一家提供半导体设备和材料的可靠供应商吗?苏州仁恩机电科技有限公司将为您提供一站式解决方案,满足您的需求。联系方式:请联系我们以获取更多信息。
AI技术如何助力半导体失效分析? [b]来源:[color=#ff0000] 黄承梁 蔡司显微镜 2024年08月13日 08:01 江苏[/color][/b] 随着显微镜技术的发展,半导体用户对显微镜的需求已经不仅仅停留在微观结构的成像上,而是希望通过[b]硬件和软件方案的相结合,提高失效分析(FA)的效率、准确率,并尽可能的减少人工操作带来的不确定性。[/b] 为此,蔡司提供[b]客制化的软件解决方案[/b],利用AI技术,在分类(classification)、图像分割(segmentation)和图像处理(processing)三大应用方向上助力半导体失效分析。 [img=,690,354]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061534025783_9117_2942222_3.jpg!w690x354.jpg[/img] [b]01 图像处理: 提升SEM短扫描时间图像的质量[/b] SEM成像的一大挑战是快速的扫描和高信噪比的图像的矛盾。有时候为了追求高效率的分析或者减少电子束对敏感样品的辐照,我们会减少电子束扫描时间,但这会由于信噪比降低而影响图像质量。[b]使用AI降噪技术,我们在不丢失图像细节的情况下提升了原始图片的信噪比,从而兼顾了高效率和高图像质量。 [img=,690,394]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061534258081_4451_2942222_3.jpg!w690x394.jpg[/img]02 图像处理: 提高XRM大视野扫描的分辨率[/b] 在三维X射线无损分析中也面临着类似的难题。高分辨的成像意味着缩小成像视野,有没有方法可以实现高效的大视野高分辨成像呢?利用[b]基于深度学习的DeepScout功能[/b],我们使用局部的高分辨扫描作为训练模型,把大视野(LFOV)扫描的低分辨图像恢复成高分辨图像,从而实现了[b]大视野和高分辨兼得,把分析效率提升了数倍。 [img=,690,324]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061534476641_1527_2942222_3.jpg!w690x324.jpg[/img][/b] [i][font=等线]▲蔡司X射线显微镜三维成像的先进封装样品虚拟截面,左:大视野扫描的原始图片;右: [i]AI恢复处理的高分辨图片[/i] [b]03 图像分割和分类: 从SEM图片中提取缺陷并分类[/b] 在化合物半导体的衬底缺陷检测中,需要的对大量的SEM图片(如CL或ECCI图片)进行分析,区分并统计缺陷类型。[b]借助机器学习算法,我们能够准确地从ECCI图片的背景中提取出位错和表面颗粒物的分布,自动完成缺陷分类和缺陷密度的计算。 [img=,690,345]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061535038929_4618_2942222_3.jpg!w690x345.jpg[/img][/b] [i]▲蔡司场发射扫描电镜拍摄的GaN晶圆的电子通道衬度图像(ECCI),左:原始图片;右:AI图形识别和分割处理后,红点为表面颗粒物,黄点为位错分布[/i] [b]04 分类和定制化的自动工作流程: 自动寻找目标结构、拍图和识别异常[/b] 我们还可以把一种或多种AI的显微镜应用和自动化的显微镜操作结合,形成[b]全自动的完整分析流程[/b]。例如这一案例中用户需要对样品上特定区域的DRAM晶体管进行连续的大面积拍摄,然后识别并分析异常。我们提供了完整的自动化工作流程,使电镜能够在数毫米长宽的样品上自动寻找所有的目标结构,把目标结构居中,并自动调节倍率、对焦、亮度对比度,成像保存,然后移动到下一位置重复上述步骤,最后在所有的图片中识别出异常结构。 [img=,690,219]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061536252137_1491_2942222_3.jpg!w690x219.jpg[/img] [i]▲使用可视化编程工具实现自动的DRAM样品拍摄和异常结构检测[/i] 可以看到[b]AI技术的快速发展为显微分析和失效分析带来了创新和便利[/b],把AI和显微镜结合在一些半导体失效分析场景可以[b]提高分析效率及减少人为错误,从繁琐的重复性工作中解放工程师的双手,从而极大地提高实验室的产出。[/b][/font][/i]
一、中国大陆半导体产业发展现状 (一)高速发展的中国大陆半导体产业 中国大陆由於PC、手机及数位消费电子等整机产品的制造向中国大陆地区转移,带动了上游晶片市场需求的增加,半导体市场规模首次突破人民币2000亿元,总销售额达到人民币2074.1亿元,增长率高达41%。其中,PC首次成为中国大陆半导体市场最大的应用领域,对高阶晶片的需求量也大幅增长。 从2001年开始,全球半导体业的平均资本支出每年萎缩了30%,而中国大陆半导体业的资本支出年增长率却高达50%。目前中国大陆地区有中芯国际、上海先进、华虹NEC、和舰和宏力五个主要晶圆代工厂,光是8英寸晶圆厂就达8个,总月产能达到15.5万片,较2003年单月的8.4万片大幅增长83%。 在未来几年,受到中国大陆经济高速增长的拉动、政策的扶持、2008北京奥运会以及2010上海世博会等众多因素的影响,中国大陆半导体需求将持续高速增长,预计2004年中国大陆半导体市场销售额将达到人民币2800亿元,到2008年市场规模将达到人民币6000亿元以上。 (二)不断追赶高端技术 虽然中国大陆的半导体制造制程整体上落后於台湾,但由於近年来的迅猛发展,中芯国际、宏力、苏州和舰等晶圆代工厂陆续进入了0.18mm制程的量产阶段,中国大陆各主要晶圆代工厂都有计划在今年年底前导入0.13mm的制程。而且,为了能与晶圆代工业巨头台积电、联电相抗衡,中国大陆晶圆代工报价普遍低於台湾,正不断蚕食台、联两家的市场份额。 从2004起,中国大陆前4大晶圆代工厂相继导入0.18mm制程,直到产品的量产,相关的制程技术已经达到了成熟阶段,且中国大陆晶圆代工厂在技术上也在快速追赶台湾晶圆厂。 对於半导体设计业,整机生产的下游客户大多集中在中国大陆地区,中国大陆晶圆厂又有能力提供越来越先进的制程,部分台湾半导体设计业者甚至计画将主力产品转移至中国大陆代工厂。 因此,在市场规模迅速扩大的同时,中国大陆半导体的制造工艺与国际先进水准将日益缩小,0.13mm的晶片制造将规模化,0.09mm的工艺也将走向市场,系统晶片(SoC)将成为发展的主 要方向。 (三)中国大陆半导体产业的地区分布 从地域上来看,中国大陆半导体产业主要分布在长江三角洲、京津环渤海湾和珠江三角洲地区,三个地区的产值占全中国大陆半导体行业产值的95%以上。 在三大经济区域中,由於长三角地区近几年的高速发展,成为中国大陆地区半导体最主要的开发和生产基地,在中国大陆半导体产业中占有重要地位。在半导体设计方面,长三角地区的半导体设计业销售额占中国大陆地区的45%左右。晶圆制造约占中国大陆的70%左右,2003年近80%的封装测试企业和近65%的封装测试量都集中在长三角地区。目前,长三角地区已形成半导体设计、制造、封装、测试及设备、材料等配套齐全、较为完整的半导体产业链。在半导体产业链下游整机部分,长三角地区的笔记型电脑产量占中国大陆的80%,DVD产量占50%以上。目前,长三角地区已经有上海张江开发区、苏州工业园、无锡等众多电子园区和上海、杭州、无锡三个半导体设计产业化基地,还有常州高新技术开发区和常州新区。中芯国际、宏力半导体、先进和华虹NEC都落户在上海张江开发区;台积电落户在了上海松江开发区;和舰落户在苏州工业园。这些晶圆生产企业带动了集群效应,初步形成了长三角地区半导体设计、晶圆制造、封测、设备材料企业以及下游整机生产完整的半导体产业链。 在京津环渤海区域,有北京、天津、山东、河北、辽宁行政区域,其中北京、天津的资讯产业在中国大陆占有重要地位。中国大陆第一座12英寸晶圆厂,中芯国际四厂正是设在北京经济技术开发区;现被中芯国际收购的原摩托罗拉8英寸晶圆厂位於天津。晶圆生产业是高耗水工业,而且对水质和空气的品质要求非常高。但北京地区面临缺水的环境以及沙尘暴气候,这无疑增加晶圆生产的成本,不过,北京在发展环境、市场条件、技术基础和人才资源上的优势大大抵消了环境上的影响。 珠江三角洲地区是中国大陆地区电子产品的重要制造地,集中了大量的下游整机制造商,对进口半导体产品的依赖程度极高,消费量占中国大陆进口总量的80%以上。 二、中国大陆半导体的优惠扶持政策 半导体业在中国大陆的迅速发展,尽管有中国大陆中央政府和地方政府在土地、环境、手续等方面的大力支持,也有中国大陆市场的巨大需求和运作成本较低等因素的存在,但不可否认的是,目前中国大陆政府所颁布的各种优惠政策和给予的各种优惠措施也同样功不可没。其中,首当其冲的是国务院在2000年颁布和实施的《鼓励软体产业和积体电路产业发展的若干政策》,即业界所称的“18号文件”。其次,中国大陆财政部、税务总局、海关总署和各地政府还分别在自己的责任范围内为鼓励半导体行业制定了优惠政策的实施细则,如关於《鼓励软体产业和积体电路产业发展有关税收政策问题》的通知(财税[2000]25号)、《财政部、国家税务总局关於进一步鼓励软体产业和积体电路产业发展税收政策的通知》(财税〔2002〕70号)、上海市《关於本市鼓励软体产业和积体电路产业发展的若干政策规定》、《江苏省鼓励软体产业和积体电路产业发展的若干政策》等。这些政策的颁布为半导体产业链上游的半导体设计、中游的晶圆生产、下游的封装测试环节给予了优惠,进一步推动半导体产业在中国大陆的发展。 (一)在半导体设计企业方面 “18号档”将半导体设计企业视同於软体企业,享受与软体企业同等优惠。而依据18号档和其他相关档可知,半导体企业优惠政策主要为: 1、 所得税方面,可以享受自获利年度开始“两免三减半”的优惠政策; 2、 增值税方面,在销售自行设计的半导体产品时,可以享受“2010年前按17%的法定税率徵收增值税,对实际税负超过3%的部分即徵即退”的优惠; 3、 对经认定的半导体设计企业引进半导体技术和成套生产设备,单项进口的半导体专用设备与仪器,除国务院规定的《外商投资专案不予免税的进口商品目录》和《国内投资项目不予免税的进口商品目录》所列商品外,免徵关税和进口环节增值税; 4、 半导体设计企业设计的半导体,如在境内确实无法生产,可在国外生产晶片,其加工合同(包括规格、数量)经行业主管部门认定后,进口时按优惠暂定税率徵收关税; 5、 半导体设计企业的工资和培训费用,可按实际发生额在计算应纳税所得额时扣除; 6、 企业对购进半导体产品,凡购置成本达到固定资产标准或构成无形资产,可以按照固定资产或无形资产进行核算。投资额在3000万美元以上的外商投资企业,报由税务总局批准;投资额在3000万美元以下的外商投资企业,经主管税务机关核准,其折旧或摊销年限可以适当缩短,最短可为2年。 不过要提醒注意的是,要享受这样的优惠条件,半导体设计企业应按照《积体电路设计企业及产品认定管理办法》之规定获得资讯产业部和税务总局的认定,并取得《积体电路设计企业认定证书》和《积体电路产品认定证书》。 (二)关於半导体生产企业方面 按照目前半导体企业的分类可知,除了半导体设计企业之外,其他制造、封装测试等企业都属於半导体生产企业,根据“18号档”和其他相关规定可知,目前中国大陆对於半导体生产企业的优惠政策主要有: 1、所得税方面:作为生产性企业,可以依照《外商投资企业和外国企业所得税法》等规定,享受“两免三减半”之税收优惠。 2、增值税方面: 半导体生产企业销售自己生产的半导体产品(含单晶矽片),2010年前按17%法定税率徵收增值税,对实际税负超过3%的部分即徵即退;对投资超过80亿人民币或半导体线宽小於0.25微米的,企业所得税为“五免五减半”。 3、对经认定的半导体生产企业引进半导体技术和成套生产设备,单项进口的半导体专用设备与仪器,除国务院规定的《外商投资专案不予免税的进口商品目录》和《国内投资项目不予免税的进口商品目录》所列商品外,免徵关税和进口环节增值税。 4、投资额超过80亿元人民币或半导体线宽小於0.25微米的半导体生产企业,除了享受所得税“五免五减半”之外,对於其进口自用生产性原材料、消耗品,免徵关税和进口环节增值税。 5、对於半导体生产企业的生产性设备,投资额在3000万美元以上的外商投资企业,报由税务总局批准;投资额在3000万美元以下的外商投资企业,经主管税务机关核准,其折旧年限可以适当缩短,最短可为3年。
半导体生产:在晶圆的制备过程中,由于生产流程长,工序繁多,不可避免的会遇到污染,那么该如何分析检测这些濡染物呢?如何评价清洗工序的清洗的效果呢?可以考虑采用飞行时间-二次离子质谱仪来检测。样品制备:飞行时间-二次离子质谱仪作为一种表面分析工具,对样品制备要求非常严格。样品分析的表面绝对不能接触任何包装物,尤其是防静电袋,双面胶等等,这些都会对样品进行污染,常见的污染特征峰,防静电剂:阴离子:311,325,339等,对于双面胶其常见的污染物峰为(硅氧烷):阳离子:28,43,73,143,281 等等,另外,样品也不能在空气或者办公室内放置过长时间,要不同样会测到大量污染物,而测不到污染物下面的成分,因为,其分析深度只有3~6nm。例如,在晶圆的表面上永远都可以测到大量的CH峰,其本质原因就是生产工艺或者空气中的CH化合物吸附在其表面。众所周知,其分析的检测限为ppm~ppb,相当高。所以,样品制备要极其严格。数据处理:一般上分析过程中要考虑,组合峰的出现,比如我们在分析单晶硅得时候,样品表面会不可避免地出现(正离子)14,27,28,45,等等一系列的峰,首先要学会辨认他们。比如28,它可能是Si28,也可能是c2h428,如何区分他们,这就需要经验。欢迎大家分享自己的经验。
半导体系统专用高精度控制电源应用在国内半导体行业中,无锡冠亚的半导体系统专用高精度控制电源中每个配件都是很重要的,其中,关于水泵是比较重要,我们也需要对其有一定的认识。 半导体系统专用高精度控制电源是一类广泛应用于国内工业生产领域的专业制冷设备,在半导体系统专用高精度控制电源中,水泵的运行是否正常对于保证低温半导体系统专用高精度控制电源设备的正常运转是非常重要的,定期对低温半导体系统专用高精度控制电源的水泵进行检测是非常关键的,那么,怎样合理的评估和检测低温半导体系统专用高精度控制电源水泵的情况好呢? 半导体系统专用高精度控制电源水泵的情况在较大程度上影响着低温半导体系统专用高精度控制电源设备的整体运行。在半导体系统专用高精度控制电源工作的时候,水泵在运行中,应注意检查各个仪表工作是否正常、稳定,特别注意电流表是否超过电动机额定电流,电流过大,过小应立即停机检查。 另外,半导体系统专用高精度控制电源设备的水泵相关工作系统能够较好的反映半导体系统专用高精度控制电源设备的工作状态。比如,水泵流量是否正常,检查出水管水流情况,根据水池水位变化,估计水泵运行时间,及时与调度联系。同时,还要检查水泵填料压板是否发热,滴水是否正常,每班不得少于八次。 半导体系统专用高精度控制电源的水泵性能是很关键的,需要我们认真对待,认真保养,只有每个配件的性能都可以的话,半导体系统专用高精度控制电源才能更好的使用。
http://www.kte99.com/UploadFiles/FCK/半导体放电管%20DO-15.png 半导体放电管 经特别设计专为保护敏感的电信设备免受浪涌和其他瞬态过压器件,该系列产品能够处理非常高的浪涌电流,并稳定的电气特性,高可靠性,低电容及可编程等先进特性。 特点: ·双向对称,D0-15封装形式 ·高浪涌能力 ·高断态阻抗,低漏电 ·低通态电压 典型应用: ·中央办公室交换设备,模拟和数字线路等(xDSL, T1/E1, ISDN...) ·客户端设备如电话,传真机,调制解调器,POS终端,PBX系统及来电显示盒。主要保护模块 配线架, 楼宇安全及中心保护模块。 ·接入网络设备,如远程终端,线路中继器,多路复用器,交叉连接,广域网设备,网络接口设备 ·数据线和安全系统。 ·有线电视线路放大器和逆变器。 ·自动喷水灭火系统。