自动湿法

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 9.4 x 8.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1.蛋白质转印快速、高效、重现性好 2.特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3.槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4.最多可同时进行4块凝胶的转印

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 22.0 x 19.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1蛋白质转印快速、高效、重现性好 2、特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3、槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4、最多可同时进行4块凝胶的转印

品牌：久滨型号：JB5100-H名称：全自动湿法激光粒度仪久滨仪器.中国创造一、产品概述： JB5100-H属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。控制系统原理图如下：智能型激光粒度分析仪控制系统原理图二、主要性能特点：★先进的光路设计：JB5100-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；高密度探测单元，让5100-H拥有了超强的小颗粒测试能力，密度探测单元使JB5100-H具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JB5100-H采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让JB5100-H拥有了超强的测试重复性。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能：经过潜心研发，JB5100-H可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，JB5100-H实现了超声功率0到20毫瓦大小可调。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。★自动对中：独家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更精确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是久滨仪器所有型号激光粒度仪的标准配置。光路自动对中功能图★微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。★露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，JB5100-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。三、主要技术参数：规格型号JB5100-H（高配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -600μm探测器通道数70准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率半导体激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准智能操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W遮光度探测仪器具备的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。体积980mm*410mm*450mm重量30Kg

LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

兆声辅助湿法去胶技术SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统应用：湿法去胶带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统的特点： 机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统选配项：多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

n产品简介CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理，包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配置3个自动输送臂，多种不同的喷嘴，以满足不同的湿法应用。 n产品特色÷ 应用领域：清洗、蚀刻或显影÷ 衬底尺寸可达 ?300 毫米或可达 230 x 230 毫米÷ 最多三个自动输送臂÷ 可选不同类型的喷嘴和 BSR 喷嘴÷ 去离子水室冲洗÷ 电阻率 PH-Sensor 控制÷ 单臂或双臂机械臂÷ 带 FOUP 或 Cassette 的÷ 真空或低接触卡盘÷ 外部10或40升不同化学品罐可选÷ 由 PP 制成的工艺室（可选 ECTFE）÷ 两个或多个排液分流器（传感器控制和通过配方编程）÷ 带有四个光区的信号灯，使系统状态可视化÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的通用设计÷ 兼容SCES/GEM通讯协议÷ 清洗部分，包含PVA刷洗，兆声清洗，化学液清洗等模组 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?300 mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)÷ 电机转速: 最大 6.000 转数*, 以 1 转 步进可编程÷ 电机加速: 最大 40.000 转/秒*, 以 1 转/秒的步进÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长为 0.1 秒÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成，4 个可调节支脚和运输轮以及用于加工区域的透明和可锁定的玻璃门÷ 处理室: 由 PP 白色制成（可选 ECTFE）

兆声湿法去胶技术LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。LSC和SWC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC是占地面积较小，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版 掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

全自动湿法激光粒度分析仪产品简介: Winner2006是一款微纳自主研发的全新的智能湿法激光粒度分析仪，它采用米氏散射理论，运用微纳独特的无约束自由拟合技术和智能控制技术，光路自动对中，具有测试速度快，测试重复性好等优点，是宽分布颗粒粒度测试的正确选择。 产品特点： 无约束自由拟合技术粒度分析不受任何函数限制，真实反映颗粒分布状态。光路自动对中自主研发三维自动对中系统（专利号：ZL . 2013 2 0835882 . 4），采用精密四相混合式步进电机，微精度达到微米级别，使仪器光路始终处于对中状态，为测试结果的准确性和稳定性提供了基础保障。全内置分散系统采用获得国家发明专利（专利号:ZL.2010 1 0533181.6）的自主研发设计的湿法颗粒循环装置，集搅拌、超声、循环、排水于一体，整体协调性高，防止了测试过程中样品颗粒的二次沉淀。全自动模式软件智能化，支持一键操作，点击“自动测试”，按提示加入样品后，进水、分散、循环、测试、清洗等操作步骤自动完成。双光束测试采用双激光双光束专利技术（专利号：ZL . 2007 2 0025702 . 0），不仅克服了样品池的光学干扰，还扩大了测试角度，开拓了宽分布颗粒测试的新领域。 产品技术参数： 产品型号Winner2006AWinner2006B执行标准GB/T19077-2016；ISO 13320:2009； Q/0100JWN001-2013测试范围0.01—1000μm0.1—1000μm通道数量9086准确性误差≤0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差≤0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数主激光源：高性能激光器 λ=639nm 功率P＞2mW辅助激光源：半导体激光器 λ=532nm 功率：P＞2mW分散方法超声频率 f=40KHZ 超声 P=60W 时间可调搅拌转速 0—3000rpm 转速可选循环额定流量 17L/min 额定功率：P=15W样品池容量 450ml操作模式软件操作/全自动操作模式（可切换）光路对中全自动对中系统测试速度10S—120S产品体积900×400×500mm产品重量40Kg 应用领域： 主要测量不溶于水或液体介质的固体颗粒、固体粉末、混悬液、乳液、碳酸钙、凝胶、陶瓷、磨料、添加剂、农药、石墨、高岭土、金属与非金属粉末等，广泛应用于高校、科研院所、化工、冶金、建材、非矿、医药、磨料、新材料、新能源、环境、食品、石化、水利等行业。

济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪一、产品简介 Winner2006全自动湿法激光粒度仪 是Winner2005智能型宽分布湿法激光粒度仪的升级产品，开拓了宽分布颗粒测试的新领域。 Winner2006全自动湿法激光粒度仪采用先进的测试原理、独特的计算模式以及权威的校准方式，使该款仪器具有测试结果准确、测试重复性好、分辨率高等突出优点，是宽分布颗粒粒度测试的最佳选择。 济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪二、适用范围 Winner2006全自动湿法激光粒度仪广泛应用于水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、颜料、填料、化工产品、催化剂、钻井泥浆、磨料、润滑剂、煤粉、泥砂、粉尘、细胞、细菌、食品、添加剂、农药、炸药、石墨、感光材料、燃料、墨汁、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆及其他粉状物料。三:技术参数规格型号Winner2006AWinner2006B执行标准ISO13320-1:1999，GB/T19077.1-2008，Q/0100JWN001-2013测试范围0.01-780μm0.1-1000μm探测器通道数6849准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数主激光源：美国进口半导体光纤激光器 λ= 650nm, p2mW辅助激光源：半导体激光器，λ= 650nm，p2mW，使用寿命：＞25000H内置分散方法超声频率：f=40KHz, 功率：p=35W, 时间：≥1S搅拌转速：0-3000rpm转速可调循环额定流量：10L/min 额定功率：15W样品池容量：450mL操作模式软件操作 / 全自动操作模式可切换自动对中系统全自动对中系统软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求。统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式。 统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义。自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。 测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果。 多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。 智能操作模式具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，不但减轻测试人员的工作量，而且由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。 测试速度2min/次体积850mm*390mm*450mm重量40Kg 济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪四、Winner2006全自动湿法激光粒度仪产品特点（1） （1）采用美国进口半导体光纤激光器作为主光源。此光源采用单膜光纤，性能可靠、结构紧凑、寿命长、免维护、电光转换效率高、以及在全功率范围内，光束发散角和光束质量完全保持一致。（2） （2）主探测器采用最新设计的TD41型探测器，尽可能提高了主探测的测试下限，可以和辅助探测器实现无缝衔接，克服了主探测器和辅助探测器交接处测试不准确的问题。（3） （3）辅助探测器采用日本进口带滤光的光电探测器，在排列上使用电路板一体成型技术，更好地提高了小颗粒的测试准确度。（4） （4）为了保证本款仪器测试上限，采用了更大功率的循环泵，有效降低了泵体的磨损。 售后承诺：1.一月内达不到用户使用要求可退换货。2.一年内免费上门保修，维修或更换零件均不收任何费用。3.提供10年内上门保修、维护、调试、培训等服务。4.同型号产品软件终生免费升级。 济南市场部http://www.instrument.com.cn/netshow/C82577.htm

请联系：张先生VCSEL具有阈值电流低、工作波长稳定、光束质量好、易于一维和二维集成等优点，在光通信、激光显示、光存储、消费电子等领域得到了广泛应用。目前，850nm的VCSEL是短程局域网光纤通信系统的关键器件，用于短距离的数据通信；940nm的VCSEL在传感领域发挥着中流砥柱的作用，在消费电子中大放异彩；1310nm的VCSEL在高速长距离光纤通信、光识别系统及并行光互连系统中占据重要地位。此外，808nm的VCSEL在医美行业的应用也开始受到重视。 VCSEL主要有4种结构：氧化限制型、离子注入型、蚀刻台面型和掩埋异质结型。由于氧化限制型的电流限制效率最高，目前对其研究最多。其基本原是：外延生长一层AIAs的材料，在380～480 ℃ 的温度下，通过湿法氧化工艺，将其氧化成低折射率的绝缘A1xOy 氧化物，主要反应为2AlAs+3H2O→+A1203+2AsH3AlAs+3H2O→Al(OH)3+AsH3A1xOy氧化物的高阻值对电流具有限制作用，低折射率对激光场具有导引作用，所以氧化限制层既起到了限制载流子又达到了调节腔长的目的。 我司代理的Koyo湿法氧化炉，具有温度均匀性高、水汽易于控制、氧化一致性好、晶圆全自动搬送、最多25片同时处理等特点，目前已成为VCSEL研发及量产的首选机台。请联系

美国Chemcut湿法蚀刻设备Chemcut 半导体制造的水平化学加工设备专注于：&bull 晶圆湿法加工包括铜，钛/钨等金属蚀刻，干膜显影和退膜等&bull 导线框架 (QFN) 和 BGA 等背蚀刻和半蚀刻&bull 导线框架 (QFN) 和集成电路 IC 截板加工湿式加工设备 CC8000CC8000 设计用于加工半导体，IC (引线框架和 IC 基板)，高端HDI PCB / FPC，触控和 LCD 显示屏幕，太阳能和精密金属零件。其独特的喷涂架设计使其能够达到更高水平的蚀刻质量。自启动以来，已成交并安装了700多个系统。晶圆图案制作：&bull 干膜显影&bull 铜蚀刻&bull 钛/钨蚀刻晶圆 Bumping 湿法工艺&bull 光阻显影：与 Pad 制作类似&bull 光阻剥离：需要高喷洒压力 (30 - 40 bars)&bull 种子层 (UBM) 蚀刻：使用喷洒或浸渍技术Chemcut 2300 系列 小批量生产批量和原型系统Chemcut 2300 是一种紧凑，双面，水平，传送带式，振荡喷射处理系统系列，采用了与大型系统相同的成熟技术和质量。 2300 系列非常适用于实验室，原型和小批量印刷电路以及化学机械加工零件，仪表板和铭牌。本系列湿法设备有多种配置，可用于铜和氯化铁蚀刻，碱性氨蚀刻，抗蚀剂显影，化学清洗和抗蚀剂剥离。该机器的特殊版本可用于专业处理，如使用氢氟酸和硝酸混合物进行蚀刻以及高温蚀刻（最高 160°F，71°C）。适用于：&bull 化学清洗&bull 铁蚀刻&bull 铜蚀刻&bull 碱性蚀刻&bull 抗蚀剂显影&bull 抗蚀剥离&bull 宽度 15 到 20 英寸&bull 18 X 24 功能应用于：&bull 原型商店&bull 小批量商店&bull 开发实验室&bull 研发部门&bull 大学&bull 特殊加工&bull 替代化学品&bull 研磨特殊合金&bull 减少废物

微纳 2000zd 全自动 湿法 激光粒度仪 Winner2000ZD ：winner2000zd全自动湿法激光粒度分析仪是一款人性化的全自动激光粒度仪，是我公司激光粒度仪又一次飞跃性的突破。它采用Mie氏散射原理、会聚光傅立叶变换光路专利技术及无约束自由拟合数据处理技术的同时更赋予了自动化、智能化等一些时代性的标志，使操作更简便、方法更统一、结果更稳定，是粒度测试的首选搭档和得力助手。二、适用范围：winner2000zd全自动湿法激光粒度分析仪广泛应用于水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、颜料、填料、化工产品、催化剂、钻井泥浆、磨料、润滑剂、煤粉、泥砂、粉尘、细胞、细菌、食品、添加剂、农药、炸药、石墨、感光材料、燃料、墨汁、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆及其他粉状物料。微纳 2000zd 全自动 湿法 激光粒度仪 厂家三、主要性能特点：独特的软件功能：分析软件在常规粒度测试软件的基础上添加如下独特功能：1、 分析模式：包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求；2、 统计方式：体积分布、数量分布3、 统计比较：可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对样品变化程度的控制具有良好的指导意义。4、 自定义分析：用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。5、 测试报告输出形式：测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果。6、 多元化的语言界面：支持中英文界面，并可扩展成任何语言的界面。光路设计先进：采用会聚光傅立叶变换专利技术使得大角度散射光不受傅立叶透镜孔径的限制，将焦距缩至最短，有效提高仪器的分辨能力；该光路设计原理属于国际领先技术原理。湿法分散系统的全内置结构：精心设计了样品分散系统的每一个部件，将机械搅拌、超声分散及样品循环通路合理的集于仪器内部，有效地避免了因分散系统外置而造成管路长、颗粒分布不均、大颗粒沉积等不良现象，对测试结果的准确性和稳定性提供了有力的保障；无约束自由拟合技术：粒度分析软件采用独创的无约束自由拟合反演技术，数据处理后可以获得更加真实的分布情况，对于高校、研究所等科学研究型客户具有非常重要的实用价值；配备微量样品池（备选）：针对微量贵重样品的测试需求，配备了容量只有10mL的微量自循环样品池，以满足样品或分散介质成本较高的用户。时代化的测试方式：所有的测试操作步骤均通过计算机控制完成，测试人员只需操作计算机，便可在轻松的环境下结束整个测试过程，并得到理想的测试结果；人性化的操作模式：操作系统设有人工和自动两种模式，用户可以根据所测样品自身的特性和规律，自由地选择不同的模式。例如对于一些具有特殊要求、比较难测、测试规律性较差或是实验性的样品，用户可以先选择人工模式进行测试，待了解了所测样品的基本特性和测试条件后，再选用自动模式进行测试，以便于得到最佳的测试结果；全自动的对中系统：采用精密四项混合式步进电机，自动进行光路调整，并且随时对光路校对，消除了手动对中光路时带来的麻烦和困难，同时也从光学的角度提升了测试结果的准确性和稳定性；高效率的测试过程：设定好各项测试条件的参数后，启动自动测试模式，除了加入适量的被测样品外，所有的操作过程都由仪器自动完成， 从而极大地提高了测试效率；智能化的校准方法：该仪器的控制软件中还配有智能校准功能，使仪器的校准更加方便快捷，保证测试结果更加稳定可靠；全面性的数据分析：将测试数据进行全面的分析，自动剔除不良结果，并对测试结果自动进行综合处理，免除了人工数据处理的麻烦，同时也使测试结果具有更强的代表性和权威性。微纳 2000zd 全自动 湿法 激光粒度仪 厂家四、技术参数 规格型号Winner2000ZDEWinner2000ZD执行标准ISO13320-1:1999，GB/T19077.1-2008，Q/0100JWN001-2013测试范围0.1-300μm0.1-40μm /0.6-120μm/1-300μm探测器通道数3932×3准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数高性能He-Ne激光器 λ= 632.8nm, p2mW，使用寿命：＞25000H内置分散方法超声频率：f=40KHz, 功率：p=35W, 时间：≥1S搅拌转速：0-3000rpm转速可调循环额定流量：8L/min 额定功率：10W样品池容量：350mL操作模式软件操作 / 全自动操作模式可切换对中系统全自动对中系统软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，不但减轻测试人员的工作量，而且由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。测试速度2min/次体积860mm*360mm*440mm重量40Kg售后承诺：1.一月内达不到用户使用要求可退换货。2.一年内免费上门保修，维修或更换零件均不收任何费用。3.提供10年内上门保修、维护、调试、培训等服务。4.同型号产品软件终生免费升级。 济南市场部济南微纳Winner在线粒度监测系统/在线激光粒度仪 http://www.instrument.com.cn/netshow/C82577.htm

JH3100-L智能全自动湿法激光粒度分析仪 首先感谢您对佳航仪器的关注！我公司视“打造国产最稳定的激光粒度仪器”为己任，以科技创品牌、质量闯市场、信誉赢天下为方针，全力打造超稳定、高性价比的国产激光粒度仪器。JH3100-L是我公司新推出的便携一体式粒度仪，具有体积小、量程大、自动化程度高等多个优点，整机仅有850mm*270mm*315mm （含一体式超声、分散、循环），体积虽小量程却达到了0.1μm -600μm。JH3100-L属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际最先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。JH3100-L操作过程全部由计算机自动完成控制完成，控制系统原理图如下： 智能型激光粒度分析仪控制系统原理图 光路自动对中功能图JH3100-L激光粒度分析仪主要性能特点：★先进的光路设计：JH3100-L采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让3100-L拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使JH3100-L具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JH3100-L采用了高稳定、长寿命的日本三菱全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让粒度仪拥有了超强的测试重复性，JH3100-L激光功率大小可调，最大激光功率也做到了20mw。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能： JH3100-L可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★全新SOP自编辑功能：为满足不同样品的测试需要，JH5200-H实现了SOP自编辑功能，根据不同的样品编辑不同的测试流程，一次编辑保存后下次直接调取使用。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★光路调整：计算机远端控制精密自锁电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距1微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。。★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★槽钢导轨：光路导轨由铝合金统一升级为加厚槽钢，光路系统更加稳定可靠，同时大大降低温度、湿度对光路的影响。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。 主要技术参数：规格型号JH3100-L（标配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -500μm探测器通道数65准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p20mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-4000rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：20W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积750mm*270mm*315mm重量25Kg

BOS-1070智能全自动湿法激光粒度分析仪我公司视“打造国产最稳定的激光粒度仪器”为己任，以科技创品牌、质量闯市场、信誉赢天下为方针，全力打造超稳定、高性价比的国产激光粒度仪器。BOS-1070是我公司新推出的便携一体式粒度仪，具有体积小、量程大、自动化程度高等多个优点，整机仅有850mm*270mm*315mm （含一体式超声、分散、循环），体积虽小量程却达到了0.1μm -500μm。BOS-1070属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际zuixian进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。BOS-1070激光粒度分析仪主要性能特点： xian进的光路设计：BOS-1070采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1070拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1070具有chao强的全量程无缝测试能力。全密封光纤半导体激光器：BOS-1070采用了高稳定、长寿命的日本三菱全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让粒度仪拥有了chao强的测试重复性，BOS-1070激光功率大小可调，zui大激光功率也做到了20mw。全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。超声防干烧功能：BOS-1070可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。全新SOP自编辑功能：为满足不同样品的测试需要，BOS-1070实现了SOP自编辑功能，根据不同的样品编辑不同的测试流程，一次编辑保存后下次直接调取使用。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。光路调整：计算机远端控制精密自锁电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距1微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。。免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。槽钢导轨：光路导轨由铝合金统一升级为加厚槽钢，光路系统更加稳定可靠，同时大大降低温度、湿度对光路的影响。样品无残留设计：仪器管道及排水根据不同的样品编辑不同的测试流程，一次编辑保存后下次直接调取使用。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。光路调整：计算机远端控制精密自锁电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距1微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。。免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。槽钢导轨：光路导轨由铝合金统一升级为加厚槽钢，光路系统更加稳定可靠，同时大大降低温度、湿度对光路的影响。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。 主要技术参数：规格型号BOS-1070执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -500μm探测器通道数65准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p20mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-4000rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：20W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积750mm*270mm*315mm重量25Kg

动态图像分析仪测试原理：从高脉冲光源发出的脉冲光，经过光束扩束器，得到平行的脉冲光，在测试区域频闪光照射在分散好的单个颗粒上，经过拥有专利的光学成像系统，得到每个颗粒清晰的图像和全部样品的粒度分布。不同评估参数及模式：与物料特性相适应规整的颗粒 等效投影圆面积径 | 球形度 | 宽长比细长型Feretmax | Feretmin | 凸度 | 宽长比纤维状 LEFI | DIFI | VBFD | 平直度 | 伸长率透明颗粒 Feretmean | PED |宽长比与其它测试手段的可比性筛分 Feretmin | DIFI激光衍射等效投影圆面积径德国新帕泰克全自动高效湿法动态图像分析仪QICPIC&MIXCEL功能及特点：配备功能强大的全自动湿法分散模块MIXCEL，内置超声分散模块、双搅拌桨及循环单元特殊的样品池设计，适用于高比重、易沉降样品的测试可自定义检测溶液体积 ：250 ml - 1,000 ml双液位自动感应器，可实现全自动进出水可选配不同尺寸的流样池，流样池易拆卸，易清洗可根据具体应用选用不同的密封圈材质：EPDM 、FKM 或 FFKM快速测量，可在极短的时间内检测几千万个颗粒，获得较佳的统计结果强大的数据处理功能，测试结果可通过颗粒图片库、视频、粒度分布曲线、粒形分布曲线等多种方式呈现可自定义粒度或粒形的过滤条件，来观察符合过滤条件的特征颗粒群应用领域：QICPIC & MIXCEL广泛应用于军工行业、医药行业、电池行业等领域，可用于测试如硝化纤维、电池材料、金属材料等物质的粒度粒形检测。

1. 产品介绍 槽式湿法刻蚀清洗设备2. 应用领域RCA清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管前清洗等3. 技术参数晶圆尺寸：100mm~300mm4. 设备配置：支持化学液C.C.S.S.、L.C.S.SMarangoni dry 或 spin dry自动换酸，自动补液、配液加热控制，浓度控制，流量控制，压力控制等槽体过温保护，各单元配置漏液传感器支持化学液回收全面支持SECS/GEM通讯协议5. 工艺指标蚀刻非均匀性 片内：≤4%；片间：≤4%；批次间： ≤4%；6. 颗粒控制增加值30颗@0.09μm（带氧化硅膜测试，来料颗粒50颗）7. 金属离子5E9 atoms/cm28. 企业概括深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 22.0 x 19.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1蛋白质转印快速、高效、重现性好 2、特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3、槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4、最多可同时进行4块凝胶的转印

BOS-1076-A全自动激光粒度分析仪BOS-1076-A属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际最xian进的Mie氏散射原理和双镜头技术。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。BOS-1076-A激光粒度分析仪主要性能特点：xian进的光路设计：BOS-1076-A采用chao强可变能谱放大技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1076-A拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076-A具有chao强的全量程无缝测试能力。全密封光纤半导体激光器：BOS-1076-A采用了高稳定、长寿命的全密封进口光纤半导体激光器，优良的稳定性让BOS-1076-A拥有了chao强的测试重复性，（激光器五年质保）。激光智能管理系统：BOS-1076-A率先增加了激光器智能管理系统，智能管理系统实时监测仪器的工作状态，一旦接收到工作的命令智能管理系统会瞬间点亮激光器，高性能激光器会在3秒内达到稳定的工作状态。样品测试完毕后智能管理系统会自动关闭激光器，激光器基本上不会衰减，理论上粒度仪可以终身不需要更换激光器。。全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。超声防干烧功能：经过潜心研发，BOS-1076-A可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，BOS-1076-A实现了超声功率0到100瓦大小可调（选配）。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂自动对中：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。du特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）双循环系统：为了满足特殊用户需求BOS-1076-A可选装双循环系统，微量系统大于15毫升即可循环测试。（其他厂家微量测试都是静态的）免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。露点温度测量：仪器具备露点温度测量功能，防止了测试过程中因结雾对测试数据的影响。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。主要技术参数：规格型号BOS-1076-A（高配）执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.01μm -1000μm探测器通道数86准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值） 最小散射光分辨角度0.016度免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确 露点测量仪器具备露点温度测量功能，防止因结雾对测试数据造成影响误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=50W,时间：可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-3950rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度10秒/次（不含样品分散时间）体积840mm*370mm*430mm重量30Kg

BOS-1076-H全自动激光粒度分析仪BOS-1076-H采用国际最xian进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。du特的湿法循环分散系统，保证颗粒测试过程中无颗粒沉积现象，测试排水后无废液积存现象，保证了第二次测试精度，使测试结果更真实可靠；同时采取了管道无残留设计，保证了测试不同样品的准确性。优越的光路自动校对系统彰显出BOS-1076-Hdu特优势。BOS-1076-H激光粒度分析仪主要性能特点：xian进的光路设计：BOS-1076-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1076-H拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076-H具有chao强的全量程无缝测试能力，高配版采用了双光路设计。进口光纤半导体激光器：BOS-1076-H采用了高稳定、长寿命的进口大功率光纤输出半导体激光器，优良的单色性及稳定性让BOS-1076-H拥有了chao强的测试重复性。激光器功率监测及自动调整：shuai先采用了恒功率激光器，实时对激光功率进行检测并自动调整功能，有效避免长期使用造成的激光功率衰减的问题。同时采用了恒流恒压高滤波激光电源有效延长了激光器寿命，正常使用达3万小时以上。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的悬浮式结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使结果测试更稳定可靠。自动对中：shou家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷zui快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。智能全自动操作模式：软件实现一键式操作，自动进水、自动进样、自动测试、自动清洗，整个测试过程实现一键式全自动操作，使用方便快捷。du特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于180毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；所有接头采用了速插快拧设计，短时间内即可更换全部管道；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。超宽量程：BOS-1076-H量程达到了0. 01μm～1500μm或0.01μm～200μm（两种量程定货时需注明）。超声防干烧：BOS-1076-H配备了100W大功率超声，同时具有超声防干烧功能。误操作保护：BOS-1076-H具有自我保护功能，对一些会损害仪器的误操作不响应，大大降低了因人为误操作造成的损坏。露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，BOS-1076-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示（选装）。免排气泡设计：全新的设计使整个测试过程不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰（免排气泡功能技术我们du家拥有）。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响；干法测试同样进行了无残留设计。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷（20秒钟即可完成样品窗的拆装过程）。稳定性及重复性达到国外仪器标准主要技术参数：规格型号BOS-1076-H执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.01μm -1500μm0.01μm -2000μm探测器通道数90 96准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环流量额定流量：0-30L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY显示模板用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式电脑操作测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

BOS-1076-C全自动激光粒度分析仪BOS-1076-C采用国际最xian进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。du特的湿法循环分散系统，保证颗粒测试过程中无颗粒沉积现象，测试排水后无废液积存现象，保证了第二次测试精度，使测试结果更真实可靠；同时采取了管道无残留设计，保证了测试不同样品的准确性。优越的光路自动校对系统彰显出BOS-1076-Cdu特优势。BOS-1076-C激光粒度分析仪主要性能特点：★xian进的光路设计：BOS-1076-C采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1076-C拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076-C具有chao强的全量程无缝测试能力，高配版采用了双光路设计。★进口光纤半导体激光器：BOS-1076-C采用了高稳定、长寿命的进口大功率光纤输出半导体激光器，优良的单色性及稳定性让BOS-1076-C拥有了chao强的测试重复性。★激光器功率监测及自动调整：du家采用了恒功率激光器，实时对激光功率进行检测并自动调整功能，有效避免长期使用造成的激光功率衰减的问题。同时采用了恒流恒压高滤波激光电源有效延长了激光器寿命，正常使用达3万小时以上。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的悬浮式结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使结果测试更稳定可靠。★自动对中：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷zui快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。★智能全自动操作模式：软件实现一键式操作，自动进水、自动进样、自动测试、自动清洗，整个测试过程实现一键式全自动操作，使用方便快捷。★du特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于180毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；所有接头采用了速插快拧设计，短时间内即可更换全部管道；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。★超宽量程：BOS-1076-C量程达到了0. 1μm～2000μm。★超声防干烧：BOS-1076-C配备了100W大功率超声，同时具有超声防干烧功能。★误操作保护：BOS-1076-C具有自我保护功能，对一些会损害仪器的误操作不响应，大大降低了因人为误操作造成的损坏。★露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，BOS-1076-C加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。★免排气泡设计：全新的设计使整个测试过程不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰（免排气泡功能技术我们du家拥有）。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响；干法测试同样进行了无残留设计。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷（20秒钟即可完成样品窗的拆装过程）。稳定性及重复性达到国外仪器标准 主要技术参数：规格型号BOS-1076-C执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.1μm -1250μm0.1μm -2000μm探测器通道数8696准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环流量额定流量：0-30L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、正己烷等一切有机溶剂）。软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY显示模板用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式电脑操作测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

New ClippIR+ AnalyzeIT湿法过程分析仪 ABB用于半导体工业中湿法过程在线、实时监测和控制的解决方案 在半导体制造业中，对湿法化学过程进行连续监测可以提高产量，降低故障率，使生产利润最大化 在半导体制造业中，为了提高企业的生产能力和产品质量，降低生产成本，需要对相关的湿法过程进行精确的控制。ABB公司的湿法过程分析仪（WPA）可以对各种刻蚀液、清洗液和去光胶液的化学浓度进行连续的在线监测，并为实时过程控制提供了必要的信息。 采用实时过程监测，企业能从化学制品有效期的延长、消耗与浪费的减少以及实验室测量工作的减轻等方面提高成本效益。实践表明，将SC1、SC2等清洗液的使用寿命延长25%到30%，WPA的投资成本一般可以在一年内收回。对于一些通用的有机化学试剂，它的成本回收期大约只有6个月左右。 WPA具有许多独特的技术优势，它能够对湿法过程中使用的30多种不同的溶液（见下页的列表）进行监测。另外，ABB公司还可以根据客户的具体要求定制专门的标准曲线。 WPA系统中包含的FTSW100过程控制软件，可以实现分析仪与湿法过程的完全集成。除了能够显示在过程流中监测到的各种化学成分的浓度值及其变化趋势外，该软件还有自动数据存储功能，当某些数值超出了许可范围时，该软件还会发出警告或报警。当清洗液成分不符合要求时，软件会报警通知操作人员，同时使设备自动阻挡清洗液的流入。 非接触式红外检测 WPA主机为傅立叶变换近红外光谱仪（FT-NIR），这种光谱仪通过光纤连接到名为ClippIR+的Teflon专利检测池。一次最多可以使用8个ClippIR+来同时监测各种化学溶液。ClippIR+的创新设计可以使其能够很容易地固定在现有管道的外表面上。穿过ClippIR+的红外光使系统可以直接监测管道内的化学物浓度，而不会造成任何污染。 ClippIR+专为半导体应用而设计，能够安装在任何尺寸的Teflon管上。由于它体积小，因此可以安装在很小的化学箱体之上，或者安装在湿法设备的其它任何部件之内。另外，它还具有抵抗化学腐蚀的能力，可以在强腐蚀性环境中使用。 FTPA-2000系列光谱仪可以在恶劣的工业条件下使用，它具有很小的外形尺寸（43× 41× 18厘米），可以安装在离ClippIR+远达100米处。它既可以在洁净室外作为一个独立的装置单独使用，也可以集成在整个过程分析仪系统中使用。 FTSW100过程控制软件中的测量屏幕将显示各种成份的浓度值与变化趋势：Teflon检测池 新型专利产品ClippIR+具有抗污染和抗化学腐蚀性能，并且不需要中断生产就可以在生产流路中快速安装。多路分析 1台WPA能够监测多达8种不同的过程流，对每个流路可以分析其4种配方（最多可达32个参数）。红外（IR）分析 半导体红外分析避免了在过程流中循环的溶解金属或其它颗粒物所造成的干扰。插入式测量 不需要引出过程支流，可通过光纤传输的红外线对管道中的过程流直接进行测量。远程监测 WPA可以设置在离测量点（ClippIR+）远达100米处，如果必要，还可以将其放在室外。 特点 可对湿法化学过程进行精确的、实时的在线监测； 非接触式测量； 快速测量 （＜1分钟，多种通讯协议）； 多过程流分析（最多可达8个流路）； 多组分分析（每个流路最多可达4种配方）； 通过光缆实现远程监测，外形尺寸小； 极高的稳定性与可靠性； 不需要使用试剂； 全球化的售后服务与技术支持。优势 由于延长了清洗液使用寿命，减少了化学品消耗量，并且无离线实验室分析所需要的停工期，因此节约了生产费用； 无化学品损耗，无污染，安装时无需停工； 能够实现实时过程控制； 每条过程流分析成本低； 增强了在技术要求很严格的场合的过程分析性能，减少了晶片清洗的次数； 灵活的安装选择； 无漂移，仅需少量维护； 交钥匙系统； 迅速的服务响应。ABB Analytical ABB（China）Ltd. 585 boulervard Charest E., Suite 300 中国 北京 100016 Quebec, QC G1K 9H4 Canada 朝阳区酒仙桥路 10 号恒通广厦 电话: 传真: 欲了解更多信息 电子邮件: 请访问我们的网站

BOS-1090-A湿法全自动激光粒度仪BOS-1090-A激光粒度分析仪主要性能特点：先进的光路设计：BOS-1090-A采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让BOS-1090-A拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1090-A具有超强的全量程无缝测试能力，高配版采用了双光路设计。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的悬浮式结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使结果测试更稳定可靠。双光路双激光器：BOS-1090-A高配版采用了双光路多镜头设计，主光采用高稳定、长寿命的进口光纤半导体激光器，辅光采用高稳定、长寿命的进口光纤半导体激光器（λ=635nm, p5mW）。自动对中：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。激光器功率监测及自动调整：du家采用了恒功率激光器，实时对激光功率进行检测并自动调整功能，有效避免长期使用造成的激光功率衰减的问题。同时采用了恒流恒压高滤波激光电源有效延长了激光器寿命，正常使用达3万小时以上。激光器智能管理系统：BOS-1090-A率先增加了激光器智能管理系统，智能管理系统实时监测仪器的工作状态，一旦接收到工作的命令智能管理系统会瞬间点亮激光器，高性能激光器会在3秒内达到稳定的工作状态。样品测试完毕后智能管理系统会自动关闭激光器，激光器基本上不会衰减，理论上可以终身不需要更换激光器。独特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于180毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；所有接头采用了速插快拧设计，短时间内即可更换全部管道；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。超宽量程：BOS-1090-A量程达到了0.01μm～2800μm。超声防干烧：BOS-1090-A配备了100W大功率超声，同时具有超声防干烧功能。误操作保护：BOS-1090-A具有自我保护功能，对一些会损害仪器的误操作不响应，大大降低了因人为误操作造成的损坏。露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，BOS-1090-A加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。免排气泡设计：全新的设计使整个测试过程不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰（免排气泡功能技术我们du家拥有）。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响；干法测试同样进行了无残留设计。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷（20秒钟即可完成样品窗的拆装过程）。软件：符合药典GMP规定，具有电子签名、权限设置、数据追踪、数据不可更改等功能。对于制药行业客户，可以提供3Q认证。 主要技术参数：规格型号BOS-1090-A执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.01μm -2800μm探测器通道数128免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应镜头进口佳能镜头激光器参数双光束，进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路实现自动校准智能操作模式软件一键式全自动操作防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）遮光度探测仪器具备的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、正己烷、异丙醇等一切有机溶剂）。测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

兆声湿法去胶技术SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统应用： 光刻胶去除，剥离带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统选配项：机械手自动上下载片掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。【湿法管线式高剪切胶体磨介绍】 湿法胶体磨,上海湿胶体磨,湿法超细胶体磨， 简单说就是对物料进行液体状态研磨粉碎或流质体状态下研磨粉碎，适用于一些要求物料本身含有油性、水分、或有要求低温、防止挥发、易燃易爆等情况下采用。上海依肯机械设备有限公司内有样机，可提供免费实验，实验结果是检验设备优劣的唯一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售 徐工 IKN改进型胶体磨综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。【工作原理】 高剪切，研磨及高速搅拌作用。磨碎依靠两个齿形面的相对运动，其中一个高速旋转，另一个静止，使通过齿面之间的物料受到大的剪切力及磨擦力，同时又在高频震动，高速旋涡等复杂力的作用下使物料有效的分散、浮化、粉碎、均质。 【特点】☆更稳定 采用优化设计理念，将先进的技术与创新的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.☆ 新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割力，纤维湿法研磨破碎可达400目.☆ 更可靠 采用整体式机械密封，大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.☆新技术 采用国际先进的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。【胶体磨的技术参数】高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMS 2000/470014000404DN25/DN15CMS 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMS 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMS 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMS 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMS 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。【应用域】食品行业：乳品、豆乳、果汁、米浆、果酱、果冻、奶酪、蛋***、沙拉酱、冰淇淋、巧克力、食品添加剂、食用香精香料；化学工业：染料、涂料、润滑油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、白炭黑,二氧化硅,炭黑等；日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等；医药工业：各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、乳化猪皮等； 建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等；生物医药：药膏、软膏、霜剂、脂肪乳、细胞组织破碎、糖衣、填充剂分散等；纳米材料：超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散 等。 以上是湿法管线式高剪切胶体磨的详细介绍，包括湿法管线式高剪切胶体磨的厂家、价格、型号、图片、产地、品牌等信息!上海依肯机械设备有限公司内有样机，可提供免费实验，实验结果是检验设备优劣的唯一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售 徐工高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。

品牌：久滨型号：JB6100-A品名：激光粒度分析仪久滨仪器.中国创造一、产品概述： 　JB6100-A采用先进的散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。独特的湿法循环分散系统，保证颗粒测试过程中无颗粒沉积现象，测试排水后无废液积存现象，保证了第二次测试精度，使测试结果更真实可靠；同时采取了管道无残留设计，保证了测试不同样品的准确性。优越的光路自动校对系统彰显出JB6100-A优势。稳定性及重复性达到国外马尔文仪器标准主要技术参数：规格型号JB6100-A执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.01μm -2000μm探测器通道数121准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应镜头进口佳能镜头激光器参数双光束，进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路实现自动校准智能操作模式软件一键式全自动操作防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷、异丙醇等一切有机溶剂）。测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

湿法钢材腐蚀疲劳测试平台，主要用来研究钢渣碳化氧化腐蚀过程。装置有310S反应釜，反应炉电加热。装置主要有进料单元、反应单元、尾气处理单元。该装置反应器设计温度600℃，设计压力3Mpa。装置的整体水平要求自动化程度高，数据精确度及重复性好，安全可靠并能长周期稳定运行

SYMPATEC公司在1996年首次推出的HELOS/QUIXEL激光粒度仪，是在原HELOS/SUCELL激光粒度仪的基础上发展起来的一种全自动快速湿法激光粒度仪（QUIXEL的含义就是QUICK-SUCELL）。 HELOS | QUIXEL高速湿法激光粒度分析仪QUIXEL是一款技术先进的全自动湿法分散系统，适用于粒径在 0.1-3,500 μm之间的各种悬浮液和乳液的粒径分析，也适用于粒度较大和比重较高的颗粒分析。其创新的无管化设计使测量周期非常快，并且适用于有机溶液作为分散剂的检测，耐腐蚀性好。HELOS&QUIXEL适用于粉末冶金, 硬质合金, 稀土，磁性材料, 石油化工，化工，制药，陶瓷，水泥，涂料，造纸，地质，矿物加工，食品，化妆品等行业HELOS | QUIXEL高速湿法激光粒度分析仪应用优势1. 可测量zui大为3500微米的大颗粒、高密度颗粒、高浓度的溶液以及有毒有害或腐蚀性物料 2. 特殊设计的快速进料和出料结构，使得进出料一个周期不超过60秒，大大减少了测量时间 3. 优化设计的全内置液体通道，完全没有外置的循环管道，结构紧凑，外观简洁美观 4. 可选配恒温装置，根据需要进行样品的恒温测量，被测物料可以加热高达100℃ 5. 储样池上带有液位监控器，可实现全自动的进料、出料和每次测量结束后对整个系统清洗HELOS | QUIXEL高速湿法激光粒度分析仪技术参数◆ 测试范围： 0.1-3500微米 ◆ 数据处理： Fraunhofer或Mie理论 ◆ 测量时间： 约20秒(开始测量到显示分析结果) ◆ 遮光比： 高达50% ◆ 分散池： 250-1000毫升 ◆ 样品循环和分散系统： ◆ 内置超声波：60W, 连续可调 ◆ 离心泵循环：速率可调 ◆ 操作： 软件控制标准操作程序（SOP）

BOS-1076全自动激光粒度分析仪BOS-1076全自动激光粒度分析仪BOS-1076属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际zui先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，证了测试结果的准确性和重复性。BOS-1076激光粒度分析仪主要性能特点：先进的光路设计：BOS-1076采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让BOS-1076拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076具有超强的全量程无缝测试能力。全密封光纤半导体激光器：BOS-1076采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让BOS-1076拥有了超强的测试重复性，（可选氦氖激光器）。全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。超声防干烧功能：经过潜心研发，BOS-1076可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，BOS-1076实现了超声功率0~20毫瓦/0~100毫瓦大小可调。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂光路自动校对：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷zui快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。独特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。主要技术参数：规格型号BOS-1076（高配）执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.1μm -600μm 0.1um-800um探测器通道数7084准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-3950rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量30Kg

筛分设备有很多种类型，根据材料的情况和工艺不同，需选择对应适合的筛分设备，湿法筛分是材料质量检测中常用的一种方法，通过湿法筛分可以获得材料的粒径分布情况，从而判断其适用性和质量。湿法筛分检测的原理是将待测材料加入筛分器中，通过筛网的筛分作用，将材料分成不同粒径的颗粒，然后根据筛分结构计算出粒径分布曲线和相关参数。VIBLETTE湿法筛分析仪是款处理精密湿筛粒度分析仪，主要用于测量细微材料粒度分析，材料低至10微米，非常适合于粘性材料和那些容易堵塞测试筛网得材料。与干筛一样，将样品放在测试筛上并在筛分前称重，水通过样品上方的旋转喷头喷洒，使样品分散。该VIBLETTE提供了一个振动机制，以协助分散的样品凝聚和打破潜在的液体膜上的筛，以实现稳定的筛分。根据材料的不同，常见的样品重量在50g到200g之间，湿循环后，需要对试验筛筛和物料样品进行干燥，以确定预洗后的样品与保留在筛表面的样品的重量之差。采用预先设定的一组可控参数，包括试验筛的筛目、筛分时间、水流速率和振动频率，保证了该颗粒分析方法的重复性和可靠性。VIBLETTE VBL-F湿法筛分仪广泛应用于科研与开发、对原材料、中间产品、最终产品的质量控制以及生产监控的领域。筛分硅微粉颗粒下面VBL-F超声波版是用5微米筛网筛分硅微粉的筛余物和过筛电镜片VIBLETTE特点：操作简单，分析时间短重复性精确测量电磁筛振动消除膜堆积水压高，流量大CE标准，安全保证干粉样进样减少废筛液测量范围为10 ~ 4750µ m使用标准的200毫米或8英寸测试筛网每分钟最多8升液体适用于水或其它洗涤溶液独立的水/溶液流量，喷嘴速度和振动控制 主要应用：氢氧化镁：阻燃剂熟石灰：土壤改良钛白粉：墨水、化妆品炭黑：墨水、轮胎颜料：无机颜料、有机颜料硅微粉：密封剂钛酸钡：多层陶瓷电容器超硬颗粒：磨料介质二氧化锰：电池材料崩解剂：药片辅料

微纳winner2018智能型湿法激光粒度仪产品简介: Winner2018是济南微纳研发的一款新型智能湿法激光粒度仪，仪器采用米氏散射理论，运用微纳独特的无约束自由拟合技术和智能控制技术，光路自动对中，测试速度快，测试数据准确。 产品特点： 无约束自由拟合技术粒度分析不受任何函数限制，真实反映颗粒分布状态。先进的光路设计采用会聚光傅里叶变换光路，克服了透镜孔径对散射角的限制，增强对亚微米颗粒的辨别能力。全内置分散系统采用获得国家发明专利（专利号:ZL.2010 1 0533181.6）的自主研发设计的湿法颗粒循环装置，集搅拌、超声、循环、排水于一体，整体协调性高，防止了测试过程中样品颗粒的二次沉淀。自动测试，一键完成软件智能化，支持一键操作，点击“自动测试”，按提示加入样品后，其他操作步骤自动完成。 产品技术参数： 产品型号Winner2018执行标准GB/T19077-2016；ISO 13320:2009； Q/0100JWN001-2013测试范围0.1-450μm通道数量80准确性误差≤0.5（国家标准样品D50值）重复性误差≤0.5（国家标准样品D50值）激光器参数高性能激光器 λ=639nm 功率P＞2mW分散方法超声频率 f=40KHZ 超声 P=60W 时间可调搅拌转速 0—3000rpm 转速可选循环额定流量 8L/min 额定功率：P=10W样品池容量 350ml 微量样品池 10mL （可选）操作模式软件操作/全自动操作模式测试速度10S—120S产品体积822×365×495mm产品重量40Kg光路对中系统全自动对中系统 应用领域： 主要测量不溶于水或液体介质的固体颗粒、混悬液、乳液、凝胶等，广泛应用于高校、科研院所、化工、冶金、建材、非矿、医药、磨料、新材料、新能源、环境、食品、石化、水利等行业。