等离子电原射仪

美国SVT公司的RF等离子源适用于多个公司多种型号。 法兰接口包括： 2.75' ' 、4.5' ' 、6' ' 。 等离子源用于离解双原子氮、氧和氢。离解过程中不会产生高能离子。 产生的束流含有零离子，有助于生长高质量的薄膜，也可以在不损伤衬底表面的情况下清洗衬底。 高生长率等离子体源能够在生长速率大于4μm/hr的情况下生长高质量的薄膜。 光阑和等离子腔形状可以顾客定制，以满足客户对不同流量的需求。 软件作为可选项，能够实现自动操作，允许用户保存数据，编写工艺程序。特点可提供N2、O2、H2等离子源生长速率大于4μm/hr源设计有等离子体观察窗口光阑和等离子腔形状可以客户定制RF自动调节可选RF 功率200-600W气体流量0.1-10SCCM法兰4.50’’ CF 源直径2.35’’水冷却0.17GPM 流量(0.227m3/hr)RF匹配网络手动调节(自动调节可选)等离子腔PBN，氧化铝，石英

射频感应耦合 等离子源 电离层环境模拟器| 介绍低温氩气源（LTA）是一种紧凑的一种等离子设备，设计用于在发射之前进行空间等离子体物理研究或对空间硬件进行测试。它可以人为地模拟较高的电离层条件，这意味着它可以以非常低的电子温度（0.5 eV），低离子能量（比等离子推进器低两个数量级）和相对较高的电子密度产生等离子流。 （?10 11 m -3）。该流的速度也与在轨道上遇到的离子流（?8 km / s）相似。| 应用电离层模拟研究ThrustMe的离子源和等离子体诊断工具可帮助研究人员在地面上进行电离层研究。LTA可以模拟类似于高层大气中的粒子环境，从而为研究人员提供了进行实验的机会，而这种实验对于使用ThrustMe的等离子体诊断技术发送到太空或校准自己的探头和传感器而言过于昂贵。测试您的太空硬件再现高空电离环境可以使卫星集成商和子系统制造商在发射前测试其太空硬件。在系统级别，ThrustMe的LTA可用于研究卫星的充电并预测飞行过程中可能出现的任何问题。在子系统级别，在地面上重现电离层可以为天线制造商提供机会来研究其天线在不同高度或不同太阳活动水平下的信号传播。太空环境测量ThrustMe的MD-1探针是前所未有的小.绝.对电子密度探针。它很小的3x50mm尺寸几乎可以安装在任何小型卫星上。将此探针用于高层大气和太空天气研究目的。

溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀技术指标:离子能量25eV - 5keV总的离子束电流1mA (at 5kV with Argon)High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)电流密度120μA/cm2 at 100mm working distance离子束发散角Ion energy dependant (typically 15°)工作距离100 mm (typically)等离子体杯Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)气体进气口径CF-16 (1.33“OD)气体流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.激发模式微波放电等离子体 (无灯丝)安装口径CF-35 (2.75“OD)枪直径34mm (真空端)泄露阀需要气体质量流量计第二代等离子体源，可以提供离子源，原子源，离子/原子混合源原子源主要用途：制备氮化物， e.g. GaN, AlN, GaAsN, SiN etc.氢原子清洗，氢原子辅助MBE.制备氧化物， e.g. ZnO, Superconductors, Optical coatings, Dielectrics. 掺杂， e.g. ZnSe离子源用途:离子束辅助沉积(IBAD) for both UHV and HV processes溅射沉积，双离子束溅射，Sputter deposition and dual ion beam sputtering溅射清洗/表面科学中的样品表面处理，Sputter cleaning / surface preparation in surface science, MBE and HV sputter processes.原位刻蚀， e.g. Chlorine 技术参数：真空兼容性：完全UHV兼容可烘烤：200°C微波功率：最大250W，2.45GHz磁铁类型：永久稀土。可在不破坏真空的情况下进行烘烤安装：NW63CF（4.5“OD）真空长度：300mm（可定制长度）：真空直径最大值=57mm光束直径：源处约25mm（较窄的光束也容易产生）等离子杯：氧化铝孔径：氧化铝或氮化硼气体流速：0.01-100sccm，取决于所选孔径工作压力：约10-7托至5x10-3托，取决于孔径、泵和应用-请联系tectra讨论您的应用。提供差动泵选项工作距离：50mm-300mm。150mm（典型值）冷却：全水冷（包括磁控管）电源：微波炉电网供电**仅限离子源和混合源19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz主要特点：无灯丝适用于大多数气体，包括反应性气体，如氧气、氯气、氢气、氮气等。无微波调谐出厂设置，只需打开和关闭等离子。用户可配置提取光学器件设计为可快速方便地更换，允许用户自定义其来源，以适应样本大小、工作压力和电流密度的特定组合。易于更换的孔径使光束直径、气体负载和原子通量得以优化。简单烘烤制备新的可烘烤ECR磁体只需松开4个螺钉，即可进行简单的烘烤准备。磁体不需要移除，但仍位于封闭冷却回路的空气侧。因此，没有烧结材料暴露在真空中。Al2O3等离子区氧化铝等离子杯作为标准，具有更高的二次电子产量、更好的抗腐蚀性气体（如氧气）和理想的等离子打击能力从法兰（刀口侧）到外壳端，空气侧环境坡度的最小值仅为258mm

单靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，具有结构紧凑，简单易用，集成度高，设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。 单靶等离子溅射镀膜仪适用范围：可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。主要技术参数样品台尺寸Φ138mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速1-20rpm可调等离子溅射头1支2寸等离子靶真空腔体腔体尺寸Φ180mm×150mm 腔体材料高纯石英观察窗口全向透明开启方式顶盖拆卸式前极泵VRD-4抽气速率旋片泵：1.1L/S 极限真空1.0E-1Pa抽气接口KF16排气接口KF16真空测量数字真空计其他供电电压AC220V,50Hz整机功率800W溅射真空20Pa整机尺寸长360mm宽300mm高470mm整机重量30Kg

等离子沉淀设备等离子沉积设备SI 500 D产品介绍 高端ICPECVD设备SI 500 D为基于等离子体的沉积工艺提供了优异的性能。使用PTSA ICP等离子体源产 生的高密度PECVD沉积高质量的介质膜和硅膜。平行板三螺旋天线 （PTSA）保证了沉积薄膜的优异性能， 如在非常低的沉积温度下（＜100°C）实现低刻蚀速率， 低应力和低界面态密度。 特点 *高密度等离子体*平行板ICP等离子体源*优异的沉积性能*动态温度控制 带预真空室的化学气相沉积设备SI 500 PPD产品介紹 灵活的PECVD系统SI 500 PPD具有多种标准的等离子沉积工艺。用电容耦合等离子体沉积 SiO2、SiNx、 SiOxN揷口a-SL灵活的设计允许使用气态或用于PECVD的液体前驱体TEOS。 特点 *工艺灵活性*预真空室*SENTECH控制软件 PECVD等离子沉积设备DEPOLAB 200产品介绍 直接置片的PECVD设备Depolab 200结合了成本效益的直接载片和平行板等离子体源在一 起的基本的，紧凑的设计。易于使用的直接载片系统实现了用户友好的批量工艺（使用载片 器或直接加载到衬底电极）。智能的PECVD系统可以升级，以达到提高性能的需求。 特点 *低成本效益高*升级扩展性*SENTECH控制软件 原子层沉积设备SENTECH ALD产品介紹ALD设备可以配置为用于氧化物、氮化物和金属沉积。三维结构具有出色的均匀性和保行 性。利用ALD、 PECVD和ICPECVD, SENTECH提供等离子体沉积技术，用于从纳米尺度沉 积到数微米的薄膜沉积。 特点 *简易的腔体清洗*集成手套箱*节省前驱体*前驱体控制 等离子沉淀设备正片晶片扫描MDPinline优势 在不到一秒的时间内，实现对一个晶片全电子晶片特性的测量,测量参数：少子寿命（全形貌），电阻率 （两行扫 描），迄今为止还没有看到工艺控制、良率和工艺改进的效率允许极快地增加新的生产或工艺，因为来自数千 个晶片的统计信息是在非常短的时间内获得的。 适合于测量出料或进料晶片的材料质量，以及在晶片级别内识别结晶问题，例如在光伏行业.适用于扩 散工艺的完 整性控制、钝化效率和均匀性控制。 快速自动扫描系统MDPinline ingot优势 测量速度，用于先进的光伏工厂的在线多晶硅表征。用1毫米分辨率测量少子在两块上的寿命。同时测 量了导电 类型变化的空间分辨测量和电阻率线扫描. 客户定义的切割标准可以传送到工厂数据库，该数据库允许为下一代光伏工厂进行全自动材料监测。从 而实现了材料质量控制，监测炉的性能，以及失效分析. 特殊的"表面以下”测量技术大大减少了由表面复合造成的数据失真。 激光扫描系统MDPpro优势机或晶圆的整体工具系列• 少子寿命、光电导率、电阻率、p/n导电类型变化和几何样品平整度的同 时自动扫描. 对于156x156x400mm标准砖，测量速度小于4分钟，分辨率为1mm,所有5幅测量图形同时绘制。 坚固耐用的设计和易于设置的性能.对于安装，仅需要电源。带有数据库的工作站包含。

三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制，简单直观易于上手，能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作，十分适合实验室选购。本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。三靶等离子溅射镀膜仪适用范围： 可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。三靶等离子溅射镀膜仪技术参数：三靶等离子溅射镀膜仪样品台尺寸φ138mm控温精度±1℃加热温度*高500℃转速1-20rpm可调直流溅射头数量2"×1 （1~3个靶可选）真空腔体腔体尺寸φ180mm × 150mm观察窗口全向透明腔体材料高纯石英开启方式顶盖上翻式真空系统机械泵旋片泵抽气接口KF16真空测量电阻规排气接口KF16极限真空1.0E-1Pa供电电源AC 220V 50/60Hz抽气速率旋片泵：1.1L/S电源配置数量直流电源 x1*大输出功率150W其他供电电压AC220V,50Hz整机尺寸360mm × 300mm × 470mm整机功率800W整机重量40kg

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。特有功能优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快，更均匀，对电子枪和分子泵更安全；即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；带气压计的自动气体流量控制；等离子探针实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；自动射频匹配实时保证最优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；带LCD触摸屏的直观操作界面；微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；微电脑控制器记录所有信息状态，便于系统维护。技术指标 等离子源真空接口: NW/KF40 法兰 提供转接法兰；标配等离子强度传感器；等离子源最低点火起辉气压：0.1毫托；等离子源最高工作气压: 1.0 托；漏气率: 0.005sccm；射频输出: 0~100瓦，连续可调节；具有射频自动匹配功能

美国PIE Scientific LLC公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 采用低压清洗技术，可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。(详情请咨询PIE中国代理南京覃思科技有限公司) 一. 特有功能1. 优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。非常低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度非常快，非常均匀，对电子枪和分子泵非常安全；2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；3. 带气压计的自动气体流量控制；4. 实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；5. 自动射频匹配实时保证非常优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；6. 专有保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；7. 带LCD触摸屏的直观操作界面；8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；9. 支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；10. 微电脑控制器可记录所有信息状态，便于系统维护。 二. 技术指标1. 等离子源真空接口：NW/KF40 法兰 提供转接法兰；2. 标配等离子强度传感器；3. 等离子源非常低点火起辉气压：0.1毫托；4. 等离子源非常高工作气压：1.0 托；5. 漏气率：0.005sccm；6. 射频输出：0~100瓦，连续可调节；7. 具有射频自动匹配功能8. 电源和功率：110V/220V, 50/60 Hz, 200 瓦

品牌：PIE型号：Tergeo EMTergeo EM型SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪美国PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了Tergeo EM型SEM & TEM样品清洁专用等离子清洁仪，另有Tergeo Basic基本型等离子清洁仪和Tergeo Plus型大腔室等离子清洁仪三、技术参数1、控制系统1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。 2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤2、反应腔体1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱。2）腔体尺寸：内径110毫米，外径120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。 3）前观测窗：前方开口，5毫米厚石英玻璃可视窗口，可观测内腔等离子状态，并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置，有效保护操作的安全性；3、射频电源 1）射频频率：13.56MHz 2）射频功率：标配0~75W；可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调，自动阻抗匹配。3）射频输出可以工作在脉冲方式，脉冲比可以从1/255调到255/255（连续输出）。 4、等离子源1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2）电阻耦合电离方式。 3）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC； 2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量； 3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。 4）自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。 5）高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。 6）6mm气体接口。6、真空系统1）KF25法兰接口用来连接真空泵。 2）真空要求：抽速：1.7m3/h；3）最低气压：=200mTorr.

电镜腔等离子清洁仪（远程等离子清洁仪）美国PIE出品的EM-KLEEN型远程等离子清洁仪，广泛用于SEM扫描电镜,FIB聚焦离子束双束电镜,TEM透射电镜,XPS_X射线光电子能谱分析仪,ALD原子层沉积系统,CD-SEM, EBR, EBI, EUVL和其它高真空系统，可同时清洁真空腔室和样品！污染物对电子显微镜SEM/TEM和其它高真空系统产生的影响润滑剂、真空脂、泵油样品中的高分子聚合物，或未经处理的空气都会把碳氢污染物引到真空系统中。低蒸汽压下高分子重污染物会凝聚在样品表面和腔室壁上，而使用普通气体吹扫方法很难把碳氢污染物清除。电子和高能光子(EUV, X-ray)能够分解存在于真空系统中或样品上的碳氢污染物。碳氢化合物的分解产物沉积在被观测的样品表面或电子光学部件上。这种碳氢污染沉积会降低EUV的镜面反射率，降低SEM图像对比度和分辨率，造成错误的表面分析结果，沉积在光阑或其它电子组件的不导电碳氢污染物甚至会造成电子束位置或聚焦缓慢漂移。在ALD系统中，样品表面的碳氢污染物还会降低薄膜的界面匹配质量。远程等离子清洁的原理远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。技术特点：快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。不需减速或关闭涡轮分子泵低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专利多级气体过滤技术，SEMI-KLEEN能够满足用户最苛刻的颗粒污染清除要求可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用特有的等离子强度传感器可实时监测等离子状态，用户对等离子状态一目了然基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器，无需手动调节针阀直观的触摸屏操作，可定义60条清洗程序方案拥有智能安全操作模式和专家控制模式；SmartScheduleTM定时装置，通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统低电磁干扰设计，安静的待机模式一. 特有功能1. 优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快，更均匀，对电子枪和分子泵更安全；2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；3. 带气压计的自动气体流量控制；4. 实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；5. 自动射频匹配实时保证最优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；6. 专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；7. 带LCD触摸屏的直观操作界面；8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；9. 支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；10. 微电脑控制器可记录所有信息状态，便于系统维护。二. 技术指标1. 等离子源真空接口：NW/KF40 法兰 提供转接法兰；2. 标配等离子强度传感器；3. 等离子源最低点火起辉气压：0.1毫托；4. 等离子源最高工作气压：1.0 托；5. 漏气率：0.005sccm；6. 射频输出：0~100瓦，连续可调节；7. 具有射频自动匹配功能8. 电源和功率：220V, 50Hz,

ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪产品介绍： ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪是公司经多年技术积累而开发的电感耦合等离子体发射光谱仪，用于测定各种物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量金属元素或非金属元素的含量，自动化程度高、操作简便、稳定可靠。 ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。工作环境：内容 适应范围贮存运输温度 15℃-25℃贮存运输相对湿度 ≤70％大气压 86-106 kPa电源适应能力 220±10v 50-60MHz工作湿度 ≤70％工作温度 15℃-30℃ 技术指标：固态电源技术指标电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，功率反馈闭环自动控制工作频率：27.12MHz±0.05%频率稳定性：＜0.1%输出功率：800W—1200W输出功率稳定性：＜0.3%电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜2V/m 进样系统技术指标输出工作线圈内径25mm矩管，三同心型，外径20mm的石英矩管同轴型喷雾器外径6mm双筒形雾室外径34mm 氩气流量计规格和载气压力表规格1.等离子气流量计（100-1000）L/h (1.6-16L/min)2.辅助气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)3.载气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)4.载气稳压阀（0-0.4MPa）5.冷却循环水：水温20-25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa 单色器技术指标光路：Czerny-Turner焦距：1000mm光栅规格：离子刻蚀全息光栅，刻线密度3600线/mm(可选用刻线密度2400线/mm)线色散率倒数：0.26nm/mm分辨率：≤0.007nm(3600刻线）. ≤0.015nm(2400刻线）扫描波长范围：3600线/mm扫描波长范围：190—500nm 2400线/mm扫描波长范围：190—800nm步进电机驱动最小步距:0.0006 nm出射狭缝：12μm入射狭缝：10μm 光电转换器技术指标光电倍增管规格：R293或R298光电倍增管负高压：0-1000V稳定性＜0.05% 整机技术指标：扫描波长范围：195nm～500nm（3600L/mm光栅）195nm～800nm（2400L/mm 光栅）重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD≤1.5％稳定性：相对标准偏差RSD≤2％

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

1.应用范围：ICP-7800型全谱直读型电感耦合等离子体发射光谱仪，具有突出的抗干扰和分析检测性能，应用于研发、检测等高端分析需求， 可方便进行定性、半定量和精确定量分析，是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。2.工作环境电压：220V AC±10%\\MKJ 室温：环境温度（10-30）℃ 相对湿度：（20-80）%RH3.技术规格3.1.等离子体射频源：3.1.1：全数字控制的双电源设计射频电源，更宽功率范围500-1600W，功率可调，具有更强的样品适应性； 3.1.2：自激式RF射频发生器：自激式电源匹配速度快，功率负载能力强，可以直接分析100%的甲苯样品。自动调谐，水冷散 热，适应复杂样品分析功率切换，无运动部件，抗震抗干扰，更加可靠；3.1.3：LOW模式：提供500W超低功率待机，降低氩气消耗50%以上，待机时氩气用量≤5L/min；3.1.4：等离子体观测方式：可配置轴向、径向、双向和同时双向四种观测模式。垂直矩管可避免高盐沉积，延长炬管使用寿命， 降低炬管耗材支出。轴向观测使用金属冷锥去除尾焰，获得较高的灵敏度，无需配置空气压缩机，节省外部配件及消耗。径向观 测的等离子观测位置可调，针对不同元素的分析需求，具有更强的抗干扰能力； 3.1.5：智能衰减：具有轴向衰减和径向衰减功能，可衰减100倍以内浓度的样品，使得样品高含量元素，能够一次分析完成，不 需要反复稀释，降低样品前处理难度，支持简化分析； 3.1.6：RF射频频率：27.12MHz，耦合效率大于80%；3.1.7：RF功率稳定性: ≤0.1%；RF频率稳定性：≤0.01%； 3.2.光学系统： 3.2.1：恒温三维光学系统，反射次数少，光能量损失低。所有光学元件均密封于热平衡光室中，主机与光室热隔 离设计，更好的抵御外界环境温度变化。光室：精密恒温36℃±0.1℃，驱氩气；3.2.2：稳定高效的全固定中阶梯光栅分光系统，无运动部件，抗震强，稳定可靠； 3.2.3：波长范围：165-900nm，全波长覆盖；3.2.4：单色器：焦距：400mm，全反射成像光路，石英棱镜二维色散系统；3.2.5：中阶梯光栅：53.6L/mm，63.5度闪耀，刻数越多，分辨率越高； 3.2.6：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液；3.2.7：全谱实时校准技术（TARC）：利用无干扰的氖特征谱线，对光谱的细微偏移进行实时校正，实现光谱的最 优积分，确保长期稳定性，良好消除光谱漂移对于测量的影响。 3.2.8：吹扫型光室：对189nm以下波长测定，选择氩气进行光路吹扫，无需使用真空泵，避免真空返油，污染光 室； 3.2.9：杂散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm处测定）； 3.2.10：光学分辨率（FWHM）：≤7pm @200 nm（分辨率和检出限须在相同条件获得）； 3.2.11：可扩展深紫外Cl/Br分析功能：双光栅设计，使得光谱分析下限达到130nm深紫外区域。3.3.检测器：像元级制冷的专有大面阵ECCD检测器 3.3.1：检测单元：1024*1024像素大面阵CCD检测器，一次曝光；3.3.2：成像尺寸：25.4mm×25.4 mm大面阵成像感光单元，采用24×24um大像元，带来高灵敏度的响应，整 体面幅大，能够在高分辨率的同时，获得更宽的光谱范围； 3.3.3：像元级制冷：封装在传感器内部的TEC制冷，直接作用像元，制冷温度大于-10℃，有效防止CCD表面冷 凝，无需气体吹扫保护；3.3.4：防饱和溢出：针对每一个像素进行背泄式防溢出保护设计，彻底消除谱线饱和溢出问题，无需担心谱线饱 和对邻近谱线的影响；3.3.5：智能积分设计：信号背景同步采集，曝光时间取决于谱线的光强，自动计算谱线最佳曝光时间，同时以最 佳信噪比获得高强度信号和弱信号，拓宽的动态范围，使高低含量元素可以同时检测，避免试样反复稀释；3.3.6： 检测器表面无任何光转换化学涂膜，不会因为涂层老化而导致检测器损坏更换。 3.4.样品导入系统： 3.4.1：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液； 确保稳定进样的同时，可支持进样管、内标管、废液管和辅助试剂进样管（氢化物发生器）同时运行，有利于复杂 样品分析； 3.4.2：气路控制：采用精密质量流量控制器控制多路气体流量，最多可控制五路，包括雾化气、辅助气、冷却气 和可扩展的附加气体（O2和Ar），精度0.01L/min。 - 3.5. 软件性能：3.5.1：图形化操作界面，软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能； 3.5.2：基于分类和版本的方法库管理软件，便于方法的管理、维护和传承；内置部分标准方法，有助于提高分析 效率； 3.5.3：具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能，数据可安全存储，支持分析数据保存和检索功能，方便日 后再分析；3.5.4：具有50000条以上的谱线库，每条谱线至少可以选择30个象素点进行测量；3.5.5：具有全谱采集功能，软件上可直接获取完整全谱图，了解样品光谱及光谱干扰状态；3.5.6：具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能：如标准比较法、内标法、干扰元素校正系数法（IEC）、标 准加入曲线法等，丰富了用户多种分析研究的手段； 3.5.7：具有仪器校准功能，支持炬管准直、光源优化等功能，方便用户日常维护；具有可视化的仪器运行状态监 控； 3.5.8：具有登录口令保护，多级操作权限设置和网络安全管理，永久历史记录保存； 3.5.9：具有可视化炬焰观测模块；3.5.10：同时具有中英文版本软件；3.5.11：具有网络远程服务功能，自带远程服务助手，远程诊断，4G网络数据连接技术服务部门对于仪器实现远 程诊断维修； 3.5.12：软件设计全面符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规，软件具有三级管理权限和审计追踪功能， 符合3Q认证等法规要求； 3.5.13：可集成自动化分析仪器平台、在线分析仪器平台的软件操作。3.6.分析性能： 3.6.1：分析速度：约每分钟200条谱线； 3.6.2：样品消耗量：仅需2ml ；3.6.3：测定谱线的线性动态范围：≥105（以Mn257.6nm 来测定，相关系数≥0.999）；3.6.4：精密度：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液，重复测定十次的RSD≤0.5%； 3.6.5：稳定性：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液， 8小时的长时间稳定性RSD≤1%； 3.6.6：检出限：(单位ug/L，按JJG768-2005规定的元素) 可对分析元素的任何一条谱线进行定性、半定量和定量分析，支持内标法、标准加入法、干扰元素校正等 方法；3.6.7：预热时间：从待机状态到等离子体点燃时间小于5分钟。 3.7. 仪器接口（含联用分析软件）： 3.7.1可实现自动化消解样品处理工作站联用(消解系统采用石墨消解电热模式，实现消解、定容、进样自动化操作， 支持48位以上样品同时处理） 3.7.2具有有机样品直接进样分析系统接口（提供样品制冷功能，温度小于-15摄氏度以下）； 3.7.3具有在线消解模块接口（支持在线全自动电热消解和浓度控制、进样管路自动清洗功能）；3.7.4具有在线氢化物发生分析系统接口（支持反应液体自动添加和浓度控制、进样管路自动清洗功能）； 3.7.5可连接离子交换工作站进行价态分析或低浓度富集高基体去除的分析；3.7.6可连接自动进样器进行分析（支持样品位240以上可配置）；4附件系统：4.1计算机系统 4GB内存，500G硬盘，配DVD和键盘鼠标。 4.2冷却循环水系统 制冷量1490W，温度范围5-35℃。4.3激光打印机 黑白激光打印机 4.4单相交流稳压器 10KVA，精度1%，输入电压160V-280V，输出电压220V。

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜 技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料）磁控溅射头一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头真空腔体真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证使用注意事项这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内

ICP3600型全自动发射光谱仪是由射频发生器、试样引入系统、扫描分光器、光电转换、计算控制系统和分析操作软件组成。它的分析过程是：射频发生器产生的高频功率通过感应工作线圈加到三同心石英炬管上，在石英炬管的外层通入氩气并引入电火花使之电离形成氩等离子体，这种氩等离子体的温度可达6000K～8000K。待测水溶液试样通过喷雾器形成的气溶胶进入石英炬管中心通道，受到高温激发后，以光的形式放出特征谱线，通过透镜进入扫描分光器，分光器将待测元素的特征谱线光强，准确定位于出口狭缝处，光电倍增管将该谱线光强转变成光电流，再经电路处理和模数变换后，进入计算机进行数据处理，最后由打印机打出分析结果。由于仪器的稳定性好，测量范围宽，检出限低，因此广泛地应用于稀土分析、环境保护、水质检测、合金材料、建筑材料、医药卫生等科学领域作元素定量分析。

1、主要配置及附件：以光电倍增管PMT检测器为基础的单道扫描电感耦合等离子体发射光谱仪，高频发生器，自动调谐，提供具有中英文操作界面的软件；专用自动温控循环冷却水系统；氩气导管；冷却水管；高灵敏度进样系统（高效进口雾化器加双筒型雾化室）。2、主要技术参数：台式,等离子体垂直观测系统。等离子体火焰可进行二维调整（由计算机控制），并利用“仪器诊断”功能，实时观察调整结果。精密度 ：优于国家检定规程A级标准稳定性 ：优于国家检定规程A级标准分辨率 ：在Mn257.610nm处，峰半高宽为≤0.008nm（3600线光栅）。≤0.015 nm（2400线光栅）。所有元素满足国标A级标准，部分元素如Ba检出限远低于国家A级标准谱线灵活性：可对分析元素的谱线进行定性、半定量和定量分析。拥有几千条谱线，可以根据需要与爱好选择适当的谱线，避开可能存在的干扰，为您提供更多的选择，更合理的推荐，让测试变得更加专业与准确。3、进样系统：炬管：一体式。根据中心通道大小有多种型号可选雾化器：高效进口雾化器，多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min蠕动泵转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）4、射频发生器和等离子体：类型：固态射频发生器，水冷，自动调谐，带有过载、过温各种安全保护。输出功率：800W~1600W，连续可调，调节精度为2W等离子气、辅气、载气开启与流量为软件控制，点火、灭火也均由软件控制。5、光学系统：光学稳定性：与进样系统设计在一个平台上，整个光学系统具有防震措施，一般的地面震动不影响其分析性能。同时仪器稳定脚垫再增加一套防震保护，起到二次防震的目的。温度稳定性：±0.1℃。最小步距为0.0004nm6、控制软件：软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，软件具有全中文，可根据需要选择切换。报告格式输出格式为pdf、excel，电子档或直接打印，且可以为中文模板。控制软件可以在中文版Windows 7下运行、XP下运行。软件带有自动进样器控制接口。分析谱线：具有谱线描迹功能、背景扣除功能 曲线拟合：测量方式有峰高、峰面积两种不同选择 分析参数：针对不同谱线选择不同积分时间、负高压、扫描步距、衰减值。分析参数：每条谱线测量时会自动进行实时波长校正，确保测量峰位准确。自动衰减：每条谱线都可以进行自动衰减。全自动安全保护功能，仪器通讯和控制采用控制卡，观测位置由软件控制并优化，具有控制蠕动泵转速功能。可以与天瑞AS100自动进样器联合使用，控制样品的切换、清洗、进样等过程。仪器诊断软件和网络通讯，数据再处理功能，自动生成测试报告。软件具有数据档案管理功能，支持数据的备份、恢复、删除，支持数据的文本格式输出。格式类可选，也可以打印输出。

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头； 管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接氩等离子体发射光谱分析模块24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理氩等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱氩等离子体发射光谱分析模块

GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300&angst ，特别适用于SEM样品表面的镀膜。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪体积小，操作简单，适合用于实验室中对小样品的镀膜使用。1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得极佳的镀膜效果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。6、已通过CE认证。产品名称GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪产品型号GSL-1100X-SPC-16安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀）4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，,承重50kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、电源：220V2、总功率：2000W（包括真空泵）3、真空室：Ø 160mm×120mm4、样品台：Ø 50mm，且高度可调，可同时进行8个SEM样品的镀膜5、max均匀镀膜：Ø 45mm产品规格尺寸：400mm×300mm×400mm重量：30kg标准配件1、金靶材1个2、进气针阀1个3、保险丝2个可选配件金、铟、银、铂等各种靶材

1. GIGAbatch 310M等离子系统：GIGAbatch 310M等离子系统 是 GIGAbatch 产品系列中的入门型号。作为小的系统，GIGAbatch 310M具有较高的性价比，凭借先进的等离子技术以及经济实惠等优点，它是实验室和大学的理想之选。然而，即使是基础版本，它也可用于使用 MFC 气体管道和 600 W 发生器，执行手动和自动等离子处理。基础版本的桌面型；为第二个气体管道提供空间。腔室多可容纳 25 片直径为 150 毫米的晶圆，可以使用石英舟批量处理，或使用带有特殊装载装置进行单片处理。各种个性化配置的配件：具有特殊密封材料的配置，带冷却板和循环冷却器的腔室可用于从晶圆上去除 SU-8。 2. GIGAbatch 360/380M等离子系统：GIGAbatch 360M 和 380M等离子系统，是为满足低要求的小批量生产而设计。 GIGAbatch 360M版本有一个直径为 245 mm的工艺室，多可容纳 50 片直径为 150 mm的晶圆。而GIGAbatch 380M版本的腔室内径为 300 mm，多可容纳 25 片直径为 200 mm 的晶圆。该系统的基础版本是一款落地式设备，带有喷涂面板、可调节支脚和脚轮。它配有一个输出功率为 1000 W 的发生器、两个 MFC 气体管道、晶圆温度监控和一个终点侦测系统。此外，它还包括一个固定晶圆和基板的装置，可安装在腔体室内门上，并可根据客户具体要求进行设计。也可按客户需求提供：过程压力 (DSC) 的主动控制装置、法拉第笼、额外的气体管道、不同尺寸基板或晶圆的装载装置、陶瓷工艺室、使用含氟工艺气体运行的特殊密封件。

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；尺寸：170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

1 模块功能氩等离子发射检测器 THA2600-Y可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头；管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min；含尘量：≤0.1um；主体尺寸：约170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理氩等离子发射检测器 THA2600-Y采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱氩等离子发射检测器 THA2600-Y

简介Online 5100 MP多参数重金属在线分析仪使用发射光谱来分析溶液中的元素含量。高温状态下，处于基态的原子或离子跃迁到激发态，处于激发态的原子回到基态时又发射出不同波长的光，发射谱线的波长与特定元素有关，而谱线的强度与浓度有关，Online 5100 MP就是基于这一原理进行分析的。功能特点 ▲ 原子发射光谱原理，方法成熟▲ 分析元素包括金属和非金属▲ 多元素同时分析，可扩展应用，多达70多种元素▲ 宽线性范围：ppb~ppm▲ 宽波长范围：176nm~780nm▲ 检测限低：与实验室ICP-AES相当▲ 耐盐高：可耐受高达3%TDS▲ 工业电脑控制，人性化操作界面▲ CCD固态检测器：可同时进行背景及干扰校正▲ 低运行成本：从空气中提取氮气，不使用昂贵气体▲ 安全：无需易燃或氧化气体，消除安全隐患▲ 快速：只需数分钟即可分析多个元素▲ 整体式矩管：省略了矩管调整和气体管路的繁琐连接▲ 氮气等离子体：温度控制在5000K技术参数 分析元素：用户选择 (多达70多种元素可选)测量原理：原子发射光谱准 确 度：优于±2% (标准样品)重 复 性：优于2%线 性：优于0.9999分析时间：约1min/单元素（不含预处理）仪器校准：自动电 源：220V±10% VAC，50±1Hz预 处 理：根据用户情况配置

VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为?50mm，加热温度达500℃。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材，不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台，能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜，适用于实验室制备复膜的样品。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制，操作方便直观。该机设备小巧，占用实验室空间少，操作简单，应用广泛。因此被广泛应用于各大高校及科研院所的实验室中。1、PLC控制面板，4.3″触摸屏，PID控温方式。2、可控参数包括真空度、电流、靶材位置、基片加热温度。3、可与真空泵、不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍连用。4、已通过CE认证。产品名称VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪产品型号VTC-16-3HD安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀）4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，,承重50kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、输入功率：110V/220V通用 2000W（含真空泵）2、输出功率：1600VDC 50mA（最大电流）3、石英罩：?160mm×120mm4、样品台：?50mm（可选购加热型样品台，最高温度可到500℃；最长溅射时间不可超过5min）5、真空泵：120L/M旋片式真空泵6、进气口：装有精密可调针阀，以实现方便的调节进气量7、靶材：尺寸直径?47mm，厚度0.1mm-3mm；可溅射Au、Ag、Pt、Cr、Ni， 不可溅射氧化物、半导体、一些轻金属、Al、Zn、C等产品规格尺寸：360mm×350mm×3600mm；重量：50kg可选配件1、KF25真空接口、卡箍2、不锈钢波纹管（600mm）3、旋片式真空泵（120L/M）4、铂、银、锌等各种高纯度金属靶材5、加热型样品台

VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为Ø 50mm，加热温度达500℃。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材，不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台，能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜，适用于实验室制备复膜的样品。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制，操作方便直观。该机设备小巧，占用实验室空间少，操作简单，应用广泛。因此被广泛应用于各大高校及科研院所的实验室中。1、PLC控制面板，4.3″触摸屏，PID控温方式。2、可控参数包括真空度、电流、靶材位置、基片加热温度。3、可与真空泵、不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍连用。4、已通过CE认证。产品名称VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪产品型号VTC-16-3HD安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀）4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，,承重50kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、输入功率：110V/220V通用 2000W（含真空泵）2、输出功率：1600VDC 50mA（最大电流）3、石英罩：Ø 160mm×120mm4、样品台：Ø 50mm（可选购加热型样品台，最高温度可到500℃；最长溅射时间不可超过5min）5、真空泵：120L/M旋片式真空泵6、进气口：装有精密可调针阀，以实现方便的调节进气量7、靶材：尺寸直径Ø 47mm，厚度0.1mm-3mm；可溅射Au、Ag、Pt、Cr、Ni， 不可溅射氧化物、半导体、一些轻金属、Al、Zn、C等产品规格尺寸：360mm×350mm×3600mm；重量：50kg可选配件1、KF25真空接口、卡箍2、不锈钢波纹管（600mm）3、旋片式真空泵（120L/M）4、铂、银、锌等各种高纯度金属靶材5、加热型样品台

新品详情上市时间：2012年6月产品介绍：SPECTROBLUE是最新推出的电感耦合等离子体原子发射光谱仪（ICP-OES）它结构紧凑、光谱范围通用、操作便易、维护简单而优质实用；750mm焦距的帕邢-龙格光学系统与15个线性CCD阵列检测器，使其具有无与伦比的光学分辨率和灵敏度；创新性的采用UV-PLUS气体净化技术，免除了高纯气体吹扫的耗费，确保远紫外谱区的高传输效率和优异的长时间稳定性。功率强大、长期稳定、久经耐用的RF发生器使其能胜任极端的等离子体负荷，而大功率陶瓷管与ICP所产生的热量通过全新的空冷方式进行冷却，不再需要昂贵的外部水冷装置。此外，SPECTROBLUE 装配了SPECTRO的 SMART ANALYZER VISION智能分析软件， 提供了简单灵活而强大的用户界面，软件易学易用，而仪器操作简单、分析能力强。创新点：1、密闭充氩气循环光室，专利技术德国出厂时在光室中即密闭了高纯氩气，无须提前吹扫高纯氩气或氮气，可随时分析深紫外区谱线（如P，S等元素），从而省去了高纯氩气或氮气提前吹扫的等待时间，节约了高纯气体的使用费用，提高了工作效率。2、一级光谱光学系统，检测器常温工作光室采用帕邢-龙格光学系统，全部谱线采用一级光谱，保证了最大的光亮值。采用该类型分光系统，可以使检测器捕捉到最强的信号，从而检测器无需依靠降温来降低噪声干扰。检测器15℃恒温工作，无需制冷，缩短了开机稳定时间，开机即用，降低了仪器能耗；同时检测器也无需高纯气体吹扫，降低了气体使用费用。3、风冷式冷锥专利技术去除尾焰水平炬管，轴向观测型号，采用了风冷式冷锥去除尾焰专利技术，无需再购置冷却循环水配套设备，不仅降低了仪器采购成本，同时降低了仪器能耗。4、RF发生器具有功率强大、长期稳定、经久耐用的完美性能RF发生器选用的是4.5kW的固态集成电路和27MHz的自激振荡器，功率范围700-1700 W连续可调，是目前商品化仪器中最强的功率，非常适用于高等离子体负载的样品，如：高盐、有机和基质较复杂的样品。

1.产品特点80 Plus 条形等离子清洁系统为半导体加工而开发，可支持手动及自动操作，两种操作方式均简单易用。该系统可以配备或不配备装卸站；此外，每个装卸站都可支持不同的配置。即便没有装卸站，也可将其集成到生产线中。2.产品配置该软件直观，满足当半导体行业的标准，其主要应用域是表面的活化和清洁。80 Plus系统操作十分高效，加上其等离子技术，使用它进行等离子处理只需几即可完成。通过使用该系统进行等离子处理，可以快速有效地清除晶圆表面的杂质和污染物。这有助于提高晶圆的质量和性能，并确保生产过程中的稳定性和一致性。另外，80 Plus系统还具有智能控制功能，可根据实际需要进行参数调整。这使得用户可以根据不同的加工要求来优化处理过程，并获得佳的加工效果。除了晶圆表面清洁功能外，80 Plus系统还可以用于其他应用域。例如，在光伏行业中，它可以用于太阳能电池片的制造过程中，提高电池片的效率和稳定性。PVA TePla 提供研发和合同代加工的广泛应用服务。 许多客户利用这些服务进行临床试验和中小型生产。 80 Plus 等离子系统提供两种电配置离子配置：射频为 13.56 MHz 的电磁辐射通过电被送入腔室，以便通过加速离子实现表面轰击。除了这种物理效应，还有一种化学效应，但它比使用微波频率时获得的效果要小。千兆配置：如果等离子设备配备微波发生器，则使用 2.45 GHz 的频率。腔室中没有电；微波在真空室外部产生，然后通过天线或波导输入。具有这种配置的等离子体以纯化学方式工作。

耳鼻喉刀头 扁桃体、腺样体等离子刀头型 号： VAM-X-3040340 品牌:深圳唯奥耳鼻喉等离子刀头在手术过程中有止血消融的作用。刀头可连接进口国产两种设备，不同设备配置不同连接头，做椎间孔镜，提高了手术的安全性、精确性、控制性和广泛性。 耳鼻喉等离子刀头有更佳的工作频率 ，采用较高的工作频率（1.5M-4.5MHz），高频稳定输出，实现最小的组织损伤和细胞改变，组织热损伤深度仅为普通传统电刀的几十分之一，是迄今为止创伤最小的手术设备。 高频低温，无炭化切凝 ，发射电极低温切割，切割速度快、止血效果好；切口精细，热损伤小于15微米，真正微创；无炭化，无烟雾，双极电凝不粘连血管和组织；术后无水肿，愈合速度快且疤痕小；可在精细部位开展手术，可以做组织活检。 用途广泛，性能优异，切割、切割/凝血、凝血、消融和双极五种工作模式；多种形状专用电极，满足各种手术的需要。 出色的安全保护 ，中性电极板，避免皮肤被灼伤；多重安全报警设计的安全自检测系统，提供高度安全保证。 耳鼻喉等离子刀头特点： 1.更佳的工作频率，创伤最小的手术设备 2.多种形状专用电极，满足各种手术的需要 3.发射极不发热，真正的低温切割 4.对组织无挤压，实现最小的组织损伤和细胞改变 5.可在体腔和管腔内开展微创手术，可做组织活检 6.双极电凝不粘连血管和组织 7.操作简便、功能完善，多重安全报警设计，高度安全 耳鼻喉等离子刀头工作频率 ：1）单极工作模式：4.00MHz±0.400MHz 2）双极工作模式：1.71MHz±0.250MHz 2、输出功率：0～100,步距为1 3、额定输入功率：350VA 4、熔断器规格：F3AL250V，Φ5mm×20mm 5、安全分类：Ⅰ类、BF型 6、脚踏开关启动力：10N～50N 7、双极电镊捏合力≤4N

产品名称：等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介：GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备，可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析，尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵，分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害！主要特点：抽速快，操作简便，真空度高，安全可靠技术参数：●试样处理室 （1）钟罩：内径250mm× 高度340mm （2）玻璃处理室： 玻璃罩 A：内径88mm× 高度140mm 玻璃罩 B：内径88mm× 高度57mm （3）试样台：直径40mm（最大） （4）试样旋转：电动 （5）挡板：电动 （6）蒸发加热器：可同时安装两个加热器 ●真空系统 （1）抽气系统：由分子泵、机械泵组成的高真空机组 （2）真空检测：热偶计、冷规 （3）常用真空度：1.3× 10-2 ~6× 10-3Pa （4）操作：手动 ●处理电源 （1）高压电源：DC3千伏10mA连续可变，用表指示。 （2）低压电源：AC10V100A连续可变，电流用表指示。 （3）电源要求：AC220V 50HZ 10A ●气体要求 氩气纯度99.9%（对样品有特殊要求时可使用） ●冷却要求 本系统采用F100/110F―普通轴承风冷涡轮分子泵，其冷却方式为风扇强制风冷和通水冷却两种，当工作环境低于32℃时，可采用风冷冷却，当工作环境温度高于32℃时，则必须采用水冷。重量：约150公斤 体积：L800mm× W560mm× H1340mm可选配件：氧化铝坩埚，石英坩埚，真空泵等具体信息请点击查看：

目前，锂电池的主要应用领域为电子数码产品，主要包括平板电脑、笔记本电脑、手机、数码相机等产品，随着电动交通工具的快速发展和储能产业的逐步兴起，这两个领域也将成为锂电池未来的重点发展方向。从电子行业来看，电子数码产品经历了多年的快速上涨之后，预计未来会呈现平稳增长态势，随着电子数码产品向着便携化的方向发展，对电池产品提出了更高的要求，相应的，电池行业将向着能量密度高、容量大、重量轻的方向发展。　　动力电池组的可靠性要求极高，既要稳定放电，又要保证所有的焊线不脱落，而要保证所有的焊线不脱落，则焊线焊接必须十分可靠。每根焊线都必须按照国标进行检测，更重要的是，必须在焊接阶段就增加附着力，使焊线牢靠。　　汽车动力锂离子电池电芯处理是生产组装过程中一个重要的环节，电芯处理包括电芯封边以及极耳整平。极耳整平后进行等离子清洗，可以清除有机物和微小颗粒，提高后续激光焊接的可靠性。　　汽车动力锂电池是分正负极的，极耳就是从电芯中将正负极引出来的金属带，通俗的说电池正负两极的耳朵是在进行充放电时的接触点。这个接触点表面是否干净，将影响电气连接的可靠性和耐久性。　　汽车动力锂电池电芯在出厂过程中极耳经常会出现不平整，折弯甚至扭曲的现象，使焊接时会出现虚焊、假焊、短接等现象。在电芯极耳整平后用等离子清洗处理机对极耳表面去除有机物、微小颗粒物等杂质，粗化焊接表面，可以保障极耳焊接的效果良好。等离子清洗机的工艺流程和优势说明：　　1、 锂电池电芯等离子清洗机处理的流程　　电芯上料→极耳整平→等离子清洗→电芯正面→电芯反面→等离子清洗→电芯下料　　2、等离子清洗机的优势　　等离子清洗是干式清洗，是通过高频高压把压缩空气或者工艺气体激发成等离子体，由等离子体去与有机物、微小颗粒发生物理或者化学反应，形成洁净而且有微粗化的表面，清洗彻底，没有残余物质。　　等离子清洗使用成本低，几乎不产生什么废气，绿色环保　　等离子清洗机可以加在流水线上，可与其他自动化设备无缝对接，便于操作和监控。　　等离子清洗是一种干式清洗，主要是依靠等离子中活性离子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。这种方式可以有效地去除电芯极柱端面的污物、粉尘等，为电池焊接提前做准备，以减少焊接的不良品。深圳市东信高科自动化设备有限公司，专注等离子表面处理工艺。：