薄膜激光位量仪

材料的热物理性质以及最终产品的传热优化在工业应用领域变得越来越重要。经过几十年的发展，闪射法已经成为常用的用于各种固体、粉末和液体热导率、热扩散系数的测量方法。薄膜热物性在工业产品中正变得越来越重要，如：相变光盘介质、热电材料、发光二极管（LED ） ，相变存储器、平板显示器以及各种半导体。在这些工业领域中，特定功能沉积膜生长在基底上以实现器件的特殊功能。由于薄膜的物理性质与块体材料不同，在许多应用中需要专门测定薄膜的参数。基于已实现的激光闪射技术，LINSEIS TF-LFA 薄膜导热测试仪(Laserflash for thin films)可以测量80nm——20μm厚度薄膜的热物理性质。 1.瞬态热反射法（后加热前检测（RF））:由于薄膜材料的物理性质与基体材料显著不同，必需要有相应的技术来克服传统激光闪射法的不足，即瞬态热闪射法。测量模型与传统激光闪射法相同：检测器和激光器在样品两侧。考虑到红外探测器测试薄膜太慢，因此检测是通过热反射方法完成的。该技术的原理是材料在加热时，表面反射率的变化可最终用于推导出热性能。测量反射率随时间的变化，得到的数据代入包含的系数模型里面并快速计算出热性能。2. 时域热反射法（前加热前检测（FF））:时域热反射技术是另一种测试薄层或薄膜热性能（热导率，热扩散率）的方法。测量方式的几何构造被称为“前加热前检测（FF）”，因为检测器和激光在样品上的同一侧。该方法可以应用于非透明基板上不适合使用RF技术的薄膜层。 3. 瞬态热反射法（RF）和时域热反射法（FF）相结合:两种方法可以集成在一个系统中并实现两者优点的结合。温度范围*RT RT -- 500°C-100°C -- 500°C 激光器 Nd:YAG 激光脉冲电流≤90mJ (软件控制)脉宽8 ns激光探头HeNe-激光器 (632nm), 2mW前端热反射 Si-PIN-Photodiode, 有效直径: 0.8 mm, 直流电压 … 400MHz, 响应时间: 1ns后端热反射quadrant diode, 有效直径: 1.1 mm直流电压 … 100MHz, 响应时间: 3.5ns测量范围0,01 mm2/s -- 1000 mm2/s样品直径圆形样品 φ10...20 mm 样品厚度80 nm -- 20 μm样品数量6样品自动进样器气氛惰性、氧化性、还原性真空度10E-4mbar电路板集成式接口USB *可更换炉体*价格范围仅供参考，实际价格与配置等若干因素有关。如有需要，请拨打电话咨询。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。

总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司，已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司，拥有60多名员工，他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献，我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴，我 们诚挚期待您的加入。薄膜测量仪器反射膜厚仪RM 1000和RM 2000扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量，光学布局的高光导允许对n和kffl 行重复测量，对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量. 紫外-近红外光谱葩围 RM 1000 430 nm-930 nm RM 2000 200 nm - 930 nm 高分辨率自动扫描 反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。综合薄膜测量软件FTPadv Expert宽光谱范围和高光谱精度 SENresearch4.0光谱椭偏仪覆盖宽的光谱范围，从190 nm（深紫外）到3500 nm（近红外）。 傅立叶红外光谱仪FTIR提供了高光谱分辨率用以分析厚度高达200|jm的厚膜。 没有光学器件运动（步进扫描分析器原理） 为了获得测量结果,在数据采集过程中没有光学器件运动。步进扫描分析器（SSA）原理是SENrsearch4.0光谱椭偏仪的一个独特特性。 双补偿器2C全穆勒矩阵测量 通过创新的双补偿器2C设计扩展了步进扫描分析器SSAJ京理，允许测量全穆勒矩阵。该设计是可现场升 级和实 现成本效益的附件。 SpectraRay/4综合椭偏仪软件 SpectraRay/4是用于先进材料分析的全功能软件包,SpectraRay/4包括用于与引导图形用户界面进 行研究的交互 模式和用于常规应用的配方模式.激光椭偏仪SE400adv亚埃精度稳定的氣氤激光器保证了 0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。 扩展激光欄偏仪的极限 性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折 射率、消光系数和膜厚. 高速测量 我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检 测，或者做样品均匀性的自动扫描。综合薄膜测量软件FTPadvExp测量n, k,和膜厚 该软件包是为R（入）和T（入）测量的高级分析而设计的。 查层膜分析 可以测量单个薄膜和层畳膜的每一层的薄膜厚度和折射率. 大量色散模型 集成的色散模型用于描述所有常用材料的光学特性。利用快速拟合算法，通过改变模型参数 将计算得到的光谱调整到实测光谱。

实用高速薄膜易撕线激光打标机厂家热销易撕线激光打孔机工艺流程1.了解打孔材料以及打孔要求，易撕线激光打孔机使用于PE、PVC、PET等各种薄膜材质，以及饮料、食品、种子粮油等行业的薄膜软包激光打孔，根据加工要求的不同，可配合不同的生产流水线加工和制作易撕线和透气孔2.模拟实验与检测，初次打标需要对机器做一些相关调试，上下位置调节，激光头旋转调节等，使得打出的样品符合生产的需求，然后保存相关标刻参数，以便下次直接打标。3.设计程序，控制软件采用WINDOWS界面，可兼容CORELDRAW 、AUTOCAD 、PHOTOSHOP等多种图像软件输出的文字，支持PLT PCX BMP DXF 等多种常用图像软件格式，可直接使用SHX TTF 字库，支持自动编码，可变文本系列号、批号、日期，各种条形码及二维码的打标，可根据客户生产线的不同需要灵活修改4.操作激光打标机，易撕线激光打标机通过调整输出功率控制切割深浅；通过调整频率控制打点的疏密，形成点划线、点状线、直线易撕线，可以配合传统设备分切机、制袋机、合掌机等一起使用。设备概述： 随着激光应用领域越来越广泛，激光对薄膜包装行业应用也得到进一步提升，激光加工成为了PE、PVC、PETD等薄膜加工行业新的工艺标准。武汉三工激光是国内针对薄膜包装行业提出激光代替机械加工工艺的企业，专为薄膜易撕线、定量透气孔设计，打标速度快，设备易操作，性能稳定，使用寿命长等。SCM-55Y集合了激光技术、光学技术、精密机械、电子技术、计算机软件技术以及制冷等学科于一体的高科技产品，与传统的机械齿轮压孔相比速度更快，孔径孔距大小可调更加均匀，可以实现任意方向任意形状易撕孔标刻。该设备应用先进的激光加工技术，计算机整体控制，该激光打标机具有光束质量好，系统性能稳定，免维护，适合大批量、多品种、高速度、高精度连续生产的工业加工现场。 设备SCM-55Y-4为4台55瓦相干（美国进口）射频管激光器，采用独立板卡分别控制或者单板卡4控（一拖4结构），符合任意4种不同产品拼版打标，互相无干扰。设备架设在喷码机、分切机、制袋机等速度质量无影响，能够有效快速的生产1进4出，从而提高生产效率。设备架设4个激光头，均可以独立控制，根据实际加工产品的数量任意调整激光头出光。机械部分可以实现多个方向调整定位，传感器（日本进口）、编码器根据生产情况要求配备，本方案配备为2-4套，满足生产过程中的准确定位和检测。设备优点：1、进口激光器 ：专为工业生产的工业级激光器，更快打标速度，设备在线飞行标刻易撕线速度280-300m/min（根据工艺而定）2、进口振镜 ：先进的数字技术进口扫描头，确保满足24小时长期连续高效的连班生产激光加工需求。幅面300×300mm范围内实现标刻、切割任意图形。3、进口光学器件：采用全封闭光路，高精度，更细光斑尺寸，更均匀光学质量4、高精度传感器：旋转模拟编码器（国产） 检测流水线速度；RGB传感器(日本进口) 精确高速定位飞行打标位置5、数字技术 ：更精细光斑质量，抗干扰，能够长线传输。严格多重保护控制设计（电网电压欠压保护，工作电流过流保护，冷却循环水流量、水位、水温保护），6、XYZ三维支架 ：三维可调工作支架，工作台面可从XY方向精密定位，标准定位孔，让操作定位简单，精确。7、模块设计 ：专用控制软件，实现任意形状标刻，后期模块维护方便。适用材料PE、PVC、PET等各种薄膜材质，多层符合薄膜等表面的激光易撕线，激光透气孔等工艺。适用行业广泛应用于食品印刷包装、饮料热封标签、医药外包、日用化妆品收缩膜等多种薄膜行业的定量透气孔、易撕口、热封标签激光标刻。

1. 产品概述SENTECH SE 500adv结合了椭圆偏振法和反射法，消除了测量透明薄膜层厚的模糊性。它将可测量的厚度扩展到 25 μm。因此，SE 500adv 扩展了标准激光椭偏仪 SE 400adv 的功能，特别适用于分析较厚的电介质、有机材料、光刻胶、硅和多晶硅薄膜。2. 主要功能与优势明确的厚度测定椭圆偏振法和反射法的结合允许通过自动识别循环厚度周期来快速、明确地确定透明薄膜的厚度。大的测量范围激光椭偏仪和反射仪的结合将透明薄膜的厚度范围扩展到 25 μm 或更多，具体取决于所选的光度计选项。突破激光椭圆偏振仪的限多角度手动测角仪具有优秀的性能和角度精度，可以测量单片和层叠的折射率、消光系数和膜厚。 3. 灵活性和模块化SENTECH SE 500adv 可用作激光椭偏仪、膜厚探头和 CER 椭偏仪。因此，它提供了标准激光椭偏仪无法达到的大灵活性。作为椭圆仪操作，可以执行单角度和多角度测量。当作为膜厚探头操作时，透明或弱吸收膜的厚度是在正常入射下测量的。SE 500adv 中的椭圆偏振法和反射仪 （CER） 组合包括椭偏仪光学元件、测角仪、组合反射测量头和自动准直望远镜、样品平台、氦氖激光源、激光检测单元和光度计。

1.产品概述：系统由真空腔室（外延室、进样室）、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成。2.设备用途：脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比，脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程，因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜，非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜，显示出了诱人的应用景。3.真空室：真空室结构:球形开门双室真空室尺寸:镀膜室尺寸：Ф450mm ；进样室尺寸：Ф150x300mm限真空度:镀膜室≤6.0E-8Pa；进样室：≤6.0E-5Pa沉积源:φ2英寸靶材，4个；或φ1英寸靶材，6个样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约2.8米x1.3米x1.9米电控描述:部分电动控制特色参数 :配备高能电子衍射仪、氧等离子体发生器

耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的微米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Nano TR遵循国际校准标准 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Nano TR温度范围RT，RT … 300°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度30nm … 20μm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns光束直径 100μm激光功率 100mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

PLD技术在薄膜制备方面的优势和特点:脉冲激光沉积技术是目前火热薄膜制备技术, 利用PLD技术制备薄膜具有很好的可控性和可设计性, 可通过控制材料成分、激光能量密度、气压、气体、基底材料、沉积角度等, 来实现薄膜的各种功能和结构. 另外, PLD 可以在室温下进行沉积 然而, 目前PLD还有一些技术和工程上的难题需要解决, 例如, PLD会出现相爆炸等效应, 引起大颗粒飞溅, 从而增大薄膜的表面粗糙度, 降低薄膜质量 另外, 大面积均匀沉积也是目前PLD实现大规模工业化生产的一大瓶颈 芬兰Pulsedeon的ColdAb技术基于皮秒, 飞秒短脉冲激光薄膜沉积技术, 可从源头遏制引起薄膜不均匀的微粒及飞溅效应, 且配合独特的设计和功能配置, 从而被证实在制备大面积高质量薄膜方面有优势, 且可实现全自动产业化.凭借这些技术特点, Pulsedeon受邀成为欧盟LISA锂硫电池, PulseLion全固态电池项目中PLD薄膜沉积工艺参与者.PLD制备高性能薄膜拥有很多的优势，总结如下:1）PLD制备的薄膜材料类型非常广泛。由于高能量密度的激光可以烧蚀大多数材料，包括难融材料和特殊材料，并且材料之间还可以组合成复合材料，这又提高了可制备材料体系的丰富度，因此脉冲激光制备的薄膜材料不受材料类型的限制，拥有庞大的材料体系。2）PLD制备的薄膜结构和形貌可控。PLD可以通过控制激光能量密度、背景气压、背景气体种类、基底材料种类、基底温度、沉积倾斜角度等参数实现对产物结构和形貌的控制，实现不同晶体结构、不同疏松度形貌、不同颗粒形状尺寸薄膜的制备，这使得薄膜性能具有很好的可调控性。3）利用PLD的保组分性能够很容易地实现薄膜成分控制，易获得期望化学计量比的多组分薄膜，有利于制备多元复杂化合物和合金薄膜。4）薄膜生长所需的基底温度相对较低，且与基底结合力强。由于高能量密度的脉冲激光轰击的原子(离子)具有很高的能量，不需要很高的基底温度就可以在基底表面自由迁移，因此与传统方法相比，PLD的薄膜生长温度更低，甚至可以在室温下沉积高质量的薄膜，在不耐高温的柔性基底上沉积薄膜以制备柔性器件。5）沉积效率高。文献中所报道的PLD沉积效率可达10 μm/min以上。欧盟PulseLion全固态锂电电池应用案例：PulseLion项目获得了欧盟地平线及欧盟研究与创新计划的资助, 并联合全欧固态电池行业中知名的15个研究单位及企业, 致力于解决行业技术瓶颈并将第四代全固态电池技术大规模制造产业化 该项目中PLD作为工艺关键一环, 其应用是薄锂金属阳极、高离子导电率固态电解质及隔膜层和缓冲膜等关键技术解决方案均由Pulsedeon公司供应. 除了PLD薄膜沉积工艺外, 其高品质靶材也由Pulsedeon制备供应.欧盟LISA锂硫电池应用案例：欧盟LISA新型固态锂硫电池项目, 致力于解决固态锂硫电池稳定产业化瓶颈, Pulsedeon作为薄膜沉积技术参与者, 提供了从实验级到产业级的PLD相关技术工艺和材料, 其中包括 “集流体及隔膜上多个工艺多层薄膜沉积” “金属锂阳极制备沉积” “陶瓷薄膜沉积层的制备” “固态电解质的制备及优化工艺” “用于R2R PLD中试涂层生产的SSE” “锂硫电池实验级到产业化大面积薄膜沉积制备工艺”等环节.

1.产品概述：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。3.产品优点：可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜，易于保证镀膜后化学计量比的稳定。反应迅速，生长快，通常一小时可获得一定厚度的薄膜。定向性强、薄膜分辨率高，能实现微区沉积。生长过程中可原位引入多种气体，对提高薄膜质量有重要意义。容易制备多层膜和异质膜，通过简单的换靶即可实现4.真空室结构:球形结构真空室尺寸:Ф300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:Φ30mm,每次可装4块靶材，可实现公转换靶位；每块靶材可自转，转速5～60转/分；样品尺寸，温度:1英寸，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

1.产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它独特的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比，脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程，因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜，非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜，显示出了诱人的应用景。3.真空室结构:球形开门真空室尺寸:φ450mm限真空度:≤6.67E-6Pa沉积源:φ2英寸靶材，4个样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动

耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Pico TR温度范围RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。1、脉冲激光沉积系统产品特点：◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体◆ 可集成热蒸发源或溅射源◆ 可旋转的耐氧化基片加热台◆ 流量计或针阀控制气体流量◆ 标准真空计◆ 干泵与涡轮真空泵◆ 可选配不锈钢快速进样室 ◆ 可选配基片-靶材距离自动控制系统◆ 可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。 2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）产品特点◆ 超高真空不锈钢腔体◆ 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成◆ 立衬底加热，可旋转◆ 多量程气体流量控制器◆ 标准气压计◆ 机械、分子、冷凝真空泵可选不锈钢快速进样室◆ 衬底和源距离可控◆ 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 3、热化学气相沉积系统（TCVD）产品特点◆ 高温石英管反应器设计◆ 温度范围：室温到1100℃◆ 多路气体控制◆ 标准气压计◆ 易于操作◆ 可配机械泵实现低压TCVD◆ 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜◆ 液体前驱体喷头◆ 2英寸超大温度均匀区4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）产品特点：◆ 水冷不锈钢超高真空腔◆ 热丝易安装、更换 ◆ 4个不同量程气体控制器◆ 标准气压计◆ 衬底与热丝距离可调节◆ 2英寸衬底加热、可旋转 ◆ 制备金刚石和石墨烯

耐驰 LFA427 激光导热系数测量仪 应用领域：精确地直接测量热扩散系数和比热，进一步计算得到导热系数 耐驰 LFA427 激光导热系数测量仪 产品特点：- 主机可同时安装双炉体- 光源脉冲宽度软件控制，连续可调- 专利PulseMapping技术- 可提供适用于特殊材料、特殊应用的样品支架 耐驰 LFA427 激光导热系数测量仪 技术参数：LFA 427温度范围-120 … 2800°C（不同炉体）激光源Nd:Glass激光，能量可调导热系数0.1 ... 2000W/mK真空度10-5mbar样品尺寸方形 8X8，10X10mm圆形 ? 6，?10，?12.7，?20mm厚度 0.1 … 6mm测试气氛真空、惰性或反应气体支架类型石墨、氧化铝、碳化硅样品形态固体、液体、粉末、薄膜详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

CHY-C2A薄膜测厚仪 塑料薄膜厚度仪 包装薄膜厚度测量仪采用机械接触式测量方式，严格符合标准要求，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。CHY-C2A薄膜测厚仪 塑料薄膜厚度仪 包装薄膜厚度测量仪技术特征：严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择实时显示测量结果的最大值、最小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果系统由微电脑控制，搭配液晶显示器、菜单式界面和PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看标准的RS232接口，便于系统与电脑的外部连接和数据传输支持LystemTM实验室数据共享系统，统一管理试验结果和试验报告执行标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817CHY-C2A薄膜测厚仪 塑料薄膜厚度仪 包装薄膜厚度测量仪技术指标：负荷量程：0 ～ 2 mm（常规）　　　　　0 ～ 6 mm；12 mm （可选）分辨率：0.1 μm测量速度：10 次/min （可调）测量压力：17.5±1 KPa（薄膜）；50±1 KPa（纸张）接触面积：50 mm2（薄膜）；200 mm2（纸张）　　　　　注：薄膜、纸张任选一种；非标可定制电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz外形尺寸：461mm(L)×334mm(W)×357mm(H)净重：32kg仪器配置：标准配置：主机、标准量块一件选购件：专业软件、通信电缆、测量头、配重砝码、微型打印机以上信息由Labthink兰光 济南兰光机电技术有限公司发布！济南兰光，包装检测仪器优秀供应商，国际知名品牌，专业致力于为包装、食品、医药、日化、印刷、胶粘剂、汽车、石化、生物、建筑及新能源等领域提供行业咨询、产品销售、售后服务和风险控制。成立至今，公司秉承“以客户为中心”的服务理念，已为全球一万家科研机构、第三方检测机构以及企业品管部门提供了全面、专业、精准的包装产品质量控制解决方案。如欲了解更详细信息，欢迎致电0531-85068566垂询！

FSM薄膜应力与晶圆翘曲度测量仪薄膜应力测量仪广泛应用于半导体行业薄膜应力的量测。在硅晶圆或者其他材料基底上附着薄膜，由于衬底与薄膜的物理常数不同，将会产生应力而导致衬底基板形变。由均匀附着的薄膜引起的形变表现为基板翘曲，因此，可依据翘曲（曲率半径）的变化量来计算应力。薄膜应力仪用下述方法测量附着表面上的薄膜引起的基底曲率半径的变化量。由于是根据在基板上扫描的激光反射角度进行计算，因此，通过测量薄膜附着前后的曲率半径变化，计算其差值，求出曲率半径变化量，用斯托尼公式，依据基板曲率半径计算薄膜应力S。FSM薄膜应力测量仪的特点:1）自动切换双波段激光具有专利的自动激光切换扫描技术.当样品反射率不好时，系统会自动切换到不同波长的另外一只激光进行扫描。这使客户可以测量包括Nitride，Polyimides, Low K，High K,金属等几乎所有的薄膜而不会遇到无法测量的问题。FSM500加热到500℃进行应力测量，可在加热循环过程中进行薄膜的热稳定性计算2）2-D & 3-D Map配备有马达驱动的可旋转载片台，可以快速生成2-D&3D Map图帮助用户可以看到整片晶圆的曲率和应力变化分布，并准确反映出工艺和均匀性有问题的区域。3）薄膜厚度可以整合介电材料薄膜的厚度测量功能，使设备变成一台可以在研发和生产环境下灵活使用强大的设备。产品优势&bull 薄膜整体应力与晶圆翘曲测试&bull 半导体/LED/太阳能/数据存储/液晶面板产业&bull 适用于多种晶圆,基板尺寸&bull 桌上型/站立式&bull 手动/自动/半自动&bull 500℃&bull 快速&非接触激光扫描&bull 适用生产和研发使用&bull 全球销售及客户支持产品应用&bull 新工艺的测试或新生产设备的校准 。化学气相沉积镀膜工艺（CVD), 物理气相沉积镀膜工艺(PVD)&bull 工艺的质量控制&bull 故障诊断&bull 新技术的研究与开发&bull 半导体新工艺的研究与开发&bull 半导体晶圆薄膜生产: 氮化物, 氧化物, 硅化物, 金属, 低介电常数材料等&bull 晶圆碗型翘曲: 晶圆工艺检查或晶圆生产原料检查&bull 其他的集成电路工艺: 平板显示器 微机电系统

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

原位薄膜应力测量系统，又名原位薄膜应力计或原位薄膜应力仪！MOS美国技术（US 7,391,523 B1）！曾荣获2008 Innovation of the Year Awardee！ 采用非接触激光MOS技术；不但可以准确的对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析；客户可自行定义选择使用任意一个或者一组激光点进行测量；并且这种设计可以保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时提高测试分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析； 该设备已经广泛被各个学府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学院等）、半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用； 相关产品： 薄膜应力仪（薄膜应力测量仪）：为独立测量系统，同样采用先进的MOS技术，详细信息请与我们联系。设备名称：薄膜应力测量系统，薄膜应力测试仪，薄膜应力计，薄膜应力仪，Film Stress Tester, Film Stress Measurement System 主要特点： 1.自主专用技术：MOS 多光束传感器技术； 2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计； 3.适合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等； 4.薄膜应力各向异性测试和分析功能； 5.生长速率和薄膜厚度测量；（选件） 6.光学常数n&k 测量；（选件） 7.多基片测量功能；（选件） 8.基片旋转追踪测量功能；（选件） 9.实时光学反馈控制技术，系统安装时可设置多个测试点； 10.专业设计免除了测量受真空系统振动影响；测试功能： 1. 实时原位薄膜应力测量 2.实时原位薄膜曲率测量 3.实时原位应力薄膜厚度曲线测量 4.实时原位薄膜生长全过程应力监控等 实时原位测量功能实例：曲率、曲率半径、薄膜应力、应力—薄膜厚度曲线、多层薄膜应力测量分析等；

Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪F80-C膜厚测量仪使生产晶片的测量变得简单实惠工艺工程师希望薄膜厚度测量是快速容易的，现在高精度的厚度成像技术让 Filmetrics 可以快速建立配方，并且拥有快速的测试速度，而且价格仅仅是同行业测量设备的小部分。 F80 可以应用在化学机械抛光、化学气相沉积、蚀刻等工艺中，这是晶片追索工艺工程师所期待的。新技术= 低成本与传统的测量工具不同， F80 不需要高精度的移动硬件去找寻微小的测试 pads，相反的，它可以快速的测量每个 pad 附近数以千计点的厚度，然后处理“厚度成像”结果，进而找到正确的厚度。可以替换昂贵的移动硬件，进而节约很高的成本。使用方便因为使用厚度成像技术， F80 不依赖过时的基于视频的图像识别技术，这意味着在 CMP 应用中通常会遇到的前后表面光对照比不同的问题，在 F80 系统中是不存在的。 也意味着配方的建立更自动化和直观，数据可以及时存，从而节省了时间，训练及减少误操作引发的错误。快速因为厚度成像技术， 300 毫米晶片在 F80 上扫描 21 点仅仅只需要 29 秒的时间，非常快速。Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪

塑料薄膜厚度测量仪随着塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料的应用，食品保鲜膜等包装品也得到了大量应用。为了确保这些包装材料的厚度和品质，需要使用厚度测量仪器进行检测。本文将介绍一种厚度测量仪器的检测原理，该仪器采用机械接触式进行测量，能够准确地测量各种材料的厚度。 该厚度测量仪器由机械框架、测量头、驱动器、传感器和测量软件等组成。在测量过程中，测量头与被测材料接触，传感器会感知测量头与被测材料之间的距离，并将距离信号传输到测量软件中进行处理和计算。 该厚度测量仪器采用机械接触式进行测量，其检测原理是利用测量头与被测材料接触时，测量头受到被测材料的顶出力，该力会使测量头的位移发生变化。测量头位移的变化量与被测材料的厚度之间存在一定的关系，通过测量位移变化量就可以计算出被测材料的厚度。 具体来说，该厚度测量仪器在测量过程中，将测量头放置在被测材料的表面，并施加一定的压力，使测量头与被测材料紧密接触。当测量头向上移动时，由于被测材料顶出力的作用，测量头的位移将发生变化。该位移变化量通过传感器传输到测量软件中，测量软件根据位移变化量和机械框架的结构参数，计算出被测材料的厚度。 该厚度测量仪器能够准确地测量各种材料的厚度，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等。同时，该仪器还可以用于食品保鲜膜等包装材料的厚度检测。由于该仪器采用机械接触式进行测量，其具有以下优点： 1、测量精度高：由于测量头与被测材料直接接触，能够更准确地感知被测材料的厚度变化。2、稳定性好：由于机械结构比较稳定可靠，因此测量的重复性和准确性都比较高。3、适用范围广：可以用于不同材料的厚度检测，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料以及食品保鲜膜等。 技术参数 测量范围 0-2mm （其他量程可定制） 分辨率 0.1um 测量速度 10次/min（可调） 测量压力 17.5±1kPa（薄膜）；100±1kPa（纸张） 接触面积 50mm² （薄膜），200mm² （纸张） 注：薄膜、纸张任选一种 进样步矩 0 ～ 1300 mm(可调) 进样速度 0 ～ 120 mm/s(可调) 机器尺寸 450mm×340mm×390mm (长宽高) 重 量 23Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 80%,无凝露 试验环境 无震动，无电磁干扰 工作电源 220V 50Hz 塑料薄膜厚度测量仪 此为广告

热反射（Thermo-Reflectance）方法基于超高速激光闪射系统，可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如：热扩 散系数、导热系数、吸热系数（Thermal Effusivity）和界面热阻。由于激光闪射时间仅为纳秒（ns）量级，甚至可达到皮秒（ps） 量级，此系统可测量厚度低至 10nm 的薄膜。同时，系统提供不同的测量模式，以适应不同的基片情况（透明 / 不透明）。 NETZSCH TR 特性：• 该方法符合日本国家标准：• JIS R 1689：通过脉冲激光热反射方法测量精细陶瓷薄膜的热扩散系数；• JIS R 1690：陶瓷薄膜和金属薄膜界面热阻的测量方法 。发展简史1990 年，日本产业技术综合研究所/日本国家计量院（AIST/NMIJ）发明热反射法，测量薄膜导热性能。2008 年，AIST 设立 PicoTherm 公司。2010 年，PicoTherm 公司推出纳秒级热反射系统 NanoTR。2012 年，PicoTherm 公司推出皮秒级热反射系统 PicoTR。2014 年，PicoTherm 公司和 NETZSCH 公司建立战略合作。由 NETZSCH 负责 PicoTherm 产品在全球的销售和服务。技术背景激光闪射法 -最主流的材料热扩散系数测试方法在现代工业中，关于材料的热性能、特别是热物理性能的相关知识变得日益重要。在这里我们可以举出一些典型领域，例如应用于高性能缩微电子器件的散热材料，作为持续能源的热电材料，节能领域的绝热材料，涡轮叶片中所使用的热障涂层（TBC），以及核工厂的安全操作，等等。在各种热物性参数之中，导热系数显得尤其重要。可以使用激光闪射法（LFA）对材料的热扩散系数/导热系数进行测定。这一方法经过许多年的发展已广为人知，可以提供可靠而精确的数据结果。样品的典型厚度在 50um 至 10mm 之间。NETZSCH 是一家世界领先的仪器制造厂商，提供一系列的热物性测试仪器，特别是激光闪射法导热仪。这些 LFA 系统在陶瓷，金属，聚合物，核研究等领域得到了广泛应用。热反射法 -测试厚度为纳米级的薄膜材料的热扩散系数随着电子设备设计的显著进步，以及随之而来的对有效的热管理的需求，在纳米级厚度范围内进行精确的热扩散系数/导热系数测量已经变得越来越重要。日本国家先进工业科学与技术研究所（AIST），在上世纪 90 年代初即已响应工业需求，开始研发“脉冲光加热热反射法”。于 2008 年成立了 PicoTherm 公司，同时推出了纳秒级的热反射仪器“NanoTR”与皮秒级的热反射仪器“PicoTR”，这两款仪器可对薄膜的热扩散系数进行绝对法的测量，薄膜厚度从数十微米低至纳米级范围。2014 年，NETZSCH 日本分公司成为了 PicoTherm 公司的独家代理。与我们现有的 LFA 仪器相结合，NETZSCH 现在可以提供从纳米级薄膜、到毫米级块体材料的全套的测试方案。为什么需要测试薄膜？薄膜的热性能与块体材料的热性能不同纳米级薄膜的厚度通常小于同类块体材料典型的晶粒粒径。由此，其热物理性能与块体材料将有着显著的不同。测量模式超快速激光闪射法 -RF 模式：后部（Rear）加热 / 前部（Front）探测可测试热扩散系数与界面热阻纳米级薄层与薄膜的热透过时间极短，传统的激光闪射法（LFA）使用红外测温，采样频率相对较低，已不足以有效地捕捉纳米级薄膜的传热过程。因此需要一种新的更快速的检测方式，可以克服经典的激光闪射法的技术局限。这一被称为超快速激光闪射法的技术，其典型模式为后部加热/前部探测方法。这一方式的测量结构与传统的 LFA 方法相同：样品制备于透明基体之上，测量方向为穿过样品厚度、与样品表面垂直。由加热激光照射样品的下表面，由探测激光检测样品上表面的传热温升过程。随着样品检测面的温度逐渐上升，其表面热反射率会相应发生变化。使用探测激光按一定采样频率对检测面进行照射，利用反射率的变化可获取检测面的温度上升曲线。基于该曲线进行拟合计算，可得到热扩散系数（如下图所示）。这里，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 15.9 mm2/s。时间域热反射法 -前部加热 / 前部探测（FF）测定热扩散系数与吸热系数除了 RF 方法之外，测量也可以使用前部加热/前部探测（FF）的结构进行。“Front”一词这里指的是沉积于基体上的薄膜的外表面，而“Rear”一词指的是薄膜与基体接触的一面。在 FF 测量配置中（如下图所示），加热激光与探测激光处于样品的同一面。加热激光加热的是薄膜的前表面的一个直径为几十微米的区域，探测激光则指向同一位置，观察在照射之后表面温度的变化。这一方法可以应用于非透明基体上的薄层材料，即 RF 方法不适合的场合。在下图的示例中，使用 FF 模式，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 16.1 mm2/s。结果证明了 RF 与 FF 模式之间结果高度的一致性（偏差2%）。NanoTR 原理NanoTR 具有先进的信号处理技术，可以进行高速的测量。测试过程中，一束脉冲宽度 1ns 的激光脉冲被周期性（间隔20us）地照射到样品的加热面上。使用探测激光记录检测面相应的温度响应。通过在极短时间内进行大量的重复测试，对重复信号进行累加，可以获得优异的信噪比。通过软件，仪器可以方便地在 RF 与 FF 两种测试方式之间进行切换，由此适合于各种类别的样品。NanoTR 遵从 JIS R 1689，JIS R 1690 标准，提供具有热扩散时间标准值的薄膜标样（RM1301-a），使结果具有 SI 可回溯性。该标样由 AIST 提供。PicoTR 原理对于皮秒级热反射分析仪 PicoTR，照射到样品的加热面上的是脉冲宽度仅为 0.5ps 的激光脉冲，重复周期为 50ns。使用探测激光，记录检测面相应的温度响应。PicoTR 允许用户在 RF 与 FF 两种模式之间进行自由切换。PicoTR 符合 JIS R 1689，JIS R 1690 标准。技术参数仪器型号NanoTRPicoTR温度范围RT，RT … 300°C（选配）RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FFRF/FF样品尺寸10 × 10mm … 20 × 20mm10 × 10mm … 20 × 20mm薄膜厚度30nm … 20μm （取决于样品种类和测量模式）10nm … 900nm （取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns 光束直径 100μm 激光功率 100mW脉冲宽度 0.5ps 光束直径 45μm 激光功率 20mW

1. 根据材料和加工要求，设计激光系统，综合考虑孔径、速度、稳定性、价格多方面因素，最小孔径可达5微米2. 多套激光系统并行加工，拓宽加工幅面（可达2m)，提升微孔加工速度3. 超高速激光扫描头，步进1mm可达10kHz频率，极大的提升打孔速度4. 步进收放卷，可增加纠偏功能，满足苛刻的微孔加工要求5. 免维护，满足工业7/24小时连续运行

FT-100 薄膜厚度测量仪薄膜厚度测量范围 （Thickness Range）: 1 nm - 1.8 mm波长范围 （Wavelength Range）: 200 nm - 1700 nm精度 （Precision）: 0.01 nm or 0.01%稳定性 (Stability): 0.02 nm or 0.03%光斑大小 （Spot Size）: Depends on objective (4 um to 200 um. 2mm） 功能： 测量薄膜厚度、光学常数，反射率和透过率单层膜或多层膜叠加层； 适用于几乎所有透明，半透明，低吸收系数的薄膜测量，包括液态膜或空气层。测试条件： 平面或曲面可配XY平台实现全样品膜厚 mapping 可集成于以上测试平台 （ 三维轮廓仪，微纳米压痕/划痕仪，摩擦磨损仪等）

中图仪器NS系列国产薄膜台阶高度测量仪采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能 NS系列国产薄膜台阶高度测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。NS系列国产薄膜台阶高度测量仪是一种常用的膜厚测量仪器，它是利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。如针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器 1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。NS系列台阶仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。典型应用部分技术指标型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

德国Sentech自动扫描薄膜测量仪器SenSol SenSol是SENTECH光伏产品组合中的自动大面积扫描仪器。自动表征膜厚、薄层电阻、雾度、反射和透射的均匀性。使用SenSol，可以监测大型玻璃基板上的沉积过程的均匀性，从而可以显著减少仪器维护后重新开始生产的时间。 整体表面分析SenSol自动扫描系统是为薄膜测量设计的，在面板上的每个位置，特别是在边缘都可以进行测量。 TCO自动扫描TCO可以研究厚度的均匀性、薄层电阻、光谱分辨的雾度H(λ)、反射R(λ)和透射T(λ)。 工艺优化新的沉积工艺或清洗后的沉积设备的运行时间显著减少。 SenSol自动扫描仪器设计用于玻璃薄膜光伏制造中薄膜性能的质量控制的在线测量。大量的传感器可以集成到SenSol传感器平台中。这也允许特定的工艺监测，提供补偿工艺中出现的差异。 瑞士Oerlikon Solar公司是光伏薄膜测量设备的供应商，也是SENTECH的主要参考客户之一，通过SenSol的工艺监测确保了优异的生产效果。 SENTECH易于使用，面向配方的SenSol自动扫描软件为制造商主计算机提供了灵活和定制的接口，以及客户特定的薄膜测量结果的图形表示。

F54-XY-200 薄膜厚度测量仪自动薄膜厚度测绘系统 借助F54-XY-200先进的光谱反射系统，可以快速轻松地测量200 x 200mm样品的薄膜厚度电动XY工作台自动移动到选定的测量点并提供快速的厚度测量，达到每秒两点。您可以从数十种预定义的极性，矩形或线性测量坐标图案中选择，也可以创建自己编辑的不受限制的测量点数量。此桌面系统只需几分钟即可完成设置，任何具有基本计算机技能的人都可以使用。图案表面的显微测量F54-XY-200具有集成的显微镜和实时摄像头，可以精确监控膜厚测量点。小尺寸的测量光斑允许测量有图案的样品，并且可以改善在较粗糙的材料上的测量性能。 FILMAPPER软件-测量自动化测绘模式生成器内置的测绘图案生成器使您可以轻松的生成测量样品相关区域所需的坐标图案，从而节省了数据采集时间。以下是您可以调整的自定义测绘属性的一些参数:样品形状:圆形或矩形径向，矩形或线性图案中心和边缘去除点密度

宽范围可调谐中红外OEM激光模块光学测量仪宽范围可调谐中红外OEM激光模块特点：业内较好的宽范围可调谐QCL 可选调谐宽度250 cm-1， 范围5.4-12.8 μm激光控制电子系统可控激光模块数量高达4个最快速的调谐（稳定时间15 ms）良好的光束指向稳定性结构紧凑灵活的控制电子系统尺寸超小、质量超轻的激光器模块紧凑灵活的控制电子系统封装灵活的OEM系统配置宽范围可调谐中红外OEM激光模块光学测量仪

中图仪器NS系列沉积薄膜台阶高度测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。其采用LVDC电容传感器，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点使得其在ITO导电薄膜厚度的测量上具有很强的优势。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200沉积薄膜台阶高度测量仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；工作过程NS系列沉积薄膜台阶高度测量仪测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。产品应用NS系列台阶仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪仪器名称：CHY-02测厚仪制造商：山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌：泉科瑞达包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪是一种高精度的测量设备，主要用于测量塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度。以下是对接触式包装薄膜厚度测量仪的详细介绍：包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪产品特征高精度测量：采用机械接触式测量原理，通过精密的位移传感器测量薄膜材料的厚度。自动升降测头：在测试过程中，测量头自动升降，减少人为因素造成的误差。操作简便：配备大液晶屏显示，操作界面直观，支持手动和自动两种测量模式。数据管理：实时显示测量结果，包括最大值、最小值、平均值和标准偏差，方便数据分析。系统标定：配置标准量块用于系统标定，确保测试精度和数据一致性。打印功能：系统支持数据实时显示、自动统计和打印，方便获取测试结果。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪技术参数测试范围：0～2mm（标配），可选配0～6mm或0～12mm的测量范围。分辨率：0.1μm，确保极高的测量精度。测量压力：17.5±1 kPa（薄膜），50±1 kPa（纸张），适应不同材料的测量需求。接触面积：50mm² （薄膜），200mm² （纸张），可根据测试材料选择。电源：AC 220V 50Hz，符合多数实验室的电源要求。外形尺寸：设备体积适中，便于实验室内安置。净重：大约26kg，便于移动和携带。执行标准该仪器符合多项国家和国际标准，如GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817等。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪应用领域广泛应用于塑料薄膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度测量，适用于包装材料生产过程中的质量控制、研发与技术创新等领域。仪器配置标准配置通常包括主机、微型打印机、标准量块等。可选配件包括专业软件、通信电缆、配重砝码盘、配重砝码等。

超短脉冲闪光法薄膜热性能测定仪 一、简介薄膜热性能测试一直是材料热物理性能测试技术的重要内容之一。随着电子行业的发展，新出现了各种新型的高导热材料，如石墨烯导热薄膜等。这些新型高导热薄膜材料的出现使得以往常用的激光脉冲法测试设备已经无法满足要求，这主要是由于普通形式激光脉冲法热性能测试设备激光脉冲宽度（几十微秒～几百微秒）相对于薄膜厚度和薄膜热扩散率而言已经很宽，已经无法满足激光脉冲法测试模型的边界条件要求，这就是目前各种高导热薄膜材料热性能测试误差较大的最主要原因。尽管很多厂商在传统宽激光脉冲热性能测试设备上采用了脉宽修正技术，但经过证实，这种脉宽修正技术对于微米量级的薄膜材料热性能测试还是存在很大误差。为了准确有效测量各种厚度微米量级薄膜材料的热性能参数，上海依阳公司依据经典的激光脉冲法，采用超短脉冲激光器和超高速红外探测器及数据采集系统，推出了超短激光脉冲法薄膜热性能测定仪，将加热试样的激光脉冲宽度缩短三个数量级到几个纳秒，而试样背面温升探测器也同时采用高速红外探测器。 二、特点（1）超短激光脉冲 采用YAG单脉冲激光器，波长1.06μm，激光光斑直径6mm，激光脉冲宽度5～7ns，激光能量可调最大为450mJ。采用超短激光脉冲进行薄膜材料的热扩散率测试，实现了激光加热脉冲时间远小于高导热薄膜样品内温度传播特征时间，满足了激光脉冲法测试模型的要求。 对于薄膜材料，普通激光脉冲法测试设备中的宽激光脉冲会给薄膜试样带来损伤，损伤厚度会达到微米量级，这会严重改变被测薄膜试样自身的热性能参数，而超短激光脉冲则规避了这个问题，由此可以实现更加真实和准确的薄膜材料热性能参数测试，解决了厚度为微米量级薄膜材料厚度方向的热性能测试难题。 另外，激光器采用全封闭式的内循环水冷系统，外循环采用风冷技术，避免了外接冷却水的麻烦。（2）高速背面温升测量采用光伏型液氮冷却碲镉贡红外探测器测量激光脉冲照射后薄膜试样背面的温度快速上升，探测器峰值响应波长为10um，响应时间为10ns，光敏元直径1mm。采用红外增透的锗透镜将直径6mm试样区域的背面温升红外信号聚焦到探测器光敏元上，配合响应的前置放大器和数据采集器获得完整的薄膜试样背面温升曲线。整个放大器和数据采集器放置在电磁屏蔽盒内降低激光发射时对信号的干扰。 三、技术指标（1）试样材料：各类无机、有机及复合薄膜材料 （2）测试参数：热扩散率、导热系数 （3）温度范围：-50℃～200℃（循环加热制冷器，更高温度可达1000℃采用电阻加热炉） （4）测量精度：≤±3%（室温以上），≤±5%（室温以下） （5）试样尺寸：直径φ13～16mm，试样厚度0.9μm～500 μm （6）激光器脉冲宽度：8ns （7）背温探测器：光伏型液氮制冷碲镉贡红外探测器 （8）探测器采样速度：5ns （9）测试环境：空气/真空/惰性气氛 四、普通激光闪光法测试设备测试薄膜材料结果和分析（1）不同厚度金属试样的测试结果相关文献：Peter Schoderb?ck, Hermann Klocker, Lorenz S. Sigl, Gernot Seeber “Evaluation of the Thermal Diffusivity of Thin Specimens from Laser Flash Data”, International Journal of Thermophysics, April 2009, Volume 30, Issue 2, pp 599-607. 测试设备：德国耐驰公司的LFA 457 MicroFlash，激光脉冲宽度：0.33ms。 测试试样：铂、铜、钼、钨、银和钛 试样状态：圆片状试样，直径为12.7mm，试样的两个平面进行抛光处理并保持很好的平行度，并在测试前对试样表面涂敷石墨， 测试温度：（25.8 ± 0.2）℃。 测试数据处理：热扩散率计算采用Cowan模型中所包括的脉冲修正，每个测试结果都是五次重复测量的平均值。 文献报道采用LFA457 MicroFlash测试6中不同金属材料热扩散率随试样厚度变化结果 文献报道中钼、钛和银三种试样不同厚度时热扩散率测试结果与公认值之间的相对误差变化情况 文献报道中铂、铜和钨三种试样不同厚度时热扩散率测试结果与公认值之间的相对误差变化情况 采用国产普通激光闪光法测试设备测试不同厚度SiC热扩散系数结果测试结果分析：（a）从以上测试结果可以看出，对于较厚试样，热扩散率测试结果基本保持为常数，并与公认值相差在1%以内。（b）对于较薄试样，热扩散率越大，试样厚度越薄，测试相对误差就越大。对银和铜这类高导热高热扩散率材料，尽管采取了脉宽修正措施，但测试相对误差还是达到了50%以上。（2）激光闪光法测试薄膜材料过程中激光脉宽误差分析从以上常用激光脉冲法测试结果中可以看出，采用脉宽几十至几百微秒的激光脉冲，尽管采用了脉宽修正技术，但由于无法准确描述出每次激光发射的脉冲波形函数并进行响应的准确计算和修正，薄膜热扩散率测试还是存在极大误差。虽然最近有些厂家推出了更窄脉冲的激光闪光法测试设备，激光脉冲宽度范围为20～1200us，最窄脉冲宽度达到了20微秒，但对薄膜热扩散率系数测试精度并未产生根本的改善。按照激光脉冲法测试模型，明确要求激光脉冲宽度在满足 τ0/tc 0.02 的情况下，测试结果能够控制在1%误差以内。其中 τ0 为激光脉冲宽度，单位秒；tc 表示特征时间，定义为 tc =(L /π )2α-1 。那么对于热扩散系数为 174mm2/s 厚度为0.1mm的纯银，其 tc 为5.83微秒。如果选取最小激光脉冲宽度20微秒，那么 τ0/tc 为3.4，还是远远大于0.02。由此可见，就算是采用了20 微秒的激光脉冲宽度，还是会引起很大测量误差。但如果选择8纳秒的超短脉冲激光，则 τ0/tc 为0.0014，远远小于0.02，完全符合激光闪光法测试标准要求。五、超短脉冲闪光法薄膜热性能测定仪测试几种薄膜材料热扩散率采用超短脉冲激光法测试几种薄膜的热扩散率，测试温度范围为-55℃～250℃。在低于-55℃温度后，响应的红外辐射波长已经超出了现有探测器的敏感波段范围，红外探测器对温升信号不敏感，无法检测到响应的背温信号，更低温度下的热扩散率测量需要采用不同波段范围的红外探测器。采用超短脉冲闪光法测试厚度57.5微米纯铜薄膜在不同温度下的热扩散系数结果。图中纯铜薄膜测试结果的相对误差限为±2%，测试结果拟合曲线为为温度的二次多项式方程。从结果可见，对于高导热薄膜材料的测试，采用超短脉冲闪光法可以得到更高的测试精度。采用超短脉冲闪光法测试厚度41.5微米纯镍薄膜在不同温度下的热扩散系数结果图中纯镍薄膜测试结果的相对误差限为±5%，测试结果拟合曲线为为温度的二次多项式方程。从结果可见，对于导热系数或热扩散率系数不是很高的一般金属薄膜材料的测试，采用超短脉冲闪光法也可以得到很高的测试精度。采用超短脉冲闪光法测试厚度25.0微米渗碳聚酰亚胺薄膜在不同温度下的热扩散系数结果图中渗碳聚酰亚胺薄膜测试结果的相对误差限为±3%，测试结果拟合曲线为为温度的二次多项式方程。从结果可见，对于导热系数或热扩散率系数不是很高的非金属薄膜材料的测试，采用超短脉冲闪光法也可以得到很高的测试精度。

PIXIE：皮秒锁模固态激光器第一款工业级1342nm皮秒激光器，可选频率转换为红光和蓝光激光器。超短脉冲可用于加工，不会导热进入纤细脆弱的材料。该激光器设计用于24/7高要求工业应用，使用申请专利技术的锁模机制保证长寿命工作。激光器应用包括：通过透明硅晶元的薄膜烧蚀，平板显示器生产等。激光尺寸重量光束轮廓图案杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：网址： /邮箱：