等离子体火焰仪

绿色、环保、低成本、空气运行的元素分析技术 安捷伦4100 MP-AES拥有更安全、更经济、更高效的运行速度。更高的灵敏度、更低的检测限（亚ppb级）、全面超越火焰原子吸收光谱仪的分析效率。最具创新的是：安捷伦4100 MP-AES 采用了空气运行，无需再使用易燃及昂贵的气体，极大地降低了运行成本，提升了实验室的安全保障。产品特点最低的运行成本：安捷伦 4100 MP-AES 无需使用易燃、昂贵的气体，可实现无人值守操作，大大降低了运行成本高性能：电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器， 提供了更加优异的集体耐受力和适应力，以及更加出色的检测限简洁实用：专业的应用软件程序设计，即插即用的硬件设置，确保任何用户都能够快速安装操作，无需复杂的方法开发、校准或培训更高的实验室安全：除了无需使用易燃的氧化性气体外，4100 MP-AES使实验室无需引入多种复杂气体，无需人工搬运气体钢瓶可靠、耐用： 4100 MP-AES 运行稳定，适应性强。适用于危险气体采购价格昂贵、运输不便的边远地区，是采矿、食品及农业、化工、石化和制造等行业的理想选择

讲究，不将就ICPMS-2040 LF/2050 LF电感耦合等离子体质谱仪配置新一代Mini炬管，先进的碰撞反应池技术和高性能四极杆质量分析器, 将卓越的性能与节能环保高维度结合在一起。产品支持在线稀释、快速进样、智能冲洗和方法预设功能，提高分析通量且无需额外成本。操作简单方便，安装后可轻松开始工作。1. 节能环保且性能强大Mini炬管等离子体进一步升级，并结合先进的碰撞反应池技术和高性能四极杆质量分析器，将卓越的性能与节能环保高维度结合在一起。 新一代Mini炬管 &bull 优化炬管形状，使进入等离子体火焰的样品流速降低，从而提高样品的电离效率，进一步提高分析灵敏度，同时有效改进进样系统的基体耐受性。&bull 有效降低氩气消耗量，岛津特色Mini炬管正常工作时氩气消耗量为常规等离子体的2/3，分析中间等待时，可使用Eco模式，氩气消耗量进一步降低至5.5mL/min。&bull 无需高纯氩气，普氩（99.95%）即可正常工作。先进的碰撞反应池技术&bull 多功能碰撞模式和反应模式，可有效降低质谱干扰，提高分析的灵敏度。&bull 岛津特色元素间校正（IEC）功能可用于校正碰撞模式无法消除的质谱干扰。高性能四极杆质量分析器&bull 具有电荷稳定器，在每个质量分析之间施加脉冲电源，以保持电极表面电荷水平的恒定，可提高长时间分析的信号稳定性。 &bull 支持高分辨模式，质谱分辨率可达0.3~0.6u，可获得更清晰的质谱图，将其与岛津IEC校正功能结合，可实现半质量校正。2. 高通量无需额外成本&bull 高速气路控制系统，可快速完成池气体的通入和排出，节省分析时间。&bull 具有快速进样功能，大大减少检测时间的同时降低样品用量3. 简单方便，操作无忧&bull 智能冲洗功能，高浓度样品分析后，自动延长冲洗时间，以确保后续测定数据的准确。&bull 内置预设方法，方法中包含优化过的参数，如等离子体、质量数和内标等。安装后只需简单的培训即可使用。4. 简化您的工作&bull 进样系统易维护，双锥的拆卸无需任何工具&bull 具有在线稀释系统，可直接分析海水等高盐样品&bull 重力排废系统，无需额外的废液泵管耗材，不存在管路老化引起的分析异常问题&bull 支持实验室网络化管理要求，满足FDA 21 CFR Part 11等法规要求

珀金埃尔默全新Avio® 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

产品应用等离子体火炬（亦称等离子体发生器或等离子体加热系统）就是依据这一原理研制的专门设备。等离子体火炬通过电弧来产生高温气体，可在氧化、还原或惰性环境下工作，可以为气化、裂解、反应、熔融和冶炼等各种功能的工业炉提供热源。微波等离子体炬就是以微波为激发能量的开放式等离子体技术。产品特点1、微波激发开放式等离子体火炬产品平台，用于等离子状态下，气固液态材料的反应2、支持多种气氛条件的等离子体，3、支持混气和送样4、支持等离子体强度调节5、智能化控制系统，工艺可控技术参数（一）、微波系统1.微波功率：额定功率1000W / 2450MHz，无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波等离子体激发腔设计：①中央聚焦强电磁场密度微波腔②内置微波调配系统（二）、功能系统1.等离子体系统：①开放式石英管等离子体反应系统②等离子体强度和主焰高度可调2.温度控制：①温度范围：1000℃，；②采用红外测温方式（700～1700℃），支持选配光学测温系统；3.气氛控制：①支持多种气氛条件的等离子体，②支持混气和流量控制，支持流动送样③支持选配尾气收集系统（三）、控制系统①采用PLC自动化控制：功率、强度、流量、时间可控②支持选配内腔视频系统，进行动态观察（四）、安全系统1.腔体多重联锁结构，开门断电，保护操作人员2.开口采用λ/4高阻抗微波抗流抑制结构，保证操作人员的健康安全，微波泄漏量：5mW/cm2 （优于国标）（五）、整机说明1.设备供电：220Vac / 50Hz，整机能耗：1500W2.设备供水：水冷系统3.外观尺寸：主体约：1400×1600×700mm（宽×高×深）4.设备重量：80kg5.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

常压室温等离子体（ARTP）同传统的低气压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪（ARTP Mutagenesis Breeding Machine）。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。非转基因手段，保证生物的安全性使用范围广，突变性能高专有氦气等离子体诱变技术，能量高，基因损伤强度大操作简便安全，易维护、运行费用低 截止到2022年08月29日，中文文献404篇，英文文献167篇，专利230篇，学位论文165篇，共计966篇。分类技术参数整机功率1000W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm操作室环境洁净室（百级洁净无菌风）样品处理系统7个样品连续处理和自动收集冷却系统内置制冷系统等离子体射流温度≤37℃工作环境要求温度15~25℃，湿度≤60%应用范围原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等)应用案例案例一：应用ARTP筛选耐高盐环境突变菌株经等离子体处理后，阴沟肠杆菌在含有7.5% NaCl的培养基中培养时出现耐盐突变株，对TPH的降解百分数比出发菌株高2.5倍，而且将突变株培养于LB + 9.0% NaCl条件下时，可快速地将K+积聚于细胞内、将EPS积聚于细胞外。（耐盐阴沟肠杆菌的选育及其在油盐污染土壤修复中的应用[D].花秀夫.清华大学 2009）案例二：细菌领域成果多、效果显著筛选到高产L-亮氨酸的突变株，产量达到18.55 mg/g，比出发菌株提高2.91倍。（Nature Communications，9（2018））案例三：霉菌产色素能力大幅度提升突变菌株产橙、黄色素能力比出发菌株分别提高136%、43%。（核农学报，2016,30（4）：654-661）

Aurora Z10冷等离子体种子处理仪统提供“Activated Air”活性气体，就像雷击周围的空气一样，可以改善种子健康，提高整体植物产量。冷等离子体种子活化过程的核心优势是提高发芽的一致性和发芽率以及幼苗的生长速度，这反过来又提高了种植者的产量和产量。该系统是移动的，需要外部电源和互联网连接。系统通过云连接，远程机器监控易于掌控整个活化过程。特点：&minus CEA的先进种子健康系统，冷等离子体促进种子健康和作物产量&minus 仅使用空气和电力，不添加化学物质&minus 低工作功耗（200W）&minus 专为垂直农场和温室设计规格：样品仓：10L处理量：2升（1公斤）的种子10.4英寸触摸显示屏远程监控控制超低功耗小于200w重量：143Kg

系统配置：■安捷伦4100MP-AES微波等离子体原子发射光谱仪■必须的组件（管道、线路）这台仪器状况良好，已经在SpectraLabScientific进行了测试。所有套件和组件均包含90天保修。仪器实物图：仪器简介：◇最低的运行成本——安捷伦4100MP-AES无需使用易燃、昂贵的气体，可实现无人值守操作，大大降低了运行成本◇高性能——电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器，提供了更加优异的集体耐受力和适应力，以及更加出色的检测限

技术参数： 可测元素70多种； 分析速度快，一分钟可测5-8个元素； 多元素同时分析，客户可以自由选择元素数量与安排测量顺序； 检出限低，达到ppb量级，Ba，Cu等甚至达到0.7ppb； 线性动态范围宽，高达6个数量级，高低含量可以同时测量； 分析成本低，一瓶氩气(瓶压10Mpa)可以用8个小时； 全反射消色差光学系统 采用凹面反射镜代替凸透镜作为光学聚焦元件，解决了不同元素焦点不同而引起的色差问题，同时提高光学系统效率。 波长范围宽 选择3600条刻线光栅，波长范围可达180nm-500nm 选择2400条刻线光栅，波长范围可达180nm-800nm 全自动化设计 自动化程度高，整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都是通过计算机控制，可靠、安全、方便。 先进的进样系统 进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器，耐氢氟酸雾化器等，满足不同客户的需求。 稳定先进的全固态射频电源： 仪器采用的射频电源为公司自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进 一步提高了仪器的稳定性与安全性。 快速准确的全自动匹配功能 负载终端采用自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点。确保输出功率最大限度的加到负载，提高电源的使用 效率，从而提高仪器的稳定性，使得整个点火过程方便简单。 一键点火：用户只需点击一个启动按钮，仪器自动进行气体压力、冷却水、电源开关检查、点火、匹配等诸多动作，并将信息实时 传递给客户。 观察高度调节 不同的元素有不同的最佳观察高度，客户可以根据经验或者比较，适当的通过软件调整火焰的观察高度，在最佳的位置得到最好的 测量效果。强大的图形诊断功能 强大的图形诊断功能可以帮助客户充分的了解当前仪器的工作状态，并通过适当的参数设置来观察不同条件下仪器的运行状况，以 把握最佳的测量条件。 多元素自动测量 选择需要测量的各个元素，设定好测量参数，一切交给仪器，最后直接得到所有元素的测量结果，简单、省事。 强大的数据库管理 拥有几千条谱线，可以根据需要与爱好选择适当的谱线，避开可能存在的干扰，为您提供更多的选择，更合理的推荐，让测试变得 更加专业与准确。 软件功能强大，操作人性化 软件功能强大，全中文更适合国人使用。可进行定性、定量分析；有数据再处理功能；自动计算元素含量，自动生成测试报告；具有 数据筛选功能，剔除不想要的数据；数据库管理完善，可以自由保存与删除。 测试完毕后可以生成检测报告，检测报告内容可以根据用户需求选择，包括方法名称、仪器型号、元素、波长、强度、含量、相对标 准偏差、单位、检测员、备注、校正人等，方便用户分析。 软件界面设计人性化，简单明了，大大提高了分析效率。软件主界面集成软件的主要功能，包括控制等离子体状态、仪器状态、分析 参数、分析谱线、波长谱图显示、曲线拟合、数据处理、历史谱图、历史数据、用户管理等诸多功能。

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成 在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等） 未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

低温等离子体源--基于压电变压器直接放电，同时在元件的输出端直接产生冷等离子，等离子通过电离空气或气体来形成。性能特点◆ 专为敏感基材设计◆ 手持操作◆ 高效激发冷等离子体◆ 直接放电，低输入电压、高输出电压◆ 等离子功率密度高◆ 产生温度50 ℃冷等离子体◆ 不需外部气体供应◆ 设计精巧◆ 使用简单◆ 运行可靠◆ 最佳效率◆ 可变喷嘴◆ 免维护可实行的应用&bull 活化表面能实验室科学、医学技术、精密机械、微观力学、光学、 装配技术、电子技术、模型制作&bull 增强润湿性&bull 改善粘结力&bull 印刷和胶粘喷墨印刷、移印、微隙填充、自动化流程的润湿操作、点胶、胶粘&bull 杀菌和消毒微生物学技术、医疗技术、食品装、微流体技术可用于以下工序预处理&bull 胶粘 &bull 印刷 &bull 印染 &bull 铸造 &bull 层压 &bull 发泡 &bull 涂层 &bull 清洗 &bull 键合 &bull 密封应用材料广泛&bull 合成纤维 &bull 天然织物 &bull 金属 &bull 塑料&bull 复合材料 &bull 玻璃钢 &bull 玻璃 &bull 木材&bull 电子组件 &bull 铝合金 &bull 陶瓷 &bull 粉末技术参数名称技术参数单位电源连接110-240V/50-60Hz 15VDCV功率需求Max.30W 规格书Hand-held device with power supply unit,Integrated ventilator重量170g等离子体温度50℃标准的处理距离2-10mm标准的处理宽度5-20mm

等离子体监控系统PlasCalc 等离子体监测控制仪，实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量，通过高级过程控制系统及精密数据存取算法，只需3ms就可以获得测量结果。特点 1、光学分辨率1.0nm(FWHM)2、光谱范围 200-1100nm3、快速的建模及存储实验方法Recipe编辑器Recipe编辑器有助于简单快捷的配置、构建及存储实验方法。对一些困难的等离子体工序诸如膜沉积测量、等离子体蚀刻监测、表面洁度监测、等离子体室控制及异常污染、排放监测等，能够快速简单的构建模块过程控制。多种工具用于等离子体诊断随PlasCalc配置的操作软件，集成的程式编辑器能够容易实现多种数学算法功能。可选的波长发生器（可以单独购买）用于类型确认，而波长编辑器可以用于优化信噪比。双窗口界面用于显示实际光谱及所有过程控制信息。PlasCalc 配置说明光谱范围:200-1100 nm光学分辨率:1.0 nm (FWHM)D/A 转换:14 bit数字I/O:8 x TTL模拟输出:4 x [0-10V]接口:USB 1.1功耗:12 VDC @ 1.25 A

讲究，不将就ICPMS-2040 LF/2050 LF电感耦合等离子体质谱仪配置新一代Mini炬管，先进的碰撞反应池技术和高性能四极杆质量分析器, 将卓越的性能与节能环保高维度结合在一起。产品支持在线稀释、快速进样、智能冲洗和方法预设功能，提高分析通量且无需额外成本。操作简单方便，安装后可轻松开始工作。1. 节能环保且性能强大Mini炬管等离子体进一步升级，并结合先进的碰撞反应池技术和高性能四极杆质量分析器，将卓越的性能与节能环保高维度结合在一起。 新一代Mini炬管 &bull 优化炬管形状，使进入等离子体火焰的样品流速降低，从而提高样品的电离效率，进一步提高分析灵敏度，同时有效改进进样系统的基体耐受性。&bull 有效降低氩气消耗量，岛津特色Mini炬管正常工作时氩气消耗量为常规等离子体的2/3，分析中间等待时，可使用Eco模式，氩气消耗量进一步降低至5.5mL/min。&bull 无需高纯氩气，普氩（99.95%）即可正常工作。先进的碰撞反应池技术&bull 多功能碰撞模式和反应模式，可有效降低质谱干扰，提高分析的灵敏度。&bull 岛津特色元素间校正（IEC）功能可用于校正碰撞模式无法消除的质谱干扰。高性能四极杆质量分析器&bull 具有电荷稳定器，在每个质量分析之间施加脉冲电源，以保持电极表面电荷水平的恒定，可提高长时间分析的信号稳定性。 &bull 支持高分辨模式，质谱分辨率可达0.3~0.6u，可获得更清晰的质谱图，将其与岛津IEC校正功能结合，可实现半质量校正。2. 高通量无需额外成本&bull 高速气路控制系统，可快速完成池气体的通入和排出，节省分析时间。&bull 具有快速进样功能，大大减少检测时间的同时降低样品用量3. 简单方便，操作无忧&bull 智能冲洗功能，高浓度样品分析后，自动延长冲洗时间，以确保后续测定数据的准确。&bull 内置预设方法，方法中包含优化过的参数，如等离子体、质量数和内标等。安装后只需简单的培训即可使用。4. 简化您的工作&bull 进样系统易维护，双锥的拆卸无需任何工具&bull 具有在线稀释系统，可直接分析海水等高盐样品&bull 重力排废系统，无需额外的废液泵管耗材，不存在管路老化引起的分析异常问题&bull 支持实验室网络化管理要求，满足FDA 21 CFR Part 11等法规要求

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

1. 产品概述RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，可对硅及各种金属薄膜和化合物半导体进行高精度的各向异性蚀刻。此外，ø 230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料、电材料等难蚀材料的加工。3. 设备特点龙卷风线圈电，它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。低损伤工艺，通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。温度控制，电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行。

1. 产品概述RIE-230iPC是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的盒式ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，实现了对硅、各种金属薄膜和化合物半导体的高精度各向异性蚀刻。此外，ø 230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料和电材料的加工。3. 设备特点龙卷风线圈电，它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。低损伤工艺，通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。温度控制，电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行。

电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）应用领域各级疾控中心理化所/科,职业卫生技术服务机构理化分析；职业病监测理化分析；职业病诊断-职业医学检验疾控中心理化分析。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 高效进样系统：分体式炬管，自准直装配，直观简单。◇ 稳定的ICP离子源：自激式全固态射频电源，采用频率匹配调谐，调谐速率高，可直接分析有机样品，无运动部件，稳定可靠；平衡驱动，无需屏蔽炬即可获得离子动能平衡。◇ 可靠的双锥接口设计：高效率传输待分析离子，保持分析物组份的代表性，专门离子接口设计大幅度提升灵敏度；提手是换锥接口，稳固可靠，操作便利。◇ 复合离子传输系统：前后两次离轴，良好消除中性粒子干扰；采用复合电场多极杆导引技术、复合透镜偏轴离子传输技术，在消除光子和中性粒子干扰之外大幅度的提升离子传输效率。◇ 高速动态碰撞反应池：分布式碰撞/反应气扩散方式，大大提高碰撞效率，提升灵敏度；采用离子动能歧视技术，结合喷碰撞和动态反应两种模式的优点；高效碰撞模式，可直接稀释到测试血液样品。◇ 四极杆质量分析器：纯钼四极杆，超高稳定性；抗温湿度变化的RF电源，确保在普通实验室条件下也有良好的稳定性。◇ 高灵敏电子倍增器：专有的数字/模拟双模式检测器，具有9~10个数量级的动态范围。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 自主研发的国产ICP-MS替代进口产品，完全满足疾控客户水、食品、土壤、环境等检测需求，成为各级疾控中心理化采购热点；◇ 满足ICP-OES替代方法，检出限可到ppq，四级杆质量分析器，全数字频率调谐射频发生器。

日本Advance Riko 公司致力于电弧等离子体沉积系统（APD）利用脉冲电弧放电将电导材料离子化，产生高能离子并沉积在基底上，制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量，可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径，活性好，产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛，可以产生氧化物和氮化物薄膜。高能量等离子体可以沉积碳和相关单质体如非晶碳，纳米钻石，碳纳米管 形成新的纳米颗粒催化剂。 主要应用领域： 1、制备新金属化合物，或制备氧化物和氮化物薄膜（氧气和氮气氛围）；2、制备非晶碳，纳米钻石以及碳纳米管的纳米颗粒；3、形成新的纳米颗粒催化剂（废气催化剂，挥发性有机化合物分解催化剂，光催化剂，燃料电池电极催化剂，制氢催化剂）；4、用热电材料靶材制备热电效应薄膜。 技术原理：1、在触发电极上加载高电压后，电容中的电荷充到阴极（靶材）上；2、真空中的阳极和阴极（靶材）间，电子形成了蠕缓放电，并产生放电回路，靶材被加热并形成等离子体；3、通过磁场控制等离子体照射到基底上，形成薄膜或纳米颗粒。 材料适用性：APD适用于元素周期表中大部分高导电性金属，合金以及半导体。所用原料为直径10mmX17mm长圆柱体或管状体，且电阻率小于0.01 ohm.cm。下面的元素周期表显示了可制备的材料，绿色代表完全适用，黄色代表在一定条件下适用。 设备特点： 1. 系统可以通过调节放电电容选择纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。2. 只要靶材是导电材料，系统就可以将其等离子体化。（电阻率小于0.01ohm.cm）。3. 改变系统的气氛氛围，可以制备氧化物或氮化物。石墨在氢气中放电能产生超纳米微晶钻石。4. 用该系统制备的活性催化剂效果优于湿法制备。5. Model APD-P支持将纳米颗粒做成粉末。Model APD-S适合在2英寸基片上制备均匀薄膜。 APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 系统参数： 1. 真空腔尺寸：400X400X300长宽高2. 抽空系统：分子泵450L/s3. 电弧等离子体源:标配一个，最多3个4. 沉积气压：真空或者低气压气体（N2， H2，O2，Ar）5. 靶材：导电材料，外径10mm，长17mm6. 靶材电阻率：小于0.01欧姆厘米7. 电容：360uF X5 （可选）8. 脉冲速度：1,2,3,4,5 Pulse/s9. 操作界面：触摸屏10. 放电电压：70V-400V （1800uF下最大150V） APD-P 粉末容器：直径95mm 高30mm形成粉末的速度：13-20cc （随颗粒尺寸和密度变化）旋转速度：1-50rpm

泽攸科技 等离子体修饰系统，利用卓聚自创的三温区管式炉，通过氧气辅助化学气相沉积技术，在蓝宝石衬底上外延生长了大尺寸、高质量的单层二硫化钼薄膜。在生长过程中引入氧气，不仅能够有效的阻止三氧化钼源中毒，降低形核密度，而且还能减小硫空位密度，从而实现了大尺寸单晶单层二硫化钼的生长。利用等离子体修饰系统，在自限生长的前提下，目前已实现了两英寸晶圆级高质量单层二硫化钼的外延生长（百分百覆盖度，成膜均匀），并通过改进转移设备，实现了晶圆级薄膜的零污染且衬底无损转移。单层二硫化钼薄膜均匀覆盖在整个蓝宝石衬底上，而且没有缝隙，没有重叠层。 薄膜由晶粒尺寸为 1 微米，相对取向为 60 o的晶粒拼接而成。成型薄膜只包含 60 o晶界。等离子体修饰系统产品优势1. 有效避免固态源中毒；2.成膜均匀性好；3.成膜面积大；4.快速、生长速度可控。 图：两英寸单层二硫化钼的取向外延生长以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的等离子体修饰系统的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

一、产品简介：常压室温等离子体(ARTP)同传统的低压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪(ARTP　Mutagenesis Breeding Machine)。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。二、应用领域原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等）及植物细胞。 截止到2022年10月21日，中文文献411篇，英文文献169篇，专利269篇，学位论文176篇，共计1025篇。三、产品参数分类技术参数整机功率300W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm样品处理系统单样品处理冷却系统外接制冷系统等离子体射流温度≤37℃四、应用案例案例一：放线菌抗生素产量显著提高突变率、正突变率分别为30%、21%，获得一株阿维菌素B1a产量提高23%。（常压室温等离子体对微生物的作用机理及其应用基础研究[D].王立言.清华大学 2009）等离子体诱变前后阿维链霉菌的形态变化（注：W为野生菌株；G1-8为典型突变菌株）案例二：藻类正突变率高、突变库表型丰富总突变率和正突变率在特异增长率上分别达到45%和25%，并且突变库中表型丰富。（PLOS ONE，2013,8（10）：1-12）案例三：应用ARTP诱变大肠杆菌，提高苏氨酸产量获得一株苏氨酸高产菌株，摇瓶产酸达到50.6 g/L，与出发菌相比，提高了99.6%，经50次传代，遗传性稳定。（现代食品科技，2013，29(8)：1888-1892） a1 a2出发菌株与1905#突变菌的菌体形态

ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪产品介绍： ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪是公司经多年技术积累而开发的电感耦合等离子体发射光谱仪，用于测定各种物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量金属元素或非金属元素的含量，自动化程度高、操作简便、稳定可靠。 ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。工作环境：内容 适应范围贮存运输温度 15℃-25℃贮存运输相对湿度 ≤70％大气压 86-106 kPa电源适应能力 220±10v 50-60MHz工作湿度 ≤70％工作温度 15℃-30℃ 技术指标：固态电源技术指标电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，功率反馈闭环自动控制工作频率：27.12MHz±0.05%频率稳定性：＜0.1%输出功率：800W—1200W输出功率稳定性：＜0.3%电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜2V/m 进样系统技术指标输出工作线圈内径25mm矩管，三同心型，外径20mm的石英矩管同轴型喷雾器外径6mm双筒形雾室外径34mm 氩气流量计规格和载气压力表规格1.等离子气流量计（100-1000）L/h (1.6-16L/min)2.辅助气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)3.载气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)4.载气稳压阀（0-0.4MPa）5.冷却循环水：水温20-25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa 单色器技术指标光路：Czerny-Turner焦距：1000mm光栅规格：离子刻蚀全息光栅，刻线密度3600线/mm(可选用刻线密度2400线/mm)线色散率倒数：0.26nm/mm分辨率：≤0.007nm(3600刻线）. ≤0.015nm(2400刻线）扫描波长范围：3600线/mm扫描波长范围：190—500nm 2400线/mm扫描波长范围：190—800nm步进电机驱动最小步距:0.0006 nm出射狭缝：12μm入射狭缝：10μm 光电转换器技术指标光电倍增管规格：R293或R298光电倍增管负高压：0-1000V稳定性＜0.05% 整机技术指标：扫描波长范围：195nm～500nm（3600L/mm光栅）195nm～800nm（2400L/mm 光栅）重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD≤1.5％稳定性：相对标准偏差RSD≤2％

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。性能特点 手持操作 专为敏感基材设计 等离子功率密度高 高效激发冷等离子体 产生温度 50 °C冷等离子体

珀金埃尔默全新Avio® 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

等离子体热处理炉为德国生产，具有等离子清洗、表面处理、材料表面修饰、材料热处理的功能。 仪器特点及基本参数：具有等离子体清洗、表面修饰、表面处理、表面活化的功能；具有真空能力(10-5mbar)；芯片倒装凸点(Bump)；凸点焊接；键合；功率器件焊接；样品尺寸：170X200mm，或300x300mm；温度：650摄氏度；24支红外灯加热；2路MFC气路；

1. 产品概述RIE-400iP是用于ø 4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。3. 设备特点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统，排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测，干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计，TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。 德国瑞龙进口手持常压等离子体表面处理仪活化清洗处理机优势 无需化学处理或机械处理 高效脉冲大气等离子体手持装置对大型部件灵活操作和完善品质 优化地易于使用和为操作者的安全 手推车设计方便工业环境的各处使用 完全自动的空气压缩机供应集成在设备内部 双手操作和信号灯先进保护和提醒操作者和第三方 特征 独立的单位 单人易搬运 无需配备PLC只需要电源插座 强大和易于使用 没有压缩空气或质量流量控制要求 不同工艺/基板/几何图形皆可表面处理可实行的应用 活化表面能 杀菌和消毒 涂层和喷涂 超精细清洗 去除氧化物 粘接预处理 应用以下工序预处理 胶粘 印刷 印染 铸造 层压 发泡 涂层 清洗 键合 密封

提升您的期望 — 新型 Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪开启了 ICP-MS 的新纪元。新型 Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪将再次重新定义 ICP-MS：与世界上最畅销的 7700 ICP-MS 系列相比，其高盐基质耐受能力增强了 10 倍，动态范围扩展了 10 倍，信噪比提高了 10 倍 ，而且功能强大的软件还可帮您编写方法。全球最强大的全自动 ICP-MS 具备业内最高效的氦气碰撞模式，具有无与伦比的干扰消除能力，无论什么样的应用，都能为您提供最优异的数据质量。Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪的每个组件都经过精心设计，造就了卓越的性能和可靠性，为您开辟成功之路。特性1. 史无前例的高盐基质耐受能力 — Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪的稳定等离子体和可选的超耐高盐进样系统（UHMI）可帮助您对高达 25% 总溶解固体（TDS）含量的样品进行常规测量，其高盐基质耐受能力比传统 ICP-MS 限量高 100 倍，远远超出了其他任何 ICP-MS。2. 最宽的动态范围 — 新型正交检测器系统（ODS）可提供高达 11 个数量级的动态范围，从亚 ppt 级到百分级浓度，用户可在同一次运行中同时测量痕量与常量元素。3. 痕量物质检测更胜一筹 — 新型的接口设计和优化的扩展级真空系统提高了离子传输效率，在 2% CeO 的条件下可提供 109 cps/ppm 的灵敏度，ODS 则可提高增益并降低背景，进而提高信噪比。4. 更快的瞬时信号分析 — Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪每秒可完成 10000 次独立测量，可为瞬时信号的准确分析提供极短的积分时间5. 无可比拟的易用性 — 最新一代 ICP-MS MassHunter 软件提供了直观的控制面板设计，配备的小工具可指导您完成每一步分析。只需简单回答几个应用问题，或者对一个典型的样品进行分析，创新的方法设置向导即可自动为您创建方法。您还可以使用远程监控应用程序随时随地监测与控制您的 ICP-MS 仪器，增强了灵活性。6. 更高的分析效率 — 超耐高盐进样系统（UHMI）技术结合可选的集成样品引入系统 （ISIS 3）以及 ODS，可以在最宽的动态范围内分析并定量几乎任何样品，避免了因产生量程外结果而不得不重新分析所耗费的额外时间及成本。

等离子体流化床反应器 /包衣机打破粉体处理的边界PROCEPT和ＭPG强强联合推出了等离子体流化床反应器使粉末的功能化和包囊化加工达到了一个全新水平。对于作为修饰基团的有机化合物没有限制，可以是纯溶液、混合物、乳化液、纳米颗粒悬浮液或高分子溶液等离子体流化床包衣机的主要技术参数：批处理粉体粉体处理量：1L反应器50g-200g, 4L反应器200g-1kg颗粒大小要求：50μm-3mm (依据密度0.5kg/L)等离子气体类型：N2、 Ar、 He、 CO2，气体混合物或其他PROCEPT/MPG等离子体流化床包衣机（等离子体流化床反应器）等离子体流化床包衣机融合了PROCEPT公司流化床反应器和MPG公司PlasmaSpot的技术优势。采用可移动滑轮落地时设计，全触摸屏系统控制。特点：为粉体样品表面功能化和包囊化提供了新选择可用有机化学分子和生物分子触摸屏PC控制系统，实时参数记录和表格数据报告功能一步法、干表面处理工艺纳米或微米级外壳厚度处理（单分子多层表面加工能力）适合水敏感、温度敏感的底物无需溶剂、无需干燥、无需保温时间极大缩短了表面修饰工艺时间（10倍---100倍）关键工艺参数均可由控制单元进行处理，如加热和冷却温度设定，等离子体电压等灵活而先进的前沿技术在线取样方便应用表面修饰控释放外壳生物标记造影诊断剂共价结合药物生物分子定位定位释放外壳防腐包衣杀病毒包衣防菌包衣等离子体流化床反应器的其他应用领域：新能源汽车电池材料、太空新材料、电子产品材料、先进复合材料、包装材料、纸张及天然纤维、功能纺织品等

多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪(SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪)PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。 可用于煤的灰化。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪之外，PIE还提供Tergeo、Tergeo Plus、Tergeo Pro等一系列台式等离子清洁刻蚀灰化仪。

激光诱导击穿光谱技术(LIBS)，利用脉冲激光产生的等离子体烧蚀并激发样品（通常为固体）中的物质，并通过光谱仪获取被等离子体激发的原子所发射的光谱，以此来识别样品中的元素组成成分，进而可以进行元素鉴定、材料的识别、分类、定性以及定量分析。 CNI生产的激光诱导等离子体光谱仪中，激光器稳定可靠，光谱仪分辨率高，软件分析快速准确，是实验室、工业现场的实用分析仪器。■ 基本组成 脉冲激光器、光纤光谱仪、聚焦透镜、样品、转台、耦合透镜、光纤座、光纤。■ 激光器的选择固态物质LIBS检测金属样品(金属、合金、钢、矿石等组分检测)高能脉冲激光器E:100μJ~10mJ样品导热性好，激光器能量足够高即可非金属多组分样品(土壤中重金属、氮磷钾肥检测、煤质分析等)低频高能脉冲激光器E:10mJ~100mJ样品导热性，高温易化学反应或燃烧液态物质LIBS检测液体样品(海水、工业污水检测等)高能脉冲激光器E:100mJ~500mJ由于等离子体冲击波作用，液面波动影响探测稳定性气态物质LIBS检测气体或气溶胶(空气成分、大气污染物、汽车尾气、工业废气检测等)低频高能脉冲激光器E:100mJ~1000mJ气体击穿阈值大，需要高能激光作为激发光源